伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計(jì)為5°，進(jìn)液管8的形狀設(shè)計(jì)為l型，且進(jìn)液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進(jìn)液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過(guò)伸縮桿12活動(dòng)安裝在噴頭10上方，且噴頭10通過(guò)伸縮管9活動(dòng)安裝在電解池4上方，通過(guò)設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12，能夠在蝕刻液通過(guò)進(jìn)液管8流入到電解池4中時(shí)，啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng)，從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng)，進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護(hù)電解池4的功能；分隔板2右端表面靠近上端固定安裝有增壓泵16，增壓泵16下端與電解池4之間連接有回流管15，增壓泵16上端與進(jìn)液管8之間連接有一號(hào)排液管17，回流管15內(nèi)部左端設(shè)置有一號(hào)電磁閥18，回流管15與進(jìn)水管27的形狀均設(shè)計(jì)為l型，通過(guò)在增壓泵16下端設(shè)置有回流管15，能夠在蝕刻液電解后，啟動(dòng)增壓泵16并打開一號(hào)電磁閥18，將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中，并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中，直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中。性價(jià)比高的蝕刻液哪里可以買到；佛山BOE蝕刻液蝕刻液哪里買

    對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例，基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。實(shí)施例一，請(qǐng)參閱圖1-4，本實(shí)用新型提供技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體1、支撐腿2、電源線3和單片機(jī)4，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2，裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3，裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5，裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī)4，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐14，裝置主體1的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲(chǔ)罐15，磷酸儲(chǔ)罐15的底部固定連接有攪拌倉(cāng)23，攪拌倉(cāng)23的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機(jī)13，攪拌倉(cāng)23的另一側(cè)頂部固定連接有醋酸儲(chǔ)罐16，裝置主體1的頂部中間一側(cè)固定連接有硝酸儲(chǔ)罐17，裝置主體1的頂部中間另一側(cè)固定連接有陰離子表面活性劑儲(chǔ)罐18，陰離子表面活性劑儲(chǔ)罐18的另一側(cè)固定連接有聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲(chǔ)罐19，裝置主體1的頂部另一側(cè)固定連接有氯化鉀儲(chǔ)罐20。成都天馬用的蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨金屬蝕刻網(wǎng)會(huì)用到蝕刻液?jiǎn)幔?/p>

    更推薦滿足。參照?qǐng)D4，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力，由此，即使沒有消耗費(fèi)用和時(shí)間的實(shí)際的實(shí)驗(yàn)過(guò)程，也能夠選擇具有目標(biāo)防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護(hù)對(duì)象膜(氧化物膜)的蝕刻程度(etchingamount，e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來(lái)添加。例如，對(duì)于包含氧化物膜(例如，sio2)和上述氧化物膜上的氮化物膜(例如，sin)的膜在160℃以添加劑濃度1000ppm基準(zhǔn)處理10,000秒的情況下，推薦按照保護(hù)對(duì)象膜的蝕刻程度(etchingamount，e/a)滿足以上以下的范圍的濃度添加。本發(fā)明的添加劑的防蝕能力可以通過(guò)上述添加劑的aeff值與濃度之積來(lái)計(jì)算，由蝕刻程度(etchingamount，e/a)來(lái)表示。蝕刻程度的正的值表示蝕刻工序后厚度增加。

    silane)系偶聯(lián)劑和水，上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外，提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其特征在于，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)異的硅烷系偶聯(lián)劑的效果。此外，本發(fā)明的蝕刻液組合物提供在不損傷氧化物膜的同時(shí)*選擇性蝕刻氮化物膜的效果。附圖說(shuō)明圖1是示出3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分的圖。圖2和圖3是示出制造3dnand閃存時(shí)氮化物膜去除工序(濕法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所發(fā)生的工序不良的圖。圖4是示出能夠?qū)?dnand閃存制造工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留以及氧化物膜損傷不良**少化的、硅烷系偶聯(lián)劑適宜防蝕能力范圍的圖。圖5是示出硅烷系偶聯(lián)劑的aeff值與蝕刻程度。蝕刻液的正確使用方式；

    本發(fā)明涉及一種用來(lái)在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術(shù)：以往，在蝕刻鈦時(shí)一直使用含有氫氟酸或過(guò)氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻(xiàn)1中提出了一種鈦的蝕刻液，該鈦的蝕刻液是用來(lái)在銅或鋁的存在下蝕刻鈦，并且該蝕刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的過(guò)氧化氫、％至5重量％的磷酸、％至％的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。但是，含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題，含有過(guò)氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問題。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特許第4471094號(hào)說(shuō)明書。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明是鑒于所述實(shí)際情況而成，其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法，所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦，而且毒性低，保存穩(wěn)定性優(yōu)異。解決問題的技術(shù)手段本發(fā)明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用，并且含有：選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸；以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。蝕刻液，助您輕松解決復(fù)雜圖案蝕刻難題。合肥京東方用的蝕刻液蝕刻液哪里買

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    所述裝置主體前端表面靠近左上邊角位置設(shè)置有活動(dòng)板，所述分隔板右端放置有蓄水箱，所述蓄水箱上端靠近右側(cè)連接有進(jìn)水管，所述回流管下端連接有抽水管，所述抽水管內(nèi)部上端設(shè)置有三號(hào)電磁閥，所述裝置主體前端表面靠近右側(cè)安裝有控制面板。作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，所述分隔板與承載板相互垂直設(shè)置，所述電解池內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計(jì)為5°。作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，所述進(jìn)液管的形狀設(shè)計(jì)為l型，且進(jìn)液管貫穿分隔板設(shè)置在進(jìn)液漏斗與伸縮管之間。作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，所述圓環(huán)塊通過(guò)伸縮桿活動(dòng)安裝在噴頭上方，且噴頭通過(guò)伸縮管活動(dòng)安裝在電解池上方。作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，所述回流管與進(jìn)水管的形狀均設(shè)計(jì)為l型，所述傾斜板的傾斜角度設(shè)計(jì)為10°。作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，所述活動(dòng)板前端設(shè)置有握把，活動(dòng)板與裝置主體之間設(shè)置有鉸鏈，且活動(dòng)板通過(guò)鉸鏈活動(dòng)安裝在裝置主體前端。作為本發(fā)明的進(jìn)一步方案，所述控制面板的輸出端分別與增壓泵、一號(hào)電磁閥、二號(hào)電磁閥和三號(hào)電磁閥的輸入端呈電性連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：該回收處理裝置通過(guò)在增壓泵下端設(shè)置有回流管，能夠在蝕刻液電解后，啟動(dòng)增壓泵并打開一號(hào)電磁閥。佛山BOE蝕刻液蝕刻液哪里買