中移出并在恒定的溫度下孵育顫抖。如果需要過度保溫，建議冷藏。雖然表面上的污點支架可能看起來部分干燥，印跡不會變干，因為溶液包含在框架中。注意：如果長時間處理多個印跡，則可以堆疊印跡固定框架減少工作空間。可選：如果要回收一抗，請先將抗體回收盤放入底座，然后再繼續(xù)執(zhí)行步驟4。4.延長孵育時間后，將框架放回底座上，卸下蓋子，然后按照步驟8進行操作。通用議定書第12條。注意：SNAP i.d不需要延長二抗的孵育時間。 2.0系統(tǒng)。建議使用5倍濃度的二抗，持續(xù)10分鐘。抗體回收1.執(zhí)行《通用議定書》的步驟1至5，但將真空時間增加到2分鐘，以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架，并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座，確?？贵w上的定上海益啟，采購電阻儀的放心之選。上海MerckSNAPi.d.2.0加速器Merck儀器聯(lián)系人

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用SNAP i.d.o 2.0系統(tǒng) 系統(tǒng)設置 1.將SNAP i.d.9 2.0底座放在水平工作臺上。2.通過推動管道末端的聯(lián)接插件，將真空管道連接至系統(tǒng)背面。插入系統(tǒng)基座背面的快速斷開接頭，直至其滑動。注意：要斷開管路連接，請用食指將管路連接器下方的卡舌向上推，然后將其拉出。管出來。3.將管道的另一端連接到真空源。使用一升的真空燒瓶作為疏水閥和一個Millex-FA。過濾器（目錄號SLFA05010）可保護真空源不受污染，如下所示。注意：任何可以產生410毫巴（12 inHg）和34 L / min的真空源就足夠了。如果是真空如果源的工作溫度高于410毫巴，則SNAP i.d.2.0系統(tǒng)將自動調節(jié)真空度壓力。如果真空源不足，則流經系統(tǒng)的流量可能會不一致，從而導致更長的時間。處理時間和/或抗

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