PVD鍍鈦優(yōu)點：在模具的使用過程中，早期失效經(jīng)常出現(xiàn)。失效的因數(shù)通常是磨損、腐蝕、融合、粘著等。其問題不單是拖延生產(chǎn)周期，也增加了生產(chǎn)成本，進而影響企業(yè)競爭力。為此，業(yè)界陸續(xù)推出不同的解決方案，而鍍鈦表面處理技術(shù)是倍受青睞的方案，能有效的解決上述難題。PVD涂層技術(shù)可以普遍應(yīng)用于各類磨損、咬合、腐蝕、粘著、融合等而引起失效的工具、模具、機械零件、醫(yī)療器械等。其中，因磨損引起的失效的產(chǎn)品（如：沖裁、冷鐓、粉末成型等）涂層后可提高壽命5-8倍以上；因咬合引起產(chǎn)品或模具的拉傷問題（如：引伸模、拉伸模、翻邊模等），涂層后可以從根本上予以解決。真空鍍膜怎么鍍綠色？杭州樹脂真空鍍膜應(yīng)用

PVD（Physical Vapor Deposition）技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，在真空條件下采用物理方法，將某種材料氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術(shù)。用于制備薄膜材料的物質(zhì)被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜是主流的兩種 PVD 鍍膜方式。濺射鍍膜濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。靶坯屬于濺射靶材的主要部分，是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料。靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機臺環(huán)境內(nèi)完成濺射過程。超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。杭州樹脂真空鍍膜應(yīng)用UV平板真空鍍膜工藝流程。

真空鍍膜技術(shù)的特點：1、鍍覆材料廣：可作為真空鍍蒸發(fā)材料有幾十種，包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣，加工出多層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜，滿足對涂層各種不同性能的需求。2、真空鍍膜技術(shù)可以實現(xiàn)不能通過電沉積方法形成鍍層的涂覆：如鋁、鈦、鋯等鍍層，甚至陶瓷和金剛石涂層，這是十分難能可貴的。3、真空鍍膜性能優(yōu)良：真空鍍膜厚度遠小于電鍍層，但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好，孔隙率低，而且無氫脆現(xiàn)象，相對電鍍加工而言可以節(jié)約大量金屬材料。4、環(huán)境效益優(yōu)異：真空鍍膜加工設(shè)備簡單、占地面積小、生產(chǎn)環(huán)境優(yōu)雅潔凈，無污水排放，不會對環(huán)境和操作者造成危害。在注重環(huán)境保護和大力推行清潔生產(chǎn)的形勢下，真空鍍膜技術(shù)在許多方面可以取代電鍍加工。

UV真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化，又稱真空鍍膜（主要是取代污染嚴(yán)重的傳統(tǒng)水電鍍工藝）。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電性能及完美的表面裝飾效果。目前，真空鍍膜的方法有熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝，金屬源有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。真空鍍膜時顏色靠什么控制？

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。真空鍍膜是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、射頻和磁控等新技術(shù)。杭州樹脂真空鍍膜應(yīng)用

真空鍍膜加工產(chǎn)品時為什么會發(fā)生掉膜的現(xiàn)象？杭州樹脂真空鍍膜應(yīng)用

真空鍍膜系統(tǒng)主要構(gòu)成：1.真空室。涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造、氬弧焊接、表面進行化學(xué)拋光處理，真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口。2.真空獲得部分。在真空技術(shù)中，真空獲得部分是重要組成部分。真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達到的，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機械泵、羅茨泵、分子泵系統(tǒng)等。3.真空測量部分。真空系統(tǒng)的真空測量部分，就是要對真空室內(nèi)的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等等。4.電源供給部分。靶電源主要有直流電源、中頻電源、脈沖電源、射頻電源(RF)。5.工藝氣體輸入系統(tǒng)。工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應(yīng)，經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。杭州樹脂真空鍍膜應(yīng)用

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