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玩具真空鍍膜方法

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-07

由于電鍍企業(yè)經(jīng)歷近幾年行業(yè)低迷,經(jīng)濟(jì)蕭條的影響后,使得很多企業(yè)背負(fù)沉重的訂單壓力,成本壓力,資金壓力等等;由于電鍍企業(yè)下游客戶單位效益不景氣,直接影響到電鍍企業(yè)之前業(yè)務(wù)效益;處于非常被動(dòng)的狀態(tài);一邊是生產(chǎn)需要大量的人力,物力,財(cái)力;一邊是貨款收不回來,導(dǎo)致一些生產(chǎn)企業(yè)被迫停產(chǎn),消耗庫(kù)存;縱觀電鍍行業(yè)市場(chǎng)前景由于處于整個(gè)行業(yè)的比較低端,多年來積累了一定的問題,解決并有效的處理好自己的問題才是企業(yè)的生存之根本,很多企業(yè)想開工但是不知道未來的路有多么難走,有些企業(yè)在考慮轉(zhuǎn)型但是又不知道轉(zhuǎn)型后能否成功,更甚至有大部分企業(yè)直接就停產(chǎn)不做了,保持觀望的態(tài)度;開工經(jīng)營(yíng)難,不開工等待難,這就是目前電鍍行業(yè)處于的一種現(xiàn)狀。真空鍍膜掉膜是什么原因?玩具真空鍍膜方法

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù):一:檢查線體,確認(rèn)各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運(yùn)轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時(shí)),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測(cè)。湖北電子真空鍍膜產(chǎn)品真空鍍膜設(shè)備這些知識(shí),你都了解嗎?

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。真空蒸鍍,簡(jiǎn)稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時(shí),工件夾固在真空罩內(nèi),當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后,促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢?這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù),主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能,從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量,延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命,不只如此,還可以節(jié)約能源,獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)際應(yīng)用中,我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。

真空鍍膜的工藝流程是怎么樣的呢,下面潤(rùn)溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下:1、按鍍膜機(jī)操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣,打開電源,預(yù)熱50分鐘,打開離子轟擊的高頻電源開關(guān)預(yù)熱;2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中,在烘箱中加熱到170~180℃,保持30分鐘;3、對(duì)真空室充氣,并升起真空罩,清理真空室,按擋板鍵,移開擋板,在鉬舟中加入所要求的銀絲,并檢查轟擊圈與修正版的位置是否正確,插入已預(yù)熱好的裝有石英片的被銀夾具,迅速降下真空罩,抽低真空和高真空,待真空度達(dá)到≤6.67×10-3Pa。4、按模架旋轉(zhuǎn)按鈕,打開轟擊高頻電源的板壓開關(guān),打開針閥通入干燥干凈的氬氣或空氣,使真空度達(dá)3~5×10-4乇(三針表的黃區(qū))時(shí),調(diào)節(jié)板壓達(dá)600~1000V,按下按鈕進(jìn)行離子轟擊1.5分鐘后,按模架“翻轉(zhuǎn)”按鈕,對(duì)另一面轟擊1.5分鐘,轟擊結(jié)束后,關(guān)閉針閥和轟擊電源的板壓。淺談?wù)婵斟兡どa(chǎn)中常見問題及解決方法。

真空鍍膜機(jī)操作方法。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦開復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。⑧當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。⑨真空鍍膜機(jī)開通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開高壓閥(閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn))。?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí),開規(guī)管燈絲開關(guān)。UV真空鍍膜的基本原理。廣東UV真空鍍膜操作

什么叫UV真空鍍膜?讓潤(rùn)溢為您解答。玩具真空鍍膜方法

真空鍍膜技術(shù)具有以下特點(diǎn):(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個(gè)特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制,從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù),從而防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對(duì)于濕式鍍膜而言是無法實(shí)現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn),鍍膜過程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量,而且在生產(chǎn)過程中對(duì)環(huán)境無污染。(6)由于在真空條件下制膜,所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需再加工,這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。玩具真空鍍膜方法

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