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山東五金真空鍍膜工藝

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-06

真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合, 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機(jī)溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復(fù)塑料缺陷,提供一個(gè)光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能, 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料, 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗, 同時(shí)還存在細(xì)微的針型孔等缺陷, 所以要再涂上一層 5-10um 的保護(hù)面漆。對(duì)面漆的要求是:透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜, 對(duì)金屬鍍膜附著牢固,通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。真空鍍膜設(shè)備作業(yè)時(shí)的應(yīng)急預(yù)案。山東五金真空鍍膜工藝

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù):一:檢查線體,確認(rèn)各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運(yùn)轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無(wú)塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過(guò)4小時(shí)),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測(cè)。廣東省燈飾真空鍍膜系統(tǒng)UV真空鍍膜工藝流程是怎么樣的?

真空鍍膜機(jī)操作方法。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān),設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥,聽(tīng)不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。⑧當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。⑨真空鍍膜機(jī)開(kāi)通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開(kāi)高壓閥(閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn))。?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí),開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。

真空鍍膜主要有兩個(gè)大種類:蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等。一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。厚度均勻性主要取決于:1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率,速率4.真空度5.鍍膜時(shí)間,厚度大小。組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對(duì)于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。從事真空鍍膜,難免會(huì)遇到鍍膜產(chǎn)品膜層脫落的情況。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù),利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝,目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢?這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù),主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能,從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量,延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命,不只如此,還可以節(jié)約能源,獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)際應(yīng)用中,我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來(lái)決定選用哪種真空鍍膜工藝。真空鍍膜機(jī)的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。湖南真空鍍膜材料

真空離子鍍膜的鍍層材料是在真空的環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面,解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問(wèn)題。山東五金真空鍍膜工藝

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比,比較大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng),主要有如下幾點(diǎn):①膜/基結(jié)合力(附著力)強(qiáng),膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能,也提供了合金相形成的條件。而且,較高能量的離子轟擊,還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會(huì)遇到氣體分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且,被電離的膜材離子,還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。因此,這一點(diǎn)蒸發(fā)鍍是無(wú)法達(dá)到的。山東五金真空鍍膜工藝

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