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上海UV真空鍍膜設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-06

塑料真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理汽相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件和維修保養(yǎng)方法。上海UV真空鍍膜設(shè)備

在塑料表面進(jìn)行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下,將金屬融化后,以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合, 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機(jī)溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復(fù)塑料缺陷,提供一個(gè)光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能, 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料, 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗, 同時(shí)還存在細(xì)微的針型孔等缺陷, 所以要再涂上一層 5-10um 的保護(hù)面漆。對面漆的要求是:透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜, 對金屬鍍膜附著牢固,通常可采用丙烯酸酯清漆、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。順德cvd真空鍍膜材料真空鍍膜的物理過程和工藝流程。

UV真空鍍膜的操作規(guī)程:1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí),必須先開水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動(dòng),以防觸電。3.在用電子qiang鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩外面周圍上鋁板。觀察窗的玻璃比較好用鉛玻璃,觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm),耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不僅起到保護(hù)鍍層的作用,還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括:(1)對鍍層有較高的附著力,這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);(2)應(yīng)具有足夠的耐磨性,以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;(3)具有較高的阻隔性,即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性,阻止氧氣等對鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層,保護(hù)鍍層免受腐蝕;(4)面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);(5)對于需要突出光亮度的真空鍍膜場合,面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無需面漆,如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時(shí),其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強(qiáng),因此對制品性能要求不高時(shí),可不必涂裝面漆。UV平板真空鍍膜工藝流程。

與濕式鍍膜技術(shù)相比較,真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn):(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進(jìn)行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液,也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較,具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。什么是真空鍍膜技術(shù)?順德cvd真空鍍膜材料

UV真空鍍膜的基本原理。上海UV真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜時(shí),蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴(kuò)散深度通常只為幾百個(gè)埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個(gè)氣喘吁吁的長跑運(yùn)動(dòng)員,那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客,當(dāng)其高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。上海UV真空鍍膜設(shè)備

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