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珠海硅膠真空鍍膜材料

來源: 發(fā)布時間:2021-10-30

面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm),耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不僅起到保護(hù)鍍層的作用,還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括:(1)對鍍層有較高的附著力,這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);(2)應(yīng)具有足夠的耐磨性,以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;(3)具有較高的阻隔性,即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性,阻止氧氣等對鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層,保護(hù)鍍層免受腐蝕;(4)面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);(5)對于需要突出光亮度的真空鍍膜場合,面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無需面漆,如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時,其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強(qiáng),因此對制品性能要求不高時,可不必涂裝面漆。白電油浸泡清洗是目前ABS塑料UV真空電鍍領(lǐng)域常見的方法。珠海硅膠真空鍍膜材料

真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn):(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。中山市pvd真空鍍膜產(chǎn)品塑料真空鍍膜與UV電鍍噴涂的區(qū)別。

在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,同時還會產(chǎn)生大量的廢液,造成嚴(yán)重的污染。因此,這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù),通常稱為干式鍍膜技術(shù)。

真空鍍膜底漆底涂處于基材和真空鍍層之間,其作用主要有:(1)通過底涂封閉基材,防止真空鍍膜時基材中的揮發(fā)性雜質(zhì)逸出,影響鍍膜質(zhì)量;(2)塑料表面較粗糙,底涂預(yù)處理后,可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;(3)在薄膜材料上預(yù)涂底漆可進(jìn)一步加強(qiáng)薄膜的阻隔性;(4)預(yù)涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層,展現(xiàn)出更高的反射效果和力學(xué)性能;(5)某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差,通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;(6)對某些耐熱性較差的塑料基材,底涂可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)基材免遭熱致形變。UV真空鍍膜工藝流程是怎么樣的?

因?yàn)樵谡婵照翦兺曛筮€要噴一層UV光油面漆,這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色,但比較薄,近看可以,遠(yuǎn)看不明顯,;濺射通過CSi、CO、Si等物質(zhì)進(jìn)行反應(yīng)鍍可鍍出七彩色,或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現(xiàn)多彩。而水電鍍的一般為金屬本色,要呈現(xiàn)其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導(dǎo)電?因?yàn)殄兡た偣灿腥龑?,外層的UV光油經(jīng)UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用,但是一旦這層膜被破壞就導(dǎo)電了。UV真空鍍膜和噴渡有什么區(qū)別?四川五金真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜主要分蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和化學(xué)氣相沉積幾種。珠海硅膠真空鍍膜材料

與濕式鍍膜技術(shù)相比較,真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn):(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進(jìn)行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液,也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較,具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。珠海硅膠真空鍍膜材料

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