隨著工業(yè)的迅速發(fā)展，塑料電鍍的應(yīng)用日益普遍，成為塑料產(chǎn)品中表面裝飾的重要手段之一。目前國(guó)內(nèi)外已普遍在ABS、聚丙烯、聚砜、聚碳酸酯、尼龍、酚醛玻璃纖維增強(qiáng)塑料、聚苯乙烯等塑料表面上進(jìn)行電鍍，其中尤以ABS塑料電鍍應(yīng)用廣，電鍍效果好。塑料電鍍外觀要求比金屬制品的電鍍面更光潔，光亮度一般都能達(dá)到，但在其程度上就有一定的差別。通常認(rèn)為，較好的塑料電鍍外觀是亮中發(fā)“烏黑”，光亮度視覺(jué)感很“厚實(shí)”。這種宏觀感覺(jué)是由表面的微觀狀態(tài)所決定的，也就是說(shuō)微觀表面必須非常平整。塑料電鍍的鍍層不能有霧狀存在，極輕微的霧狀，在強(qiáng)光下或正視時(shí)是發(fā)現(xiàn)不了的，要在特定的角度和光線下才能發(fā)現(xiàn)，因此易被忽視。至于露塑、脫皮、毛刺、麻點(diǎn)和深鍍差等缺陷，在塑料電鍍中是不允許存在的。某些次要考核部位及反面等各部位都要有鍍層包覆，且色澤鮮亮，不能發(fā)黑、露塑及有夾具拉毛印。真空鍍膜的種類(lèi)有哪些？江門(mén)汽車(chē)真空鍍膜方法

真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對(duì)鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過(guò)增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別是其電鍍區(qū)域不導(dǎo)電，從而不影響手機(jī)等通訊公具的收訊效果(如無(wú)雜音，對(duì)人產(chǎn)生影響等。)現(xiàn)在3G產(chǎn)業(yè)中，廣為流傳推廣的表面處理就是NCVM。-湖南大型雕塑真空鍍膜系統(tǒng)一種塑料表面真空鍍膜方法與流程。

真空鍍膜的方法主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，比較大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點(diǎn)：①膜/基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會(huì)遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周?chē)?。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點(diǎn)蒸發(fā)鍍是無(wú)法達(dá)到的。真空鍍膜設(shè)備主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。

真空鍍膜主要有兩個(gè)大種類(lèi)：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。厚度均勻性主要取決于：1?；牧吓c靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率，速率4.真空度5.鍍膜時(shí)間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。真空鍍膜的UV代表什么材料？湖南大型雕塑真空鍍膜系統(tǒng)

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真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法如下：1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。2、打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。3、低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。5、落下鐘罩。6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。7、開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源。1）左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。2）低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。9、真空鍍膜設(shè)備開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。10、低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開(kāi)高壓閥。等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。1）發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。2）左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。江門(mén)汽車(chē)真空鍍膜方法

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