由于光固化體系的固化過程是由光引發(fā)的，因此光固化體系也有如下缺點(diǎn)：固化深 度受限；在有色體系和不透明材質(zhì)中難以應(yīng)用；固化對(duì)象的形狀不能太復(fù)雜。為此又發(fā) 展了將光固化與其它固化方式結(jié)合起來的雙重固化體系。在此體系中，體系的交聯(lián)或聚 合反應(yīng)是通過兩個(gè)的具有不同反應(yīng)原理的階段來完成的。其中一個(gè)階段是通過紫外 光反應(yīng)，另一階段是通過熱固化、濕氣固化、氧化固化或厭氧固化等暗反應(yīng)來進(jìn)行的。 這樣就可以利用紫外光使體系快速定型或達(dá)到“表干”，而利用暗反應(yīng)使“陰影”部分 或內(nèi)層充分固化，達(dá)到“實(shí)干雙重固化擴(kuò)展了紫外光固化膠粘劑在不透明介質(zhì)間、 形狀復(fù)雜的基材超厚膠層及有色膠層中的應(yīng)用。此種體系賦予紫外光固化膠粘劑更強(qiáng)大的競(jìng)爭(zhēng)力。真空離子鍍膜的鍍層材料是在真空的環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題。中山玻璃真空鍍膜材料

在塑料表面進(jìn)行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下，將金屬融化后，以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機(jī)溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復(fù)塑料缺陷，提供一個(gè)光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時(shí)還存在細(xì)微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護(hù)面漆。對(duì)面漆的要求是：透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對(duì)金屬鍍膜附著牢固，通?？刹捎帽┧狨デ迤?、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。廣西陶瓷真空鍍膜技術(shù)UV是一種鍍膜環(huán)保油墨。

真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

PVD技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們?cè)诟?jìng)相開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。CVD技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。真空鍍膜技術(shù)從四十年代開始，發(fā)展很快。

UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡(jiǎn)單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術(shù)。各項(xiàng)指標(biāo)都按照電鍍行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)做了相應(yīng)的檢測(cè)，各種檢測(cè)報(bào)告完全符合國(guó)內(nèi)外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機(jī)技術(shù)噴涂的制品，具有優(yōu)異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國(guó)內(nèi)外大型汽車生產(chǎn)商和大型電器生產(chǎn)商等精密產(chǎn)品的要求，亦可作為其它行業(yè)的表面裝飾和保護(hù)等噴涂。該技術(shù)填補(bǔ)了目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)環(huán)保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質(zhì)輕、性能優(yōu)良，易成型，易加工等特點(diǎn)，應(yīng)用范圍非常廣，是日常生活和國(guó)民經(jīng)濟(jì)各部門不可缺少的材料。真空鍍膜掉膜是什么原因？廣西陶瓷真空鍍膜技術(shù)

PVD真空鍍膜知識(shí)簡(jiǎn)介！中山玻璃真空鍍膜材料

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，比較大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點(diǎn)：①膜/基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會(huì)遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點(diǎn)蒸發(fā)鍍是無法達(dá)到的。中山玻璃真空鍍膜材料

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