真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，主要有如下幾點(diǎn)：①膜/基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會(huì)遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點(diǎn)蒸發(fā)鍍是無(wú)法達(dá)到的。常見的塑料件產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。中山UV真空鍍膜工藝

在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。山東五金真空鍍膜公司關(guān)于真空鍍膜，你了解多少?

獲得了真空并不意味著真空就能保持。事實(shí)上，即使不存在漏氣的燈管，在抽走管內(nèi)氣體之后，燈管的內(nèi)壁、電極等表面上都仍然吸附著大量的氣體：他們?cè)谝欢ǖ臈l件下會(huì)釋放出來(lái)，使燈管內(nèi)的真空度變底，所以在霓虹燈的制造過(guò)程中，還必須采用有關(guān)的真空技術(shù)把這些吸附氣體除去，確保玻璃管內(nèi)壁及燈管內(nèi)器件不會(huì)在使用過(guò)程中放氣，影響燈管的穩(wěn)定工作及使用壽命。所以，在霓虹燈制造中，真空技術(shù)是重要的。燈管內(nèi)真空的破壞可以由于抽氣不徹底造成，或者由于溫度升高導(dǎo)致本材料放氣，電子、離子轟擊使材料和電極放氣造成，或者也可由管子的慢性漏氣所造成。要得到質(zhì)量穩(wěn)定、實(shí)用的霓虹燈，必須在原材料的選擇、零部件的加工、處理、電極的裝配以及的排氣、封離等每一步驟中都考慮到真空技術(shù)的特殊要求。

由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應(yīng)當(dāng)滿足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個(gè)方面：（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應(yīng)具備的Z基本性能;（2）應(yīng)具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關(guān)鍵;（3）不應(yīng)含有揮發(fā)性小分子，主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質(zhì)和高沸點(diǎn)溶劑等，其在真空升溫環(huán)境下會(huì)逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質(zhì)量和性能;（4）應(yīng)具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應(yīng)，抗熱形變和熱分解性能應(yīng)滿足真空鍍膜工藝的要求;（5）對(duì)于柔性基材，底涂應(yīng)具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開裂，甚至崩脫真空鍍膜的工藝流程是什么？

真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。離子鍍膜真空離子鍍膜，它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的，因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過(guò)程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。真空卷繞鍍膜真空卷繞鍍膜是一種利用物相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。目前，國(guó)內(nèi)從事真空鍍膜涂料制造的企業(yè)有上百家。廣東工藝品真空鍍膜廠

真空鍍膜基本問(wèn)題解決方法。中山UV真空鍍膜工藝

真空鍍膜有幾種方式？潤(rùn)溢真空鍍膜給大家解答。1：真空蒸發(fā)鍍膜在真空室中加熱蒸發(fā)容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍產(chǎn)品表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。2：離子鍍膜蒸發(fā)源的加熱和蒸發(fā)鍍膜相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài)，使金屬離子在產(chǎn)品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時(shí)離子結(jié)晶性佳、膜層的密著性高等3：磁控濺射鍍膜給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產(chǎn)品表面形成金屬膜層的方法。 中山UV真空鍍膜工藝

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