在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。淺談?wù)婵斟兡ぜ夹g(shù)的優(yōu)點?；葜蓦娮诱婵斟兡さ灼?/p>

真空鍍膜的方法其實很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。深圳電子真空鍍膜面漆PVD真空鍍膜的工藝流程。

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支，它已普遍地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話，這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分。在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色的片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜，都很需要。

獲得了真空并不意味著真空就能保持。事實上，即使不存在漏氣的燈管，在抽走管內(nèi)氣體之后，燈管的內(nèi)壁、電極等表面上都仍然吸附著大量的氣體：他們在一定的條件下會釋放出來，使燈管內(nèi)的真空度變底，所以在霓虹燈的制造過程中，還必須采用有關(guān)的真空技術(shù)把這些吸附氣體除去，確保玻璃管內(nèi)壁及燈管內(nèi)器件不會在使用過程中放氣，影響燈管的穩(wěn)定工作及使用壽命。所以，在霓虹燈制造中，真空技術(shù)是重要的。燈管內(nèi)真空的破壞可以由于抽氣不徹底造成，或者由于溫度升高導(dǎo)致本材料放氣，電子、離子轟擊使材料和電極放氣造成，或者也可由管子的慢性漏氣所造成。要得到質(zhì)量穩(wěn)定、實用的霓虹燈，必須在原材料的選擇、零部件的加工、處理、電極的裝配以及的排氣、封離等每一步驟中都考慮到真空技術(shù)的特殊要求。真空離子鍍膜的鍍層材料是在真空的環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題。

真空鍍膜機詳細鍍膜方法如下：1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。2、打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。5、落下鐘罩。6、啟動真空鍍膜設(shè)備抽真空機械泵。7、開復(fù)合真空計電源。1）左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。2）低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。9、真空鍍膜設(shè)備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。10、低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時，開規(guī)管燈絲開關(guān)。1）發(fā)射、零點測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。2）左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。真空鍍膜,以其高硬度、低磨損率、低磨擦系數(shù)、強抗腐蝕性、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能應(yīng)用于模具工業(yè)中。深圳電子真空鍍膜面漆

PVD鍍膜主要分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜?；葜蓦娮诱婵斟兡さ灼?/p>

真空電鍍主要部件有哪些功能？現(xiàn)在真空電鍍設(shè)備是做的越來越好，從一開始功能較單一的真空電鍍到如今的多功能結(jié)合的真空電鍍，其中經(jīng)歷了較長時間。真空電鍍設(shè)備的真空室能用不銹鋼或者碳鋼組合使用制作，真空電鍍設(shè)備做成單開門或者又開門。真空電鍍設(shè)備能通過利用電阻加熱，若電阻要加熱，真空電鍍設(shè)備所使用的材料包括石墨、鎢、鉭、鉬、鎳鉻等，真空電鍍設(shè)備加熱后要進行保溫，真空電鍍設(shè)備設(shè)置了保溫層就可以提高加熱的效率，以免真空電鍍設(shè)備的熱量快速散失，一般有金屬保溫層和復(fù)合保溫層兩種形式。真空電鍍設(shè)備為更好的進行測試、測定室內(nèi)溫度，真空電鍍設(shè)備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達標真空電鍍設(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用?；葜蓦娮诱婵斟兡さ灼?/p>

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