【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級)，濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術 濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。 射頻：13.56MHZ，非導體用。 脈沖：泛用，*新發(fā)展出 國產(chǎn)真空鍍膜機廠商推薦。河南真空鍍膜機配件

【真空鍍膜技術專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗基片testing substrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。 鍍膜材料coating material：用來制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material：在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material：組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate：在給定時間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔 濺射速率sputtering rate：在給定時間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時間間隔。 沉積速率deposition rate：在給定時間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。 河南真空鍍膜機配件真空鍍膜機的工作原理。

【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學過程，其中浸沒在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子，并由于電流的通過而從表面移除，從而達到工件表面除去細微毛刺和光亮度增da的效果。 適用材料： 多數(shù)金屬都可以被電解拋光，其中*常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于奧氏體核級不銹鋼）。 2.不同材料不可同時進行電解拋光，甚至不可以放在同一個電解溶劑里。 工藝成本：電解拋光整個過程基本由自動化完成，所以人工費用很低。環(huán)境影響：電解拋光采用危害較小的化學物質(zhì)，整個過程需要少量的水且操作簡單，另外可以延長不銹鋼的屬性，起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。

【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因？】 (1) 真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因為塑料產(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。 （3）也許是真空機組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。 （4）真空室有漏水。 （5）抽空管道有漏氣。 離子真空鍍膜機是什么？

【真空鍍膜設備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度：10~30℃ 2、相對濕度：不da于70% 3、冷卻水進水溫度：不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz； 6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。 7、設備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。 此外，真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。 真空鍍膜機真空度多少？河南真空鍍膜機配件

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【真空鍍膜機真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】 靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是*簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因為它不需要用額外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單，但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來進行了。 靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應的壓力范圍，再關閉閥門，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計測量記錄真空容器中壓力隨時間的變化過程，即可得出泄漏數(shù)據(jù)?！墩婵障到y(tǒng)抽氣達不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態(tài)升壓法實現(xiàn)的，比較方便。當然在應用過程中，要提高準確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測之前對容器進行凈化清洗并烘干，或者用氮氣進行沖洗。更嚴格一點可以在測量規(guī)管與容器之間設置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對可能存在的漏孔所漏進的空氣不會造成影響。 河南真空鍍膜機配件

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