【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】:帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片:選定特定波段的光通過,通帶以外的光截止。其光學(xué)指標主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),中心波長透過率(Tp),截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶,通常按帶寬比中心波長的值來區(qū)分,小于2%來定為窄帶,大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片,寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片,IR-CUT-650。 長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止 比如紅外透過濾光片,LWP-700。 PVD光學(xué)鍍膜機的公司。北京二手進口光學(xué)鍍膜機
【光學(xué)鍍膜之抗污膜】抗污膜(頂膜) 鏡片表面鍍有多層減反射膜后,鏡片特別容易產(chǎn)生污漬,而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下,我們可以發(fā)現(xiàn)減反射膜層呈孔狀結(jié)構(gòu),所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜,而且這層膜必須非常薄,以使其不會改變減反射膜的光學(xué)性能。 當減反射膜層完成后,可使用蒸發(fā)工藝將氟化物鍍于反射膜上。抗污膜可將多孔的減反射膜層覆蓋起來,并且能夠?qū)⑺陀团c鏡片的接觸面積減少,使油和水滴不易粘附于鏡片表面,因此也稱為防水膜。 對于有機鏡片而言,理想的表面系統(tǒng)處理應(yīng)該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和頂膜抗污膜的復(fù)合膜。通??鼓p膜鍍層*厚,約為3-5mm,多層減反射膜的厚度約為0.3um,頂層抗污臘鍍*薄,約為0.005-0.01mm。 福建2050光學(xué)鍍膜機光學(xué)鍍膜機詳細鍍膜方法。
【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個振幅相同,波長相同的光波疊加,那么光波的振幅增強;如果二個光波原由相同,波程相差,如果這二個光波疊加,那么互相抵消了。 1)振幅條件:膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2)位相條件:膜層厚度應(yīng)為基準光的1/4波長。d=λ/4 λ=555nm時,d=555/4=139nm 對于減反射膜層,許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波(波長為555nm)。當鍍膜的厚度過?。ā?39nm),反射光會顯出淺棕黃色,如果呈藍色則表示鍍膜的厚度過厚( 〉139nm)。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射,但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會有殘留的顏色,我們也會發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同,因此在鏡片中yang部分呈綠色,而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3)鍍減反射膜技術(shù) :有機鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫,而有機鏡片在超過100 °C時便會發(fā)黃,隨后很快分解。
【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體,供給基板,利用氣相反應(yīng),在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù),該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。 在線CVD法鍍膜技術(shù),是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中,連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù),是目前世界上比較先進的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之,薄膜沉積前,玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進人退火窯,且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜,而我國*早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前,我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù),能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產(chǎn)線包括:原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。 光學(xué)鍍膜機常見故障及解決方法。
【濺射鍍膜的特點】濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺鍍具有電鍍層與基材的結(jié)合力強,電鍍層致密,均勻等優(yōu)點。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜,靶材的壽命長,可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設(shè)計做更好的控制及*有效率的生產(chǎn) 濺鍍利用高壓電場做發(fā)生等離子鍍膜物質(zhì),使用幾乎所有高熔點金屬,合金和金屬氧化物,如:鉻,鉬,鎢,鈦,銀,金等.但加工成本相對較高。磁控濺射光學(xué)鍍膜機是什么?貴州臥式光學(xué)鍍膜機
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【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法,其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中,水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式,以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點主要有:①對靶材的面積和形狀不作要求,且可實現(xiàn)大面積鍍膜,且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復(fù)性好;②可用的膜材廣fan,只要能做成靶材的任何材料都可實現(xiàn)濺射,因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜,包括合金和化合物等;③薄膜與基片的附著力強,膜層純度高、致密;④成膜速度快,生產(chǎn)效率高。 北京二手進口光學(xué)鍍膜機
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