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重慶光馳光學(xué)鍍膜機

來源: 發(fā)布時間:2021-11-27

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】 1)鍍膜前準(zhǔn)備:鏡片在接受鍍膜前必須進行分子級的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液,并采用超聲波加強清洗效果,當(dāng)鏡片清洗完后,放進真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi),在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進行的,放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面(例如用氬離子),完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。 2)真空鍍膜:真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面,同時在蒸發(fā)過程中,對鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制,精度達到。 3)膜層牢固性:對眼鏡片而言,膜層的牢固性是至關(guān)重要的,是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對性的物理化學(xué)測試方法,在模擬戴鏡者的使用條件下,對鍍膜鏡片進行膜層牢度質(zhì)量的測試。這些測試方法包括:鹽水試驗、蒸汽試驗、去離子水試驗、鋼絲絨磨擦試驗、溶解試驗、黏著試驗、溫差試驗和潮濕度試驗等等。 離子光學(xué)鍍膜機是什么?重慶光馳光學(xué)鍍膜機

【光學(xué)真空鍍膜機之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統(tǒng)的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動能轉(zhuǎn)為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉(zhuǎn)換效率,同時也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數(shù)目也可精密調(diào)控其蒸發(fā)速率。電子束的來源主要由電子qiang系統(tǒng)提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動能達到30kev 以上。當(dāng)陰極燈絲被施以低壓電流而達到白熱化時,電子將從燈絲表面釋出而向四方發(fā)射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場,而高功率電子qiang則需使用電磁鐵。電子束加速后可直接撞擊在薄膜材料上使之蒸發(fā),但蒸發(fā)之原子或分子會污染電子源,因此通常將電子源藏在裝薄膜材料之qiang座底下,而利用強力磁場將電子束偏向180°或270°。因電子qiang蒸鍍法,對某些精密光學(xué)元件的薄膜品質(zhì)要求而言仍有不足,其膜層微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)柱狀形態(tài),孔隙多,裝填密度低,造成較大的光學(xué)吸收,且耐潮性、硬度及附著度都較差。 黑龍江二手進口光學(xué)鍍膜機光學(xué)鍍膜機的操作培訓(xùn)。

【光學(xué)鍍膜工藝】   光學(xué)鍍膜所涉及的制造工藝是勞動和資本密集型的,并且十分耗時。影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學(xué)件的數(shù)量,類型,尺寸,需要鍍多少層膜以及光學(xué)件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外,在這之前還需要做大量的準(zhǔn)備工作,以確保每個鍍膜光學(xué)件的質(zhì)量都能達到Z高水平。   在鍍膜之前,清潔和準(zhǔn)備光學(xué)件是非常重要的。光學(xué)元件必須具有適合鍍膜粘附的清潔表面。一旦鍍上膜,基片上未預(yù)先除去的污漬就很難被去除了。愛特蒙特光學(xué)?會進行一絲不茍的清潔,從而確保Z終產(chǎn)品擁有始終如一的高質(zhì)量。   不同的鍍膜沉積技術(shù),具有各自的優(yōu)缺點。蒂姆(北京)新材料科技有限公司可以提供采用不同的鍍膜沉積技術(shù)鍍膜用的濺射靶材、蒸發(fā)鍍膜材料。請聯(lián)系我們,告訴我們哪種鍍膜材料Z適合您的應(yīng)用。

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實際應(yīng)用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測量得出只有85%了,那就可以把這個濾光片的光學(xué)透過率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡單說就是*高透過率的1/2處所對應(yīng)的波長,左右波長值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對應(yīng)的左右波長是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對應(yīng)的透過率.由于要想透過率達到零,那是非常難的事情,只能選擇它透過率接近于零,但通常透過率達到10的負5次方以上就可以滿足大部分使用要求,通常轉(zhuǎn)換為光學(xué)密度值,用OD>5表示。 截止波段: 可接受的不需要的波長*小區(qū)間范圍,由于多數(shù)電子成像用的感光器件的響應(yīng)范圍是350-950nm,在實際中確定范圍稍稍比這個區(qū)間寬一點即可。紫外及紅外的截止范圍確定比這個要繁雜一些,需要根據(jù)使用的探頭響應(yīng)范圍來確定。 光學(xué)鍍膜機真空度多少?

【光學(xué)鍍膜之抗污膜】抗污膜(頂膜) 鏡片表面鍍有多層減反射膜后,鏡片特別容易產(chǎn)生污漬,而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下,我們可以發(fā)現(xiàn)減反射膜層呈孔狀結(jié)構(gòu),所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜,而且這層膜必須非常薄,以使其不會改變減反射膜的光學(xué)性能。 當(dāng)減反射膜層完成后,可使用蒸發(fā)工藝將氟化物鍍于反射膜上??刮勰た蓪⒍嗫椎臏p反射膜層覆蓋起來,并且能夠?qū)⑺陀团c鏡片的接觸面積減少,使油和水滴不易粘附于鏡片表面,因此也稱為防水膜。 對于有機鏡片而言,理想的表面系統(tǒng)處理應(yīng)該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和頂膜抗污膜的復(fù)合膜。通常抗磨損膜鍍層*厚,約為3-5mm,多層減反射膜的厚度約為0.3um,頂層抗污臘鍍*薄,約為0.005-0.01mm。 光學(xué)鍍膜機詳細鍍膜方法。河南多層光學(xué)鍍膜機技術(shù)參數(shù)列表

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【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】:帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片:選定特定波段的光通過,通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL),半帶寬(FWHM),中心波長透過率(Tp),截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶,通常按帶寬比中心波長的值來區(qū)分,小于2%來定為窄帶,大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片,寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通):短于選定波長的光通過,長于該波長的光截止。 比如紅外截止濾光片,IR-CUT-650。 長波通型(又叫高波通):長于選定波長的光通過,短于該波長的光截止 比如紅外透過濾光片,LWP-700。 重慶光馳光學(xué)鍍膜機

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