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廣西真空鍍膜機報價

來源: 發(fā)布時間:2021-10-26

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時對它們進行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染),通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應氣體工藝,可以進行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染.其清洗機理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應速率的da小通過調(diào)整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數(shù)要通過實驗來確定.對于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào)?廣西真空鍍膜機報價

【真空鍍膜技術專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate:膜層承受體。 試驗基片testing substrate:在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測量和(或)試驗的基片。 鍍膜材料coating material:用來制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material:在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material:有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material:組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate:在給定時間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔 濺射速率sputtering rate:在給定時間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時間間隔。 沉積速率deposition rate:在給定時間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle:入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。 廣西真空鍍膜機報價真空鍍膜機怎么保養(yǎng)?

【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區(qū),*后到達陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊,開轟擊30秒,關轟擊→開真空計→當真空到6.0~7.0pa時,關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥,當真空達到7x10-3pa,開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后,關閉真空計、離子源→關精抽閥,前置閥→關羅茨泵→開抽氣閥,取件→上料,反復開始操作。 特別注意: 1.設備停用時,鍍膜室要保持真空狀態(tài),減少內(nèi)表面氣體的吸附,防止氧化。 2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱,未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸,防止氧化。 3.要保證機器內(nèi)擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。 4.設備運行中遇有停電或其它事故發(fā)生,須先停擴散泵,關精抽閥,前置閥和真空計。 5.產(chǎn)品做完下班后,關了擴散泵后須待溫度降低至60℃后才能關維持泵。 真空鍍膜機的工作原理和構(gòu)成。

【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆:UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚; 膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導電,NCVM鍍層不導電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。 面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。 光學真空鍍膜機制造商。江蘇二手光學真空鍍膜機

真空鍍膜機大概多少錢一臺?廣西真空鍍膜機報價

【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因?】 (1) 真空室有漏氣現(xiàn)象:da家都知道,真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的,若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置,則真空鍍很長時間都不能抽得上來的;(2)即使真空室沒有漏氣,因為塑料產(chǎn)品的放氣量da,所以抽真空,特別是高真空很難達到。真空室內(nèi)太臟放氣,而且由于塑料產(chǎn)品的放氣,造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純,有雜氣的存在,造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗,發(fā)黃,發(fā)黑等。 (3)也許是真空機組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了。 (4)真空室有漏水。 (5)抽空管道有漏氣。 廣西真空鍍膜機報價

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