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云南離子束輔助沉積射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

來源: 發(fā)布時間:2023-12-27

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計原則及常用技術(shù)指標(biāo)】真空設(shè)備設(shè)計原則:(1)先功能,后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能;(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整體。再由整體,定局部。(4)先設(shè)計,后校核。由粗到細(xì)。鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo):鍍膜方法:CVD,PVD(蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍);被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復(fù)真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;高電壓。真空鍍膜機(jī)該如何維修。云南離子束輔助沉積射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生,在10-1—10Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點材料也容易濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2。云南光學(xué)薄膜射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)廠家qian十。

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之氮氣沖洗】氮氣在材料表面吸附時,由于吸附能小,因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng),可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時間。如真空鍍膜機(jī)在放入da氣之前,先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da氣,則下一抽氣循環(huán)的抽氣時間可縮短近一半,其原因為氮分予的吸附能遠(yuǎn)比水氣分子小,在真空下充入氮氣后,氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的,先被氮分子占滿了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽氣時間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了,還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱,一邊用氮氣沖洗系統(tǒng),可將油污染消除。

【真空鍍膜機(jī)檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣),充氣壓力的高低視零部件的強(qiáng)度而定,一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲,音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔,則用皂液涂于零部件可疑表面處,有氣泡出現(xiàn)處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外,還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中,氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔,方便可靠,并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續(xù)時間長,則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續(xù)時間短,則為13~103帕·升/秒漏率的漏孔。真空鍍膜機(jī)的操作視頻。

【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理。系統(tǒng)原理通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動化控制器:e-ControlPLC,是控制系統(tǒng)的硬件平臺。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級15寸觸摸式平板電腦,穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺,提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。黑龍江離子束清洗射頻離子源批發(fā)價格

射頻離子源采用高頻電場來加速和離子化氣體分子,產(chǎn)生高能離子束。云南離子束輔助沉積射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理:是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是,機(jī)械打磨,化學(xué)處理,表面熱處理,噴涂表面,表面處理就是對工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有:真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。云南離子束輔助沉積射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)