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云南真空鍍膜設(shè)備裝置

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-19

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對(duì)策: 1. 對(duì)減反膜,設(shè)計(jì)條件許可時(shí),外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個(gè)人衛(wèi)生改善 9. 檢討真空室返油狀況,防止返油。 10. 適當(dāng)降低基片溫度。 11. 改善膜系,取消太薄的膜層,根據(jù)硝材特性,選擇合適的膜層材料。關(guān)于真空鍍膜設(shè)備,你知道多少?云南真空鍍膜設(shè)備裝置

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】:真空泵:真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講,真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理,真空泵基本上可以分為兩種類型,即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵(RoughVacuumPump):一般用于抽粗真空,有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種:旋轉(zhuǎn)葉片泵:油泵,極限真空可達(dá)10&3Torr,抽速1~650CFM隔膜泵:干泵,極限真空1Torr左右,抽速<10CFM往復(fù)式活塞泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速6~32CFM渦旋式真空泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速12~25CFM螺旋泵:干泵,極限真空10&3Torr,抽速30~318CFM河北真空鍍膜設(shè)備維修真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之其他情況】:分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況:對(duì)于用錯(cuò)程序,錯(cuò)誤操作(預(yù)熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補(bǔ)救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補(bǔ)救的情況處理方案:模擬:將實(shí)測分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過計(jì)算機(jī)模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)),找到與實(shí)現(xiàn)測試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。

真空鍍膜設(shè)備具有下列優(yōu)點(diǎn):沉積效率高、電離率高、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)能力大,且鍍膜具有耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好和不易褪色等特點(diǎn)。行業(yè):五金行業(yè)、衛(wèi)浴行業(yè)、裝飾行業(yè)、家用電器行業(yè)等。適用產(chǎn)品:水龍頭、樓梯扶手、家用電器、LOGO標(biāo)牌、不銹鋼展架、不銹鋼材及板材等。涂層效果:鈦、玫瑰金、香檳金、日本金、銀、七彩、藍(lán)寶石、玫瑰紅、黑色等。本系列設(shè)備安全、生態(tài)環(huán)境保護(hù)、工藝穩(wěn)定、漆膜色澤豐富、色澤均勻、耐磨、耐腐蝕、耐高溫、附著力好、不易褪色。真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)?

【真空鍍膜真空濺射法】:真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展,濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為:稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下,對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊,把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來,被濺射出來的粒子帶有一定的動(dòng)能,沿一定的方法射向基體表面,在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為:鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng);鍍膜層致密、均勻;設(shè)備簡單,操作方便,容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。真空鍍膜設(shè)備真空度多少?云南真空鍍膜設(shè)備有用嗎

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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等也會(huì)造成膜色差異問題。 改善對(duì)策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái) 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。 云南真空鍍膜設(shè)備裝置