【真空鍍膜設備之真空的測量】： 真空計： A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對流規(guī)： 用來測粗真空的真空計，從大氣到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應較慢，受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī)： 用來測高真空或超高真空的真空計，熱燈絲的離子規(guī)測量范圍一般從1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，燈絲在工作時遇到大氣會燒毀；冷陰極的離子規(guī)一般可以測到1E&11Torr，精度在20%~50%，特別是超高真空下測量精度很差，需要高壓電源，探頭內(nèi)有磁鐵，使用時不能用于某些無磁的場合。 C、電容式壓力計： 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr，動態(tài)范圍大約104范圍，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在讀數(shù)的0.25%，可以高到0.15%。 D、寬量程真空計： 皮拉尼規(guī)和熱燈絲離子規(guī)的組合，兩個規(guī)可以自動切換，在低真空時切換到皮拉尼規(guī)，高真空時可切換到離子規(guī)。真空鍍膜設備認準成都國泰真空設備有限公司。山東真空鍍膜設備加工

【磁控濺射光學鍍膜設備及鍍膜方法】設備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉鼓，真空鍍膜室為立式圓筒形結構，立式旋轉鼓位于真空鍍膜室內(nèi)，繞垂直軸線旋轉，立式旋轉鼓中心設置有旋轉密封箱，旋轉密封箱內(nèi)設置有膜厚測量儀表，旋轉密封箱的上部連接有旋轉軸，旋轉密封箱內(nèi)的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設置在立式旋轉鼓wai圍的真空鍍膜室的側壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設備的立式旋轉鼓的側面，對鍍膜設備抽真空；轉動立式旋轉鼓達到設定的轉速；啟動射頻離子源；交替啟動第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶，按工藝要求鍍制膜層。天津真空鍍膜設備裝置真空鍍膜設備抽真空步驟。

【濺射的四要素】：①靶材物質，②電磁場，③底物，④一整套完整配備的鍍膜設備【濺射收益】：1)離子每一次撞擊靶材時，靶材所釋放出的靶材原子；2)影響濺射收益的因素：①等離子體中離子動能,②入射離子的入射角度;3)Zui大濺射收益的決定因素：①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質;4)入射角度的影響因素①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。【濺射率】：定義：每單位時間內(nèi)靶材物質所釋放出的原子個數(shù)。濺射率的影響因素：①離子動能（取決于電源電壓和氣體壓力）②等離子密度（取決于氣體壓力和電流）。統(tǒng)計學公式：Rs(統(tǒng)計學)=d/t。注：濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間，因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜，久之會產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進行定期清潔。

【為什么要在真空中鍍膜】： 1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達待鍍件表面 2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時可以防止氧化 3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固 4.真空（負壓）狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點教常壓下低,易于融化蒸發(fā)（對于蒸發(fā)類型的鍍膜） 真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術經(jīng)濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為Zui具發(fā)展前途的重要技術之一，并已在高技術產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經(jīng)濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環(huán)保、Jun事等領域。 真空鍍膜設備品牌排行。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之單片膜色不均勻】： 原因：主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈（碟片）邊緣部遮擋、鏡圈（碟片）臟在蒸鍍時污染鏡片等也會造成膜色差異問題。 改善對策：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可，用行星夾具 2. 選用傘片平坦（R大）的機臺 3. 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈（碟片），防止遮擋。 6. 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈（碟片） 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。 真空鍍膜設備故障解決方法？遼寧派瑞林真空鍍膜設備

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【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜色差異】：膜色差異有兩種（不含色斑），一種時整罩上、中、下膜色不一致，即分光測試曲線有差異；二是單片膜色不一致。改善對策：1.調(diào)整修正版，盡量考慮高低折射率膜料的平衡兼容，如果有兩個蒸發(fā)源，可能的條件下，獨li使用各自的修正板，避免干擾。2.條件許可，采用行星夾具。3.傘片整形。4.加強傘片管理。5.改善膜料狀況6.能夠自動預熔的膜料，盡量自動預熔注：修正板對物理膜厚的修正有效，但對折射率的修正是力不從心的，所以完全靠修正板解決分光均勻性，是很困難的。如果一個修正板對應二把電子搶（蒸發(fā)源）、以及多種膜料，就會有較大困難。山東真空鍍膜設備加工