深圳市神州天柱科技有限公司2024-11-14

等離子清洗設(shè)備可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中。半導(dǎo)體制造涉及多個(gè)步驟，其中之一是可以清潔半導(dǎo)體設(shè)備表面，去除沉積物、有機(jī)物、灰塵等污染物，確保設(shè)備的質(zhì)量和性能。 等離子清洗設(shè)備可以利用等離子體產(chǎn)生的活性離子和化學(xué)反應(yīng)，可以在非常小的尺度上進(jìn)行清洗。以下是等離子清洗設(shè)備在半導(dǎo)體制造中的主要應(yīng)用：1.等離子處理機(jī)可以去除光刻膠殘留物：在半導(dǎo)體制造的光刻過程中，用于定義設(shè)備的圖案。光刻完成后，等離子清洗機(jī)可以快速徹底地去除光刻膠殘留物，以確保圖案的準(zhǔn)確性和設(shè)備的可靠性。 2.清洗腐蝕殘留物：在腐蝕過程中，會(huì)產(chǎn)生氣體和固體腐蝕產(chǎn)物。這些殘留物可能會(huì)在設(shè)備表面積累，影響設(shè)備的性能。等離子清洗機(jī)能有效去除腐蝕殘留物，保證設(shè)備的可靠性和一致性。

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