下面為大家介紹一下全自動(dòng)HMDS真空烤箱的技術(shù)指標(biāo)。1.HMDS管路加熱功能,使HMDS液體進(jìn)入箱體的前端管路加熱,使轉(zhuǎn)為HMDS氣態(tài)時(shí)更易。2.低液報(bào)警裝置,采用紅外液體感測(cè)器,能及時(shí)靈敏給出指令(當(dāng)HMDS液過低時(shí)發(fā)出報(bào)警及及時(shí)切斷工作起動(dòng)功能)3.溫度與PLC聯(lián)動(dòng)保護(hù)功能(當(dāng)PLC沒有啟動(dòng)程序時(shí),加溫功能啟動(dòng)不了,相反加溫功能啟動(dòng)時(shí),PLC程序不按正常走時(shí)也及時(shí)切斷工作功能,發(fā)出警報(bào))4.整個(gè)箱體及HMDS氣體管路采用SUS316不銹鋼材料,整體使用無縫焊接(避免拼接導(dǎo)致HMDS液體腐蝕外泄對(duì)人體的傷害)試驗(yàn)箱的作用是什么?合肥真萍告訴您。小型試驗(yàn)箱規(guī)格尺寸
隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運(yùn)動(dòng)器材、汽車零配件、電機(jī)、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預(yù)熱回火、退火、老化等用途。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的技術(shù)參數(shù)。 1.送風(fēng)方式:強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)。 2.溫度范圍:RT+10℃~300℃。 3.溫度精度:±1℃ 4.溫度均勻性:±1℃ 5.溫控裝置:富士智能PID溫控儀,LED數(shù)字顯示,PID自動(dòng)演算及定時(shí)。 6.材質(zhì):內(nèi)膽不銹鋼,外箱體鋼板靜電噴塑。 7.傳送方式:鏈桿、鏈網(wǎng)、自動(dòng)錕輪,相當(dāng)強(qiáng)承重。 8.特制復(fù)合式電加熱器。 9.保護(hù)裝置:漏電保護(hù)、斷路保護(hù)、電機(jī)過載保護(hù)、接地保護(hù)、非正常運(yùn)行情況下蜂鳴報(bào)警。泉州高低溫恒定濕熱試驗(yàn)箱試驗(yàn)箱常見的用途有哪些?合肥真萍告訴您。
使用高溫鐘罩爐有特定的操作方法,需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行,下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項(xiàng)。在使用高溫鐘罩爐時(shí),其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行。留意不要超過安全溫度,避免焚毀電熱絲。將物料放入爐膛時(shí),切勿碰及熱電偶,因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷。將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時(shí),有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中,或墊以耐火泥板或石棉板,避免與爐膛粘連在一起。不要讓高溫鐘罩爐受潮,以防漏電。
電熱鼓風(fēng)烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機(jī)械、食品、化工、化學(xué)品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風(fēng)烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.本烘箱由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風(fēng)系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進(jìn)設(shè)備制作、業(yè)內(nèi)的制造工藝流程、線條流暢、美觀大方。3.工作室材質(zhì)為不銹鋼、外箱材質(zhì)為質(zhì)量冷軋鋼板,產(chǎn)品外殼使用環(huán)保金屬漆噴制,整體設(shè)計(jì)美觀大方,適合實(shí)驗(yàn)室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)的擱架不可調(diào)節(jié)。試驗(yàn)箱的基本結(jié)構(gòu)級(jí)應(yīng)用。
無氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化,模壓固烤、IC(晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別)、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無塵烘干,電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下無氧干燥箱。 1.技術(shù)指標(biāo)與基本配置: 1.1使用溫度:RT~260℃,極限溫度:300℃; 1.2爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置; 1.3爐膛材料:SUS304鏡面不銹鋼;加熱元件:不銹鋼加熱器;熱偶:K分度 1.4溫度和氧含量記錄:無紙記錄儀; 2.氧含量(配氧分析儀): 2.1高溫狀態(tài)氧含量:≤ 10ppm +氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量:≤ 20ppm +氣源氧含量 2.2控溫穩(wěn)定度:±1℃; 2.3溫度均勻度:±2%℃(260℃平臺(tái));試驗(yàn)箱使用時(shí)要考慮什么問題?高低溫恒定濕熱試驗(yàn)箱的價(jià)格和照片
合肥真萍與您分享試驗(yàn)箱對(duì)如今市場(chǎng)的影響。小型試驗(yàn)箱規(guī)格尺寸
下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設(shè)計(jì)。 一、產(chǎn)品介紹 真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達(dá)到有效清潔處理,提高制品質(zhì)量的目的。 二、設(shè)計(jì)特點(diǎn) 1.后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī) 2.降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟,同時(shí)兩端降溫封頭開啟,爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向 3.通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換,達(dá)到快速降溫的目的。小型試驗(yàn)箱規(guī)格尺寸