真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問(wèn)題解決光罩的受潮問(wèn)題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問(wèn)題，解決線路板受潮問(wèn)題。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦倪^(guò)濾系統(tǒng)。1.EBM電子式EC馬達(dá)控制無(wú)塵室FFU。2.鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)體。3.特殊導(dǎo)流風(fēng)道設(shè)計(jì)，風(fēng)壓平均，可有效提供風(fēng)量，降低噪音。4.電路板控制模塊，提供安全保護(hù)裝置，運(yùn)轉(zhuǎn)異常指示燈及控制干接點(diǎn)輸出。5.無(wú)段式風(fēng)量調(diào)速器可任意調(diào)整風(fēng)量大小。6.濾網(wǎng)ULPA，0.12μm，99.9995%以上的過(guò)濾效果。7.電力規(guī)格：?jiǎn)蜗?20V50Hz0.95A，輸出功率150W。合肥真萍科技簡(jiǎn)述網(wǎng)帶爐規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)。網(wǎng)帶爐維修

隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運(yùn)動(dòng)器材、汽車零配件、電機(jī)、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預(yù)熱回火、退火、老化等用途。作為隧道爐的優(yōu)良供應(yīng)商原產(chǎn)廠家，小編下面就為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品材質(zhì)的構(gòu)成。1.外箱構(gòu)成。外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板/內(nèi)箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼2.系統(tǒng)裝置保護(hù)裝置定時(shí)報(bào)警斷電裝置、超溫?cái)嚯?、漏電保護(hù)斷路器、電機(jī)過(guò)載保護(hù)。固化網(wǎng)帶爐型號(hào)如何選擇網(wǎng)帶爐的發(fā)展前景如何呢？

真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國(guó)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究制造，廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.烘箱總體由箱體部分，電氣控制柜部分，電加熱部分，風(fēng)道部分，塵埃物過(guò)濾部分，N2進(jìn)氣排氣及風(fēng)冷部分等組裝而成，結(jié)構(gòu)合理，功能實(shí)用。2.外箱材料:外箱采用SS41#中碳鋼板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆可防止微塵。3.內(nèi)膽材料：采進(jìn)口SUS304#2mm不銹鋼板全周氬焊,并經(jīng)堿性蘇打水清潔有效的防止了機(jī)臺(tái)本身灰塵的產(chǎn)生。4.保溫材料：采用正廠玻璃纖維公司出品的100K級(jí)高密度保溫板填充，有效的防止了熱能浪費(fèi)。5.電熱部分：采用進(jìn)口覆套式電熱器（SHEATHEDHEATER）無(wú)塵無(wú)氧化電熱發(fā)生器。6.風(fēng)道部分：整體結(jié)構(gòu)采用了水平送風(fēng)的方式由左向右送風(fēng)后經(jīng)美國(guó)進(jìn)口H.E.P.A，(特殊風(fēng)道設(shè)計(jì))過(guò)濾效果可達(dá)99.99%,Class100。

使用高溫鐘罩爐具有特定的操作方法，需按照標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)范進(jìn)行。下面是真萍科技的鐘罩爐的使用注意事項(xiàng)。在使用高溫鐘罩爐時(shí)，其升溫要緩慢地用逐漸進(jìn)步電壓的方法進(jìn)行。留意不要超過(guò)安全溫度，以免焚毀電熱絲。將物料放入爐膛時(shí)，切勿觸及熱電偶，因伸入爐膛內(nèi)的熱電偶熱端在高溫下易于折斷。將金屬以及其它礦藏放入高溫鐘罩爐爐內(nèi)加熱時(shí)，有必要置于耐高溫的瓷坍渦或瓷皿中，或墊以耐火泥板或石棉板，避免與爐膛粘連在一起。不要讓高溫鐘罩爐受潮，以防漏電。網(wǎng)帶爐的優(yōu)點(diǎn)體現(xiàn)在哪？

本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。合肥真萍科技為您提供網(wǎng)帶爐的詳細(xì)介紹?；幢贝笮途W(wǎng)帶爐

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