HMDS真空烤箱整機(jī)尺寸、真空腔體尺寸：1.內(nèi)膽尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.載物托架：2塊3.室溫+10℃-250℃控溫范圍：溫度分辨率：0.1℃溫度波動(dòng)度：±0.5℃4.真空泵：油泵或無(wú)油真空泵。真空度：133pa，5.加熱方式：腔體下部及兩側(cè)加溫。加熱器為外置加熱板（防止一側(cè)加熱使的HMDS液進(jìn)入箱體內(nèi)不能完本轉(zhuǎn)成氣態(tài)）6.可放2寸晶圓片或4寸晶圓片；6寸晶圓片；8寸晶圓片等。7.開箱溫度可以由user自行設(shè)定來(lái)降低process時(shí)間（正常工藝在50分鐘-120分鐘（按產(chǎn)品所需而定烘烤時(shí)間），為正常工作周期不含降溫時(shí)間（因降溫時(shí)間為常規(guī)降溫）。合肥真萍告訴您工業(yè)烤箱哪家好？廈門工業(yè)烤箱廠家

本產(chǎn)品是參照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國(guó)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究制造，普遍應(yīng)用于電子液晶顯示，LCD,CMOS,IC，醫(yī)藥實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。技術(shù)指標(biāo)：可靠的測(cè)控系統(tǒng)1溫度控制裝置：進(jìn)口溫控器，內(nèi)置PID自動(dòng)整定，斜率設(shè)定功能2溫度控制方式為SSR固態(tài)繼電器功率調(diào)整輸出，溫度采集探頭為特制鎧裝K型熱電偶3溫度監(jiān)控裝置：采用六通道巡回檢測(cè)有紙記錄儀，可將烤箱內(nèi)實(shí)時(shí)環(huán)境溫度進(jìn)行檢測(cè)打印。完善的控制系統(tǒng)，及安全防護(hù)措施1操作控制系統(tǒng)，采用精密電子儀器儀表結(jié)合電力拖動(dòng)系統(tǒng)控制，更快速，更穩(wěn)定。2防護(hù)措施：緊急停止，超溫保護(hù),斷線報(bào)警，相序保護(hù)，過載保護(hù)，短路保護(hù)，漏電保護(hù)，及電磁門禁保護(hù)等。做工業(yè)烤箱維修設(shè)備適用于產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、電子、電工及汽車、航空在恒溫條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗(yàn)。

真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1、后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟，同時(shí)兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的三、技術(shù)指標(biāo)1、使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2、絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；4、加熱元件：石墨加熱棒；5、冷卻方式：氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫；6、控溫穩(wěn)定度：2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；7、爐膛溫度均勻度：5℃（恒溫1500℃）；8、氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%；9、極限真空:10-3torr級(jí)；10、抽氣速率：空載下，30min達(dá)到10-2torr11、升溫功率：170kW；12、升溫速率：15℃/min（空載）；13、降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘

下面為大家介紹一下高溫?zé)o氧固化烘箱。無(wú)氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無(wú)氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。1、技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1.1使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；1.2爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置；1.3爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度1.4溫度和氧含量記錄:無(wú)紙記錄儀；2、氧含量（配氧分析儀）：2.1高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度：1℃；2.3溫度均勻度：2%℃（260℃平臺(tái)）；工業(yè)烤箱怎樣挑選比較好?

下面為大家介紹一下石墨盤烤盤爐一.產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1、后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟，同時(shí)兩端降溫封頭開啟，爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換，達(dá)到快速降溫的目的三、技術(shù)指標(biāo)1、使用溫度：1450℃；比較高溫度：1500℃；2、絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙；4、加熱元件：石墨加熱棒；5、冷卻方式：氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫；6、控溫穩(wěn)定度：2℃，具有PID參數(shù)自整定功能；7、爐膛溫度均勻度：5℃（恒溫1500℃）；8、氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%；9、極限真空:10-3torr級(jí)；10、抽氣速率：空載下，30min達(dá)到10-2torr11、升溫功率：170kW；12、升溫速率：15℃/min（空載）；13、降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘工業(yè)烤箱如何發(fā)揮重要作用？做工業(yè)烤箱批發(fā)

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下面為大家介紹一下真空干燥箱。它是將干燥物料處于負(fù)壓條件下進(jìn)行干燥的一種箱體式干燥設(shè)備。它是利用真空泵進(jìn)行抽氣抽濕，使工作室內(nèi)形成真空狀態(tài)，降低水的沸點(diǎn)，加快干燥的速度。特點(diǎn)：1、長(zhǎng)方體工作室，增加有效容積，微電腦溫度控制器，精確控溫。2、雙層玻璃視窗觀察工作室內(nèi)物體，一目了然。3、箱體閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度。4、工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產(chǎn)品經(jīng)久耐用。5、儲(chǔ)存、加熱、試驗(yàn)和干燥都是在沒有氧氣或者充滿惰性氣體環(huán)境里進(jìn)行，所以不會(huì)氧化。真空程序分段控制該型號(hào)機(jī)型，抽真空過程可提供程序化編程，根據(jù)客戶要求編輯設(shè)定真空值，保壓時(shí)間值?？蓪?shí)現(xiàn)多段抽真空和保壓編程。操作步驟1，接通電源2，產(chǎn)品送入腔體，關(guān)門3，打開電源4，工作溫度設(shè)定好，啟動(dòng)加熱，設(shè)備進(jìn)入自動(dòng)恒溫狀態(tài)5，真空值和時(shí)間設(shè)定好后，啟動(dòng)真空泵，開始進(jìn)入自動(dòng)抽真空階段6，到達(dá)時(shí)間值后，真空泵自動(dòng)關(guān)閉廈門工業(yè)烤箱廠家