無(wú)氧干燥箱應(yīng)用于航空、航天、石油、化工、、船舶、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位，主要作BPO膠/PI膠/BCB膠固化，模壓固烤、IC（晶圓、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指紋識(shí)別）、FPD、高精密電子元件、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干，電工產(chǎn)品、材料、零備件等的高溫潔凈和無(wú)氧環(huán)境中干燥和老化試驗(yàn)。下面為大家簡(jiǎn)單介紹一下無(wú)氧干燥箱。1.技術(shù)指標(biāo)與基本配置：1.1使用溫度：RT～260℃，極限溫度：300℃；1.2爐膛腔數(shù):2個(gè),上下布置；1.3爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶：K分度1.4溫度和氧含量記錄:無(wú)紙記錄儀；2.氧含量（配氧分析儀）：2.1高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量2.2控溫穩(wěn)定度：±1℃；2.3溫度均勻度：±2%℃（260℃平臺(tái)）；試驗(yàn)箱如何選擇？合肥真萍科技告訴您。高低溫高壓試驗(yàn)箱參考價(jià)格

精密鼓風(fēng)烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對(duì)溫度均勻性要求比較嚴(yán)格的實(shí)驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技精密鼓風(fēng)烤箱的箱體結(jié)構(gòu)。1.本設(shè)備由室體、加熱系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、送風(fēng)系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)等組成。2.箱體采用先進(jìn)設(shè)備制作、業(yè)內(nèi)優(yōu)良工藝制造流程、線條流暢，美觀大方。3.工作室材質(zhì)為不銹鋼SUS304材質(zhì)，外箱材質(zhì)為優(yōu)良冷軋鋼板，產(chǎn)品外殼采用環(huán)保金屬漆噴制，整體設(shè)計(jì)美觀大方，適合實(shí)驗(yàn)室的顏色搭配。4.工作室內(nèi)擱架可隨用戶的要求任意調(diào)節(jié)高度以及擱架的數(shù)量。5.工作室與外箱之間的保溫材料為優(yōu)良超細(xì)玻璃纖維保溫棉，保溫層厚度：＞70mm,隔溫效果好，高性能的絕緣結(jié)構(gòu)。從里到外有內(nèi)腔、內(nèi)殼、超細(xì)玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內(nèi)膽熱量損失少。內(nèi)膽外箱及門膽結(jié)構(gòu)獨(dú)特，極大減少了內(nèi)腔熱量的外傳。哪里有試驗(yàn)箱參考價(jià)格試驗(yàn)箱怎么選？合肥真萍科技告訴您。

超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間：①常壓時(shí)：90min（常溫～+260℃）②低氣壓0.0001pa時(shí)：180min（常溫～+260℃）2.降溫時(shí)間：3℃～10℃/min（260℃～120℃）,1℃～5℃/min（120℃～常溫℃）3.降溫方式：水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式：采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍：常壓～0.0001Pa

下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗(yàn)箱的構(gòu)造特點(diǎn)。在箱體構(gòu)造方面，恒溫恒濕箱是采用數(shù)控機(jī)床加工成型，造型美觀大方、新穎，并采用無(wú)反作用把手，操作簡(jiǎn)便。工作室采用進(jìn)口鏡面板不銹鋼制作而成，箱體外膽采用A3鋼板噴塑。箱體外與內(nèi)膽之間填充超細(xì)保溫棉，隔溫效果很好，有效的降低試驗(yàn)箱內(nèi)的溫度波動(dòng)率，再配合抗老化硅橡膠密封條的嚴(yán)實(shí)密封，使箱體無(wú)霧氣泄漏現(xiàn)象產(chǎn)生。由于試驗(yàn)箱內(nèi)的環(huán)境惡劣，為觀察清晰試驗(yàn)箱內(nèi)的情況，合肥真萍在觀察窗方面是選用多層鋼化玻璃制作，并且在觀察窗設(shè)置單獨(dú)的照明燈和霧刷，保持良好的觀察視野，隨時(shí)監(jiān)控試驗(yàn)情況。當(dāng)然，為采集試驗(yàn)數(shù)據(jù)，箱體專門配置了直徑50mm的測(cè)試孔，可連接記錄儀，打印機(jī)和電腦真萍科技為您提供定制各種尺寸試驗(yàn)箱。

本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱，首先簡(jiǎn)單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。合肥真萍與您分享試驗(yàn)箱對(duì)如今市場(chǎng)的影響。高低溫試驗(yàn)箱廠家直銷價(jià)格

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真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商，在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專業(yè)性是不用多說(shuō)的。下面讓真萍科技從溫度方面，帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。一、溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱均勻度，新標(biāo)準(zhǔn)稱梯度。溫度穩(wěn)定后，在任意時(shí)間間隔內(nèi)，工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù)，因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。二、溫度偏差溫度穩(wěn)定后，在任意時(shí)間間隔內(nèi)，工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點(diǎn)的溫度平均值之差。雖然新舊標(biāo)準(zhǔn)對(duì)此指標(biāo)的定義和稱呼相同，但檢測(cè)已有所改變，新標(biāo)準(zhǔn)更實(shí)際，更苛刻一點(diǎn)，但考核時(shí)間短點(diǎn)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為±2℃，純高溫試驗(yàn)箱200℃以上可按實(shí)際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求。高低溫高壓試驗(yàn)箱參考價(jià)格