電子工業(yè)超純水設(shè)備工藝及使用注意事項(xiàng)。高純水又名超純水，是指化學(xué)純度極高的水，其主要應(yīng)用在生物、化學(xué)化工、冶金、宇航、電力等領(lǐng)域，但其對(duì)水質(zhì)純度要求相當(dāng)高，所以一般應(yīng)用比較普遍的還是電子行業(yè)。在超純水設(shè)備的生產(chǎn)過程中，水中的陰陽離子可用電滲析法、反滲透法及離子交換技術(shù)等去除，水中的顆粒一般可用超過濾、膜過濾等技術(shù)去除;水中的細(xì)菌，目前國(guó)內(nèi)多采用加藥或紫外燈照射或臭氧殺菌的方法去除;水中的TOC則一般用活性炭、反滲透處理。在高純水的應(yīng)用領(lǐng)域中，水的純度直接關(guān)系到器件的性能、可靠性，因此高純水要求具有相當(dāng)高的純度和精度。 光伏多晶硅超純水設(shè)備生產(chǎn)廠商。鋰電池超純水設(shè)備生產(chǎn)

    制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程。電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：(1)采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)。(2)采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)。圖片(3)采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)。 食品加工超純水設(shè)備定制碩科超純水設(shè)備能夠?yàn)槠髽I(yè)提供安全、可靠的工業(yè)用水解決方案。

多晶硅超純水設(shè)備主要用在多晶硅片清洗中，多晶硅片,半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于去除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電,顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。針對(duì)多晶硅加工工藝需求和當(dāng)?shù)厮辞闆r，可采用工藝流程:ASS+UF+1RO+2RO+EDI+SMB或MMF+ACF+1RO+2RO+EDI+SMB工藝流程，碩科環(huán)保采用國(guó)內(nèi)先進(jìn)設(shè)計(jì)理念，確保系統(tǒng)設(shè)備產(chǎn)水達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。

    很多客戶在使用超純水設(shè)備的過程中，經(jīng)常會(huì)反映一個(gè)問題，就是超純水設(shè)備中的反滲透膜很容易出現(xiàn)水垢。業(yè)內(nèi)人員表示，超純水設(shè)備出現(xiàn)水垢后不僅會(huì)影響到超純水設(shè)備的正常運(yùn)行，也會(huì)影響到出水的水質(zhì)，給人們使用設(shè)備帶來了不便。那么，在使用過程中，我們應(yīng)該怎么防止超純水設(shè)備結(jié)水垢呢?據(jù)了解，超純水設(shè)備在長(zhǎng)時(shí)間使用的過程中，通過反滲透膜兩側(cè)的壓力差作為動(dòng)力，進(jìn)行水交換，在水不斷的交換的同時(shí)會(huì)導(dǎo)致大量的鹽聚集，鹽中含有大量的沉淀物質(zhì)，時(shí)間長(zhǎng)了就會(huì)發(fā)生結(jié)垢現(xiàn)象，結(jié)構(gòu)嚴(yán)重就會(huì)純凈水的質(zhì)量。因此，在使用的過程中我們要有效的預(yù)防這種情況出現(xiàn)。有技術(shù)人員表示，在使用超純水設(shè)備的時(shí)候，要保持過濾器過濾速度，并且保持勻速，合理的過濾速度可以保證超純水設(shè)備的凈化效果。另外，在濾料的選擇上，建議選擇顆粒度大小基本一致的濾料，這樣過濾出來的水就比較徹底。 碩科生產(chǎn)超純水設(shè)備產(chǎn)品性能好，質(zhì)量可靠。

    化工超純水設(shè)備的使用步驟是什么？使用步驟：首先，開啟進(jìn)水水源并接通電源后化工超純水設(shè)備，即可全自動(dòng)制水工作其次，如需取用RO反滲透水、DI去離子水，開啟相應(yīng)的左右兩側(cè)取水球閥即可。然后，取水完畢后關(guān)閉區(qū)水口，設(shè)備即自動(dòng)停機(jī)，此時(shí)開啟任何一個(gè)取水口，則自動(dòng)重新啟動(dòng)，制造純水。以此循環(huán)，制造出所需的純水。注意：如長(zhǎng)期不使用或下班前，請(qǐng)務(wù)必關(guān)閉純水機(jī)電源，切斷自來水來源，以避免發(fā)生意外。以自來水為水源的系統(tǒng)，要求進(jìn)水壓力要符合設(shè)備要求，進(jìn)水管徑不得小于規(guī)定尺寸。 多晶硅超純水設(shè)備主要用在多晶硅片清洗中。電子工業(yè)超純水設(shè)備檢修

碩科專注于超純水設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)與服務(wù)。鋰電池超純水設(shè)備生產(chǎn)

     超純水設(shè)備工藝流程如下：原水經(jīng)過雙級(jí)反滲透設(shè)備后，經(jīng)過TOC脫除器降解有機(jī)物，隨后進(jìn)入EDI模塊，出水水質(zhì)可達(dá)15MΩ·CM以上，然后再經(jīng)過二級(jí)TOC脫除器后進(jìn)行深度降級(jí)TOC，使產(chǎn)水TOC下降至3ppb以下，之后進(jìn)入脫氣膜脫除溶解氧，然后進(jìn)入核子級(jí)混床，使出水水質(zhì)達(dá)到18.2MΩ·CM。碩科環(huán)保超純水設(shè)備不僅具備簡(jiǎn)單、性能優(yōu)良、耐久性好、適用性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，其設(shè)備內(nèi)部還配備高質(zhì)量的膜元件，所得到的超純水純度高，無病毒、細(xì)菌、不含懸浮物質(zhì)，不含化學(xué)物質(zhì)污染，出水水質(zhì)可以達(dá)到18兆歐以上，完全符合電子廠的用水標(biāo)準(zhǔn)。鋰電池超純水設(shè)備生產(chǎn)