氧化鋁又稱為剛玉，在摩氏硬度表中位列第9級(jí)，具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結(jié)構(gòu)，十分適合再研磨材料。且相對(duì)比鉆石更低廉的價(jià)錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。氧化鋁拋光液的特點(diǎn)氧化鋁拋光液具有硬度高、磨削力強(qiáng)、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。模氏硬度可達(dá)5500-8000kg/mm2。不易產(chǎn)生劃痕，粒度分布范圍窄，研磨后材料表面質(zhì)量好，粒徑有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR幾種可供選擇。氧化鋁拋光液的應(yīng)用1、電子行業(yè)：電子行業(yè)單晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨；2、裝飾行業(yè)：不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光；3、噴涂材料：等離子噴涂；4、光學(xué)玻璃冷加工。本公司銷售的氧化硅拋光液適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。四川堿性拋光液

依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。四川物理拋光液價(jià)格本公司銷售的氧化鋁拋光液運(yùn)用拋光過(guò)程中的化學(xué)新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

    陶瓷拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)，對(duì)環(huán)境友好；2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、ｐＨ值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成，3.具有適用性強(qiáng)，產(chǎn)品分散性好，粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)陶瓷的一款高效研磨液，能快速去除表面缺陷，具有一定的潤(rùn)滑、冷卻作用，易于研磨后的清洗，懸浮性能好，金屬離子螯合能力強(qiáng)。主要成分：金剛石/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于各類陶瓷制品（氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等）工件的研磨，具有良好的研磨效果。產(chǎn)品特點(diǎn)：1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)、對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、ｐＨ值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成。3.具有適用性強(qiáng)、產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。

氧化鋁拋光液。α-氧化鋁（剛玉）硬度高，穩(wěn)定性好，納米氧化鋁適用于光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光，是一種使用的無(wú)機(jī)磨料?，F(xiàn)在以高亮度Ga N基藍(lán)光LED為的半導(dǎo)體照明技術(shù)對(duì)照明領(lǐng)域帶來(lái)了很大的沖擊，并成為目前全球半導(dǎo)體領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。但由于Ga N很難制備，必須在其他襯底材料上外延生長(zhǎng)薄膜，作為Ga N的襯底材料有多種，目前，藍(lán)光和白光LED 芯片均采用藍(lán)寶石晶片或碳化硅晶片為襯底晶片，因此，晶片的拋光也成為關(guān)注的焦點(diǎn)。近年來(lái)，國(guó)際上采用了一種新的工藝，即用Al2O3拋光液一次完成藍(lán)寶石晶片研磨和拋光，提高藍(lán)寶石和Si C晶片的拋光效率。本公司銷售的納米拋光液應(yīng)用范圍：催化劑、催化載體、分析試劑。

陶瓷拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)，對(duì)環(huán)境友好；2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、ｐＨ值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成，3.具有適用性強(qiáng)，產(chǎn)品分散性好，粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)陶瓷的一款高效研磨液，能快速去除表面缺陷，具有一定的潤(rùn)滑、冷卻作用，易于研磨后的清洗，懸浮性能好，金屬離子螯合能力強(qiáng)。主要成分：金剛石/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于各類陶瓷制品（氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等）工件的研磨，具有良好的研磨效果。產(chǎn)品特點(diǎn)：1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)、對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、ｐＨ值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成。3.具有適用性強(qiáng)、產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。本公司的納米拋光液適合手機(jī)外殼拋光，汽車表面拋光，高級(jí)不銹鋼外殼拋光。杭州寶石拋光液加工

拋光液具有性能穩(wěn)定、***，對(duì)環(huán)境無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)。四川堿性拋光液

    依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過(guò)程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過(guò)程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來(lái)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過(guò)程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過(guò)程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過(guò)程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。 四川堿性拋光液