氧化鈰拋光液1、產(chǎn)品名稱稀土拋光液2、產(chǎn)品型號(hào)hnys-ceria-13、用途用于手機(jī)玻璃、精密光學(xué)玻璃拋光4、技術(shù)指標(biāo)化學(xué)成分含量稀土拋光粉30-40%去離子水60-70%其他成分≤3%化學(xué)或物理指標(biāo)數(shù)據(jù)D500.4-0.6μmD90≤1.5μm比重≥1.20g/cm3pH值8.0-9.5顏色白色備注：以上參數(shù)可根據(jù)用戶要求適當(dāng)調(diào)整。5、包裝規(guī)格20公斤/桶、50公斤/桶6、注意事項(xiàng)使用前請(qǐng)搖勻或攪拌均勻；拋光前可加水稀釋1-2倍后再使用，具體稀釋比例根據(jù)用戶現(xiàn)場(chǎng)工藝與設(shè)備自行確定。氧化鋁拋光液含有溶膠氧化鋁，可經(jīng)過樸實(shí)的機(jī)械拋光來***地去除資料，達(dá)到優(yōu)異的外表處理效果。上海拋光液

化學(xué)拋光液的常見組分及作用；1、硝酸銀：能提高光澤度，是化學(xué)拋光中較常用的添加劑，但添加量不能過多，不然易于產(chǎn)生蝕點(diǎn)，銀離子不能祛除拋光流程中造成的透光度不好的問題，普通三酸或磷酸-硝酸拋光添加量通?？刂圃?0-150mg/L；不包含硝酸或低硝酸添加量為0.2~1mg/L；2、硝酸銅(或硫酸銅)：能提升光澤度但比不上銀鹽的效果明顯，但銅鹽能改進(jìn)在拋光流程中造成的透光庋不好的問題，銅的添加量相比于銀鹽而言要大很多，但銅鹽添加過多易于在產(chǎn)品工件外表出面條紋、蝕點(diǎn)等，銅離子過多時(shí)經(jīng)拋光后的鋁合金外表會(huì)有一層的置換銅層，其添加量通常可取0.1~5g/L。上海拋光液本公司銷售的氧化硅拋光液高純度(Cu2+含量小于50?ppb)，有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污。

多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷，為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。用于光學(xué)晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質(zhì)材料的研磨和拋光。納米金剛石研磨液是由爆轟金剛石微粉在水中均勻分散而成，具有良好的分散穩(wěn)定性，適用于超精密拋光。光學(xué)玻璃和寶石對(duì)加工的精度有著極高的要求，納米金剛石研磨液可以在保持較高磨削速率的同時(shí)，形成高質(zhì)量的加工表面。單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對(duì)較低。適用于超硬材料、硬質(zhì)合金等硬質(zhì)材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過程中產(chǎn)生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。

    依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等，對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明，化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng)，它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程：（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。（2）拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。 本公司銷售的納米拋光液應(yīng)用范圍：涂料、橡膠、塑料耐磨增強(qiáng)材料、高級(jí)耐水材料。

    氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。氧化鈰拋光液氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。氧化鋁和碳化硅拋光液是以超細(xì)氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級(jí)的磨料。主要用于高精密光學(xué)儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。 多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，可以在保持高切削率的同時(shí)不易對(duì)研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。杭州鉆石拋光液性能

本公司銷售的氧化鋁拋光液顆粒粒徑分布適中，很大程度提升拋光速率的同時(shí)降低微劃傷的概率。上海拋光液

硝酸鉛、糊精、阿拉伯樹膠：?jiǎn)为?dú)或協(xié)同運(yùn)用可用作硝酸-氟化氫銨型拋光溶液能減少拋光流程中對(duì)鋁的蝕刻速率，糊精和阿拉伯樹膠還能改進(jìn)其光澤性。除以上添加劑外還有鉻酐、三價(jià)鉻、鋅、磺化物、氨基酸、草酸、陰離子表面活性劑、檸檬酸等都能夠做為旨在改進(jìn)拋光質(zhì)量的加入物質(zhì)。尤其需要一提的是三價(jià)鉻和氨基酸，適合的加入量可得到帶藍(lán)白的拋光效果。氯離子和氟離子使拋光面粗化，適當(dāng)?shù)姆x子能夠得到均勻而細(xì)的粗化面，氯離子使整個(gè)表層狀態(tài)劣化。上海拋光液