據報道，早在新石器時期出土的器件中就有磨光的痕跡。大量出土的秦俑實際制作時已采用了機械磨亮的拋光技術。西漢時期的青銅鏡鏡面加工技術更是負有盛名，在《淮南子》中有對應的描述。以上所有這些表面整平、拋光都是先用簡單的具有一定粗糙度的工具與被整平物體相互摩擦達到整平的目的，然后用較細的砂?；蛉彳浘哂许g性的纖維物配以磨料摩擦進一步達到光亮（拋光）的目的。如宋代已有用氧化鐵作為磨料的拋光技術，這種技術要比國外早數(shù)百年。這就是早使用的表面拋光技術，也是至今仍在使用的機械拋光技術的原型。隨后隨著人類社會的進步和科學水平的提高，人們發(fā)現(xiàn)將研磨材料做成圓盤形平板或將研磨材料的粒子裝在圓盤或帶子上使其運轉，并將被整平工件的拋光表面放在上面可以得到不同程度的平整和光亮度，而且可以節(jié)省人力、提高效率。發(fā)展到，這種方法演變成為現(xiàn)代的各種形式的機械拋光技術。 本公司的納米拋光液適合手機外殼拋光，汽車表面拋光，高級不銹鋼外殼拋光。臨沂鉆石拋光液生產工藝

多晶金剛石研磨液利用多晶金剛石良好的韌性，在研磨拋光過程中能夠保持高磨削力的同時不易產生劃傷，為后續(xù)精密拋光加工提供了良好的條件。用于光學晶體、陶瓷、超硬合金等各種硬質材料的研磨和拋光。納米金剛石研磨液是由爆轟金剛石微粉在水中均勻分散而成，具有良好的分散穩(wěn)定性，適用于超精密拋光。光學玻璃和寶石對加工的精度有著極高的要求，納米金剛石研磨液可以在保持較高磨削速率的同時，形成高質量的加工表面。單晶金剛石研磨液具有良好的切削力，加工成本相對較低。適用于超硬材料、硬質合金等硬質材料的研磨拋光。既可以提高磨削速率，又可以將磨削過程中產生的大量熱量迅速排走，從而避免工件表面被燒傷。上海研磨拋光用拋光液生產工藝本公司銷售的納米拋光液應用范圍：化妝品填料。

高錳酸鉀：可當作1種氧化劑添加到拋光溶液中，當拋光液中午硝酸時，加入高錳酸鉀能夠提升 光滑度和光亮度，在有高錳酸鉀的情形下，在拋光溶液中加入一定量的硝酸銨時，黃煙的形成量會明顯減少，甚至于沒有黃煙。高錳酸鉀的加入量一般5~10g/L。尿素：有著遏制氮氧化物逸出的功效，另外還能改進拋光效果，在運用尿素時要注意硝酸的使用量和溫度，運用尿素時如控制不合理或拋光液中有催化性雜質存在時，尿素會促使硝酸的分解而形成大量的氮氧化物氣體，另外也使拋光表層粗糙。

銅及銅合金拋光液1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環(huán)境友好。2.本產品分為粗拋、精拋兩個級別，用于銅及銅合金工件表面各種效果要求的拋光。產品概述本產品是專門針對銅及銅合金的一款高效拋光液，能快速去除銅材料表面氧化層、污物、坑點、劃痕等，快速地拋出高質量表面。主要成分：金剛石/硅溶膠應用領域：1.適用于銅及銅合金工件的拋光，具有良好的拋光效果。2.廣泛應用在電力、高鐵、汽車部件、空調、生活家電、散熱系統(tǒng)、精密電子、精密儀器、航空航天、通訊腔體、機箱機柜、晶振晶體等領域。產品特點：1.本產品不含重金屬、不含有毒有害物質，對環(huán)境友好。2.本產品分為粗拋、中拋、精拋三個級別，用于銅及銅合金工件表面各種效果要求的拋光。氧化鋁拋光液樸實機械拋光可使樣品外表平整，但是卻無法確保銅不發(fā)生，因而適合涂層丈量和邊界層分析。

    隨著經濟的發(fā)展，為了徹底擺脫對進口拋光液的依賴，拋光液行業(yè)在國內的關注度逐漸上升，但在拋光液的制備及其使用過程中仍有許多問題需要解決：（一）拋光液對環(huán)境的影響。化學機械拋光液中的化學成分，如氨、酸等有毒成分對環(huán)境和人體的傷害很大，為此，在進一步研究拋光液制備工藝的同時，拋光液的循環(huán)利用也要進一步完善，做到經濟發(fā)展與環(huán)境保護相協(xié)調。例如，水性體系的拋光液綠色環(huán)保，散熱快。（二）化學機械拋光液磨料粒子的分散問題。拋光液中使用的多為納米粒子，納米粒子的比表面積較大，表面能較高，極易發(fā)生團聚，目前國內外常用超聲波、機械攪拌、表面處理等機械化學方法對納米磨料粒子進行分散，但是往往達不到效果，因此，納米磨料粒子的分散穩(wěn)定性需要進一步的研究。（三）拋光液的適用性。目前所用的拋光液沒有表明針對某一工件適用，因此，針對不同材料開發(fā)專門使用的化學機械拋光液需要進一步的研究。例如，目前富士康對iphone、ipad等外殼進行光學鏡面模拋光，以及對半導體晶片的拋光，都需要使用專門特定的拋光液。 氧化鈰拋光液用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。東莞硅拋光液加工

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑。臨沂鉆石拋光液生產工藝

    目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度極高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用“軟磨硬”的原理很好的實現(xiàn)了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還的應用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導體工業(yè)的急速發(fā)展，對拋光技術提出了新的要求，傳統(tǒng)的拋光技術（如：基于淀積技術的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術，不能做到全局平面化，而化學機械拋光技術解決了這個問題，它是目前的可以在整個硅圓晶片上平坦化的工藝技術。 臨沂鉆石拋光液生產工藝

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