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成都碳化硅襯底6寸

來源: 發(fā)布時間:2023-04-05

“實際上,它們是電動開關。“我們可以選擇這些電子開關的技術,它們可以啟用和禁用各種電機繞組,并有效地使電機旋轉。”用于此功能的當下流行的電子半導體開關稱為IGBT。90%以上的汽車制造商都在使用它們。它們是根據(jù)需要將電池電流轉換成電機的低價的方法?!边@就是業(yè)界瞄準SiCMOSFET的地方,SiCMOSFET的開關速度比IGBT快?!?STMicroelectronics寬帶隙和功率射頻業(yè)務部門主管說:“SiCMOSFET)還可以降低開關損耗,同時降低中低功率水平下的傳導損耗。”它們可以以四倍于IGBT的頻率以相同的效率工作,由于更小的無源器件和更少的外部元件,從而降低了重量、尺寸和成本。因此,與硅解決方案相比,SiCMOSFET可將效率提高90%?!辟|量好的碳化硅襯底的公司聯(lián)系方式。成都碳化硅襯底6寸

到2023年,SiC功率半導體市場預計將達到15億美元。SiC器件的供應商包括富士、英飛凌、利特弗斯、三菱、安半導體、意法半導體、Rohm、東芝和Wolfspeed。Wolfspeed是CREE的一部分。電力電子在世界電力基礎設施中發(fā)揮著關鍵作用。該技術用于工業(yè)(電機驅動)、交通(汽車、火車)、計算(電源)和可再生能源(太陽能、風能)。電力電子設備在系統(tǒng)中轉換或轉換交流電和直流電(AC和DC)。對于這些應用,行業(yè)使用各種功率半導體。一些半功率晶體管是晶體管,在系統(tǒng)中用作開關。它們允許電源在“開啟”狀態(tài)動,并在“關閉”狀態(tài)下停止。成都碳化硅襯底6寸sic蘇州哪家公司的碳化硅襯底的口碑比較好?

N型碳化硅襯底材料是支撐電力電子行業(yè)發(fā)展必不可少的重要材料。其耐高壓、耐高頻等突出的物理特性可以廣泛應用于大功率高頻電子器件、電動汽車PCU、光伏逆變、軌道交通電力控制系統(tǒng)等領域,起到減小體積簡化系統(tǒng),提升功率密度的作用,發(fā)光二極管(LED)是利用半導體中電子與空穴復合發(fā)光的一種電子元器件,是一種節(jié)能環(huán)保的冷光源。SiC材料具有與GaN晶格失配小、熱導率高、器件尺寸小、抗靜電能力強、可靠性高等優(yōu)點是GaN系外延材料的理想襯底,由于其良好的熱導率,解決了功率型GaN-LED器件的散熱問題,特別適合制備大功率的半導體照明用LED,這樣提高了出光效率,又能有效的降低能耗。

    隨著電力電子變換系統(tǒng)對于效率和體積提出更高的要求,SiC(碳化硅)將會是越來越合適的半導體器件。尤其針對光伏逆變器和UPS應用,SiC器件是實現(xiàn)其高功率密度的一種非常有效的手段。由于SiC相對于Si的一些獨特性,對于SiC技術的研究,可以追溯到上世界70年代。簡單來說,SiC主要在以下3個方面具有明顯的優(yōu)勢:擊穿電壓強度高(10倍于Si)更寬的能帶隙(3倍于Si)熱導率高(3倍于Si)這些特性使得SiC器件更適合應用在高功率密度、高開關頻率的場合。當然,這些特性也使得大規(guī)模生產(chǎn)面臨一些障礙,直到2000年初單晶SiC晶片出現(xiàn)才開始逐步量產(chǎn)。目前標準的是4英寸晶片,但是接下來6英寸晶片也要誕生,這會導致成本有顯著的下降。而相比之下,當今12英寸的Si晶片已經(jīng)很普遍,如果預測沒有問題的話,接下來4到5年的時間18英寸的Si晶片也會出現(xiàn)。 質量好的碳化硅襯底的找誰好?

SiC碳化硅是制作高溫、高頻、大功率、高壓器件的理想材料之一:由碳元素和硅元素組成的一種化合物半導體材料。相比傳統(tǒng)的硅材料(Si),碳化硅(SiC)的禁帶寬度是硅的3倍;導熱率為硅的4-5倍;擊穿電壓為硅的8-10倍;電子飽和漂移速率為硅的2-3倍。優(yōu)勢體現(xiàn)在:1)耐高壓特性:更低的阻抗、禁帶寬度更寬,能承受更大的電流和電壓,帶來更小尺寸的產(chǎn)品設計和更高的效率;2)耐高頻特性:SiC器件在關斷過程中不存在電流拖尾現(xiàn)象,能有效提高元件的開關速度(大約是Si的3-10倍),適用于更高頻率和更快的開關速度;3)耐高溫特性:SiC相較硅擁有更高的熱導率,能在更高溫度下工作。哪家的碳化硅襯底的價格優(yōu)惠?碳化硅襯底4寸

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SiC電子器件是微電子器件領域的研究熱點之一。SiC材料的擊穿電場有4MV/cm,很適合于制造高壓功率器件的有源層。而由于SiC襯底存在缺點等原因,將它直接用于器件制造時,性能不好。SiC襯底經(jīng)過外延之后,其表面缺點減少,晶格排列整齊,表面形貌良好,比襯底大為改觀,此時將其用于制造器件可以提高器件的性能。為了提高擊穿電壓,厚的外延層、好的表面形貌和較低的摻雜濃度是必需的。一些高壓雙極性器件,需外延膜的厚度超過50μm,摻雜濃度小于2×1015cm-3,載流子壽命大過1us。對于高反壓大功率器件,需要要在4H-SiC襯底上外延一層很厚的、低摻雜濃度的外延層。為了制作10KW的大功率器件,外延層厚度要達到100μm以上。高壓、大電流、高可靠性SiC電子器件的不斷發(fā)展對SiC外延薄膜提出了更多苛刻的要求,需要通過進一步深入的研究提高厚外延生長技術。成都碳化硅襯底6寸

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