氧化硅拋光液(CMP拋光液)是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。氧化鈰拋光液氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。適用于高精密光學(xué)儀器,光學(xué)鏡頭,微晶玻璃基板,晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。氧化鋁和碳化硅拋光液是以超細(xì)氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液,主要成分是微米或亞微米級(jí)的磨料。主要用于高精密光學(xué)儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。 哪家拋光液的質(zhì)量比較好。四川進(jìn)口金剛石拋光液規(guī)格
研磨拋光液是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類"磨具",磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。普通研磨液用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。分類編輯研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,經(jīng)過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而構(gòu)成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,應(yīng)用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,完成工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況,研磨完成后,工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以,機(jī)械作用的研磨液普通用于粗磨,后續(xù)還需求精密研磨拋光?;瘜W(xué)機(jī)械作用研磨液:化學(xué)機(jī)械作用研磨液應(yīng)用了磨損中的"軟磨硬"原理,即用較軟的材料來中止拋光以完成高質(zhì)量的拋光表面,是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)。 河南國產(chǎn)拋光液品牌哪家的拋光液的價(jià)格低?
陶瓷拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好;2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、pH值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成,3.具有適用性強(qiáng),產(chǎn)品分散性好,粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門針對(duì)陶瓷的一款高效研磨液,能快速去除表面缺陷,具有一定的潤滑、冷卻作用,易于研磨后的清洗,懸浮性能好,金屬離子螯合能力強(qiáng)。主要成分:金剛石/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于各類陶瓷制品(氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等)工件的研磨,具有良好的研磨效果。產(chǎn)品特點(diǎn):1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)、對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、pH值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成。3.具有適用性強(qiáng)、產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。
依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程:(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高損傷層。 拋光液的使用時(shí)要注意什么?
依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程:(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高損傷層。如何區(qū)分拋光液的的質(zhì)量好壞。河南寶石拋光液廠商
蘇州哪家公司的拋光液的口碑比較好?四川進(jìn)口金剛石拋光液規(guī)格
金屬表面拋光技,又稱表面整平技術(shù),在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術(shù)。表面整平技術(shù)是隨著人類在尋求生存過程中的生產(chǎn)活動(dòng)和生活需要而發(fā)展起來的。我們的祖先在發(fā)展生產(chǎn)的過程中所使用的工具,不管是石器或是金屬工具,為了提高生產(chǎn)效率,設(shè)法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利,為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗?fàn)幹惺褂玫慕饘傥淦鞫荚O(shè)法把其表面整平,磨得光亮、鋒利以便更好的戰(zhàn)斗。隨著生產(chǎn)力的發(fā)展,人類社會(huì)的生活逐漸由轉(zhuǎn)向和平,又貧窮轉(zhuǎn)向富裕,人們?yōu)榱颂岣咦陨淼纳钯|(zhì)量和審美,出現(xiàn)了各種生活的精飾品,這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產(chǎn)品的價(jià)值。四川進(jìn)口金剛石拋光液規(guī)格