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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-04-21

光學(xué)玻璃拋光液是專為手機(jī)表面而研發(fā)的其操作簡(jiǎn)便,可視污漬的多少只需將光學(xué)玻璃拋光液用超聲清洗、自動(dòng)浸泡或手洗即可徹底清潔手機(jī)表面的各種污漬且不傷手機(jī)。光學(xué)玻璃拋光液具有拋光速度快、使用壽命長(zhǎng)、良好的懸浮性、不沾附、能適合于各種材料的拋光,適合于拋光高精密玻璃,能有效解決材質(zhì)劃傷和拋光粉堆積造成的表面斑點(diǎn)現(xiàn)象。一、光學(xué)玻璃拋光液技術(shù)參數(shù)1、光學(xué)玻璃拋光液中心粒徑d50:1um-1.5um2、光學(xué)玻璃拋光液PH值:7二、光學(xué)玻璃拋光液適用范圍:光學(xué)玻璃拋光液***適用于精密光學(xué)器件、硬盤(pán)基片、液晶屏幕顯示器等,高精密度光學(xué)玻璃拋光.光學(xué)鏡頭、光纖連接器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。口碑好的拋光液的公司聯(lián)系方式。蘇州堿性拋光液價(jià)格查詢

氧化鈰拋光液1、產(chǎn)品名稱稀土拋光液2、產(chǎn)品型號(hào)hnys-ceria-13、用途用于手機(jī)玻璃、精密光學(xué)玻璃拋光4、技術(shù)指標(biāo)化學(xué)成分含量稀土拋光粉30-40%去離子水60-70%其他成分≤3%化學(xué)或物理指標(biāo)數(shù)據(jù)D500.4-0.6μmD90≤1.5μm比重≥1.20g/cm3pH值8.0-9.5顏色白色備注:以上參數(shù)可根據(jù)用戶要求適當(dāng)調(diào)整。5、包裝規(guī)格20公斤/桶、50公斤/桶6、注意事項(xiàng)使用前請(qǐng)搖勻或攪拌均勻;拋光前可加水稀釋1-2倍后再使用,具體稀釋比例根據(jù)用戶現(xiàn)場(chǎng)工藝與設(shè)備自行確定。重慶物理拋光液規(guī)格哪家公司的拋光液的品質(zhì)比較好?

陶瓷拋光液1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì),對(duì)環(huán)境友好;2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、pH值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成,3.具有適用性強(qiáng),產(chǎn)品分散性好,粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。產(chǎn)品概述本產(chǎn)品是專門(mén)針對(duì)陶瓷的一款高效研磨液,能快速去除表面缺陷,具有一定的潤(rùn)滑、冷卻作用,易于研磨后的清洗,懸浮性能好,金屬離子螯合能力強(qiáng)。主要成分:金剛石/硅溶膠應(yīng)用領(lǐng)域:廣泛應(yīng)用于各類陶瓷制品(氧化鋁陶瓷、氧化鋯陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等)工件的研磨,具有良好的研磨效果。產(chǎn)品特點(diǎn):1.本產(chǎn)品不含重金屬、不含有毒有害物質(zhì)、對(duì)環(huán)境友好。2.本產(chǎn)品主要由其金剛石微粉、分散穩(wěn)定劑、懸浮劑、pH值調(diào)節(jié)劑、防腐劑、有機(jī)溶劑和去離子水組成。3.具有適用性強(qiáng)、產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、規(guī)格齊全、品質(zhì)穩(wěn)定等特點(diǎn)。

金屬表面拋光技,又稱表面整平技術(shù),在整平程度要求很高的特殊情況下則稱之為鏡面加工技術(shù)。表面整平技術(shù)是隨著人類在尋求生存過(guò)程中的生產(chǎn)活動(dòng)和生活需要而發(fā)展起來(lái)的。我們的祖先在發(fā)展生產(chǎn)的過(guò)程中所使用的工具,不管是石器或是金屬工具,為了提高生產(chǎn)效率,設(shè)法把工具磨得平整、光亮、尖銳、鋒利,為了生存而與野獸搏斗、與異族的抗?fàn)幹惺褂玫慕饘傥淦鞫荚O(shè)法把其表面整平,磨得光亮、鋒利以便更好的戰(zhàn)斗。隨著生產(chǎn)力的發(fā)展,人類社會(huì)的生活逐漸由轉(zhuǎn)向和平,又貧窮轉(zhuǎn)向富裕,人們?yōu)榱颂岣咦陨淼纳钯|(zhì)量和審美,出現(xiàn)了各種生活的精飾品,這些用品也需要較好的拋光、整平以提高它的光鮮度及提高產(chǎn)品的價(jià)值。哪家拋光液的的性價(jià)比好?

化學(xué)機(jī)械拋光集中了化學(xué)拋光和機(jī)械拋光的綜合優(yōu)點(diǎn),純粹化學(xué)拋光腐蝕性大,拋光速率大,損傷低,表面光潔度高,但是拋光后的表面平整度差和表面一致性差;純粹的機(jī)械拋光表面平整度和表面一致性較高,但是表面損傷大,光潔度低。而化學(xué)機(jī)械拋光在不影響拋光速率的前提下,既可以獲得光潔度較高的表面,又可以提高表面平整度,是迄今可以提供整體平面化的表面精加工技術(shù)。目前國(guó)內(nèi)外常用的拋光液有Si O2膠體拋光液、二氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液、納米金剛石拋光液等。蘇州性價(jià)比較好的拋光液的公司聯(lián)系電話。佛山國(guó)產(chǎn)拋光液加工

氧化鋁拋光液是以超細(xì)氧化鋁為磨料的拋光液,主要成分是微米或亞微米級(jí)的磨料。蘇州堿性拋光液價(jià)格查詢

藍(lán)寶石研磨液利用聚晶金剛石的特性,在研磨拋光過(guò)程中保持高切削效率的同時(shí)不易對(duì)工件產(chǎn)生劃傷??梢詰?yīng)用在藍(lán)寶石襯底的研磨和減薄、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤(pán)、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。藍(lán)寶石研磨液在藍(lán)寶石襯底方面的應(yīng)用:1.外延片生產(chǎn)前襯底的雙面研磨:多用藍(lán)寶石研磨液研磨一道或多道,根據(jù)**終藍(lán)寶石襯底研磨要求用6um、3um、1um不等。2.LED芯片背面減薄為解決藍(lán)寶石的散熱問(wèn)題,需要將藍(lán)寶石襯底的厚度減薄,從450nm左右減至100nm左右。主要有兩步:先在橫向減薄機(jī)上,用50-70um的砂輪研磨磨去300um左右的厚度;再用拋光機(jī)(秀和、NTS、WEC等)針對(duì)不同的研磨盤(pán)(錫/銅盤(pán)),采用合適的藍(lán)寶石研磨液(水/油性)對(duì)芯片背面拋光,從150nm減至100nm左右。蘇州堿性拋光液價(jià)格查詢