借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。增材制造技術可用于生產(chǎn)復雜結構，傳統(tǒng)制造無法達到。廣東2PP增材制造Photonic Professional GT

采用增材制造技術的情況下，導管的設計空間得以提升，例如可以設計為擁有螺旋形狀的結構，可以將導管橫截面設計為多邊形，也可以在部件內集成多個導管，至少一個可具有圓形橫截面，還可以再導管內表面上制造一組凸起的表面特征，這組凸起的表面特征可以延伸到導管的內部區(qū)域中。與傳統(tǒng)設計及制造方式相比，3D打印導管可以設計為復雜的形狀、輪廓和橫截面，這是使用常規(guī)減法制造技術（例如，鉆孔）無法實現(xiàn)的。在設計時可以將冷卻部件設計成更接近理想的幾何形狀，從而改進流體系統(tǒng)的熱性能。另外，3D打印技術能夠有效控制導管的內表面光潔度及其特征，起到影響流體的流動特性的作用，通過改變導管的內表面特征，可以改變流動特性（例如湍流），這是傳統(tǒng)設計的導管所無法實現(xiàn)的。廣東微納米增材制造哪家好激光增材制造將推動制造業(yè)向數(shù)字化、智能化方向發(fā)展。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發(fā)商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結構。據(jù)該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度、

增材制造（AdditiveManufacturing，AM）俗稱3D打印，融合了計算機輔助設計、材料加工與成型技術、以數(shù)字模型文件為基礎，通過軟件與數(shù)控系統(tǒng)將金屬材料、非金屬材料以及醫(yī)用生物材料，按照擠壓、燒結、熔融、光固化、噴射等方式逐層堆積，制造出實體物品的制造技術。相對于傳統(tǒng)的、對原材料去除－切削、組裝的加工模式不同，是一種“自下而上”通過材料累加的制造方法，從無到有。這使得過去受到傳統(tǒng)制造方式的約束，而無法實現(xiàn)的復雜結構件制造變?yōu)榭赡?。增材制造相比傳統(tǒng)減材制造更加的節(jié)省原料，也更加的節(jié)約能源。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。增材制造與3D技術有什么區(qū)別？想要了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。廣東微納光刻增材制造激光直寫

增材制造為創(chuàng)新設計提供了更多可能性。廣東2PP增材制造Photonic Professional GT

人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產(chǎn)品。全新推出的QuantumX平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。廣東2PP增材制造Photonic Professional GT