Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度了解更多無(wú)掩膜光刻的技術(shù)和產(chǎn)品信息，請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。天津德國(guó)無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

如何能夠利用微納尺寸的旋轉(zhuǎn)軸和鉸鏈改進(jìn)傳感器并為新的傳感器設(shè)計(jì)概念鋪平道路？這正是位于代頓（俄亥俄州）的美國(guó)空軍技術(shù)學(xué)院的科研人員們通過(guò)在光纖上打印具有可活動(dòng)部件的微型3D傳感器所聚焦的課題。內(nèi)置的鉸鏈和微軸給傳感器設(shè)計(jì)帶來(lái)的新的設(shè)計(jì)理念，例如用于流量傳感的微轉(zhuǎn)子，可通過(guò)物***相沉積法來(lái)進(jìn)入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器。光纖上3D打印的流量傳感器（渲染動(dòng)畫(huà)）：轉(zhuǎn)子被安裝在光纖端面的一個(gè)偏心軸上，傳感器的信號(hào)由通過(guò)光纖芯的反射光產(chǎn)生，以實(shí)現(xiàn)流量傳感的應(yīng)用。天津德國(guó)無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)已經(jīng)運(yùn)用在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中。

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才，一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來(lái)進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。

為了進(jìn)一步提升技術(shù)先進(jìn)性，科研人員又在新材料研發(fā)的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術(shù)的情況下，高折射率的光刻膠可進(jìn)一步拓展對(duì)打印結(jié)構(gòu)的光學(xué)性能的調(diào)節(jié)度。另一方面，低自發(fā)熒光的可打印材料非常適用于生物成像領(lǐng)域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發(fā)熒光的IP-Visio已經(jīng)為接下來(lái)的研究提供了進(jìn)一步的可能。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。無(wú)掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù)。

售后支持和服務(wù)擁有超過(guò)14年的微加工技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)努力在短的時(shí)間內(nèi)為客戶提供好的支持。在德國(guó)總部，中國(guó)分公司和美國(guó)分公司，以及通過(guò)Nanoscribe認(rèn)證的經(jīng)銷(xiāo)商提供的銷(xiāo)售服務(wù)和技術(shù)支持。我們的跨學(xué)科和多語(yǔ)言技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)為客戶提供各方面的支持:裝機(jī)、維護(hù)和維修現(xiàn)場(chǎng)和線上的培訓(xùn)課程通過(guò)NanoGuide綜合自助服務(wù)平臺(tái)自助查詢電話、電子郵件和設(shè)備自帶遠(yuǎn)程支持功能基礎(chǔ)操作技巧之外的高階技術(shù)和應(yīng)用支持延長(zhǎng)維修保修合同、升級(jí)服務(wù)、移機(jī)服務(wù)想要了解雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)在微納醫(yī)學(xué)中的應(yīng)用，請(qǐng)關(guān)注Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。天津德國(guó)無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

Quantum X 新型超高速無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的技術(shù)中心是Nanoscribe特別研發(fā)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）。天津德國(guó)無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī)。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實(shí)現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合。天津德國(guó)無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印