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山東微光學(xué)增材制造三維微納米加工系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2024-11-30

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。作為一款真正意義上的全能機型,該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的。增材制造技術(shù)正在改變產(chǎn)品的設(shè)計和生產(chǎn)方式。山東微光學(xué)增材制造三維微納米加工系統(tǒng)

山東微光學(xué)增材制造三維微納米加工系統(tǒng),增材制造

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量??偠灾?,工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。湖北2PP增材制造Quantum X增材制造輪的生產(chǎn)流程也具有很高的靈活性。

山東微光學(xué)增材制造三維微納米加工系統(tǒng),增材制造

Nanoscribe在2021年6月30日推出了頭一個用于熔融石英玻璃微結(jié)構(gòu)的3D微加工商用高精度增材制造工藝和材料——GlassPrintingExplorerSet。新型光樹脂GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心,與Glassomer聯(lián)合研究開發(fā)。據(jù)說這是目前只有一種用于熔融石英玻璃微細(xì)加工的光樹脂,因為高光學(xué)透明度以及出色的熱、機械和化學(xué)性能脫穎而出,為探索生命科學(xué)、微流體、微光學(xué)、材料工程和其他微技術(shù)領(lǐng)域的新應(yīng)用開辟了機會。GlassPrintingExplorerSet能夠高精度3D打印,并且具有耐高溫性、機械和化學(xué)穩(wěn)定性以及光學(xué)透明度。熔融石英玻璃的雙光子聚合(2PP)技術(shù)展現(xiàn)了玻璃產(chǎn)品的出色性能,推動了對生命科學(xué)、微流體、微光學(xué)和其他領(lǐng)域的探索。瑞士弗里堡工程與建筑學(xué)院助理教授兼圖形打印系主任NicolasMuller稱,GP-Silica研究制造復(fù)雜微流體系統(tǒng)方面具有巨大潛力,盡管所需的熱后處理要求很高。

增材制造技術(shù)使用能源有激光、電子束、紫外光等,采用的材料有樹脂、塑料、金屬、陶瓷、蠟等,因其采用的成型方法和使用的成型材料以及依靠的凝結(jié)熱源不同,現(xiàn)在主要分為四類:分層實體制造(LOM)工藝技術(shù);立體光刻(SLA)工藝技術(shù);選擇性激光燒結(jié)(SLS)工藝技術(shù);熔融沉積成型(FDM)工藝技術(shù)。無模具快速自由成型,制造周期短,小批量零件生產(chǎn)成本低。增材制造技術(shù)因為只需要有加工原料和加工設(shè)備就能夠進行產(chǎn)品加工,不需要機械加工和工裝模具,可以實現(xiàn)一次成型,節(jié)約了零件的不同工序加工和組裝消耗的時間,進行單件小批量的生產(chǎn)時,增材制造的成本低。傳統(tǒng)加工制造需要原料采購、準(zhǔn)備,并且加工過程中還需要不同工序的輪換加工,加工完后還需要進行零件的組裝等等,而這無形之間延長了產(chǎn)品的生產(chǎn)周期,同時也不經(jīng)濟。增材制造可實現(xiàn)個性化定制生產(chǎn)。

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。3D打印技術(shù)可用于制造輕量化零部件。山東微納米增材制造PPGT2

如需了解增材制造技術(shù)的信息,請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。山東微光學(xué)增材制造三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。光學(xué)和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達標(biāo)的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預(yù)先設(shè)計的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu),包括光子集成電路,光纖頂端和預(yù)制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點山東微光學(xué)增材制造三維微納米加工系統(tǒng)