QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾?，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應用。

雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。上海工業(yè)級增材制造激光直寫

雖然半導體行業(yè)一直在使用3D打印技術(shù)，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構(gòu)成了光刻或制造機器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關(guān)于他們應用3D打印技術(shù)的內(nèi)幕，因為他們想確保的競爭優(yōu)勢。至少，對外界揭示其優(yōu)化設備性能的技術(shù)，這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結(jié)構(gòu)一體化實現(xiàn)，根據(jù)3D科學谷的市場觀察，增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統(tǒng)能夠更接近理論上預期的工作環(huán)境，而不是在機器操作上做出妥協(xié)山東德國增材制造Photonic Professional GT增材制造技術(shù)具有高的堅固性，穩(wěn)定性，耐用性。

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK 集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合 (2PP) 增材制造能力的生物科技公司。 Nanoscribe公司 的 2PP 技術(shù)能夠在亞細胞尺度上對血管微環(huán)境進行生物打印，適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術(shù)未來也將助力集團的相關(guān)產(chǎn)品線開發(fā)，用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。 CELLINK集團的前列宏觀結(jié)構(gòu)生物打印技術(shù)與 Nanoscribe 公司的微觀結(jié)構(gòu)生物打印技術(shù)相結(jié)合做到了強強聯(lián)手的協(xié)作效應，可以實現(xiàn)更逼真的組織結(jié)構(gòu)，例如血管化和細胞支持體等。 2PP 技術(shù)將實現(xiàn)CELLINK集團所有三個業(yè)務的跨領(lǐng)域應用，并增強集團的耗材產(chǎn)品開發(fā)和供應。 “借助 Nanoscribe 先進的 2PP 技術(shù)，我們可以實現(xiàn)擴大補充我們的產(chǎn)品組合，為我們的客戶提供更廣的產(chǎn)品。” 

借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術(shù)還可以應用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。

走進Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司學習增材制造技術(shù)。

  Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！癙hotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產(chǎn)品，在科學研究中得到了較廣的應用，并在哈佛大學納米系統(tǒng)中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學和慶應義塾大學使用。 想要了解增材制造和傳統(tǒng)減材制造的區(qū)別，請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。上海工業(yè)級增材制造激光直寫

Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您簡述增材制造技術(shù)的應用。上海工業(yè)級增材制造激光直寫

  Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。  上海工業(yè)級增材制造激光直寫