灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù)，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu)，對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu)，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術(shù)進行復制。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。重慶高精度灰度光刻技術(shù)3D打印

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。湖北德國灰度光刻三維光刻雙光子灰度光刻技術(shù)多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

全新的Quantum X無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學元件。 作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。全新的Nanoscribe Quantum X系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。而且Quantum X提供了完全的設(shè)計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度?？焖?、準確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期，實現(xiàn)了低成本的微納加工。

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學府和高科技單位所采用，例如哈佛大學，牛津大學等出名的院校，華為公司等。可應(yīng)用于微納機器人，再生醫(yī)學工程，微納光學，力學超材料等不同領(lǐng)域。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)Quantum X。江蘇工業(yè)級灰度光刻三維光刻

雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學衍射以及折射元件。重慶高精度灰度光刻技術(shù)3D打印

隨著現(xiàn)在科學技術(shù)的發(fā)展，儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進的發(fā)展，再加上當前計算機技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的進步和發(fā)展，組建網(wǎng)絡(luò)而構(gòu)成實用的監(jiān)控系統(tǒng)，可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化、多功能化、智能化、網(wǎng)絡(luò)化四大發(fā)展趨勢。為迎接生產(chǎn)型百年未有之大變局，行家認為，要重新定義中國在世界經(jīng)濟版圖中的地位，要順應(yīng)形勢實現(xiàn)制造升級。以華立集團在境外開發(fā)“中國工業(yè)園”的成功案例來闡述，跨國經(jīng)營要成為企業(yè)主動的戰(zhàn)略選擇，在不確定性中更好地活下去，以全球化視野看問題，很多困惑在全球化過程中會迎刃而解。進一步提升我國儀器儀表技術(shù)和水平，外商獨資企業(yè)企業(yè)要順應(yīng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流，在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時，進一步發(fā)展智能儀器儀表，提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化、智能化、集成化水平。伴隨移動互聯(lián)網(wǎng)的爆發(fā)式增長，如今，它已經(jīng)漸漸取代電子商務(wù)成為了整個互聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)增速極快的領(lǐng)域，而移動終端的入口也隨即成為了傳統(tǒng)行業(yè)的必爭之地。PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè)進軍移動互聯(lián)網(wǎng)實現(xiàn)線上發(fā)展勢在必行。重慶高精度灰度光刻技術(shù)3D打印

納糯三維科技（上海）有限公司是一家有著先進的發(fā)展理念，先進的管理經(jīng)驗，在發(fā)展過程中不斷完善自己，要求自己，不斷創(chuàng)新，時刻準備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司，在上海市等地區(qū)的儀器儀表中匯聚了大量的人脈以及**，在業(yè)界也收獲了很多良好的評價，這些都源自于自身不努力和大家共同進步的結(jié)果，這些評價對我們而言是比較好的前進動力，也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強、一往無前的進取創(chuàng)新精神，努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個新高度，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同納糯三維科技供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來，創(chuàng)造更有價值的產(chǎn)品，我們將以更好的狀態(tài)，更認真的態(tài)度，更飽滿的精力去創(chuàng)造，去拼搏，去努力，讓我們一起更好更快的成長！