Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。上海高精度無掩膜光刻無掩光刻
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。總而言之,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程、微流體、微納光學(xué)、微機械和微電子機械系統(tǒng)(MEMS)等)。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。上海高精度無掩膜光刻無掩光刻無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術(shù)的便利,很大程度提高了無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。
世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。想要了解無掩膜光刻的特點和用途,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。
QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計自由度,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。北京工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)
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QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量??偠灾?,工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時間。上海高精度無掩膜光刻無掩光刻
納糯三維科技(上海)有限公司是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,技術(shù)服務(wù),三維打印設(shè)備,光電機一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進出口,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢。的公司,致力于發(fā)展為創(chuàng)新務(wù)實、誠實可信的企業(yè)。納糯三維擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊,以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)。納糯三維不斷開拓創(chuàng)新,追求出色,以技術(shù)為先導(dǎo),以產(chǎn)品為平臺,以應(yīng)用為重點,以服務(wù)為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,提供更優(yōu)服務(wù)。納糯三維始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時代,對自身的建設(shè)毫不懈怠,高度的專注與執(zhí)著使納糯三維在行業(yè)的從容而自信。