光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。 目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。 廣西廠家掩膜版性價(jià)比高

掩膜版的種類 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明樹脂 遮光膜 （1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。 （2）乳膠。 掩膜版的制作方法 濺鍍法（Sputtering）： （1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材； 下平行板：作為濺鍍對(duì)象的玻璃基板。 （2）將氬氣（Ar 2 ）通入反應(yīng)艙中形成等離子體； 氬離子（Ar + ）在電場(chǎng)中被加速后沖撞靶材； 受沖擊的靶材原子會(huì)沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。寧夏優(yōu)良掩膜版值得信賴

光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還***的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見(jiàn)的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過(guò)濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應(yīng)用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過(guò)干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。

掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下***業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。通俗點(diǎn)理解，掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。 掩膜版主要用于下游電子元器件制造業(yè)的批量生產(chǎn)，是下***業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。 公司根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機(jī)在原材料上光刻出相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產(chǎn)成品。

掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微細(xì)光掩膜圖形的感光空白板。通過(guò)光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。 掩膜版對(duì)下***業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案，通過(guò)透光與非透光的方式進(jìn)行圖像（電路圖形）復(fù)制，從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。 公司生產(chǎn)的掩膜版產(chǎn)品根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。 產(chǎn)品主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等行業(yè)，是下***業(yè)產(chǎn)品制程中的關(guān)鍵工具。廣東**掩膜版值得信賴

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光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分***，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等. 光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。廣西廠家掩膜版性價(jià)比高

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