光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。 目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。 江蘇掩膜版

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和電路板行業(yè)的影響，與下游終端行業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)密切相關(guān)。 在光刻掩膜版領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)廠商與國(guó)外先進(jìn)技術(shù)存在一定差距。目前，光罩的**技術(shù)主要掌握在日本的HOYA、SKE，韓國(guó)的LG Micron、PKL以及我國(guó)中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)的AIPC等企業(yè)手中，由于其對(duì)于光掩膜版的關(guān)鍵技術(shù)與設(shè)備進(jìn)行了較為嚴(yán)格的***，所以導(dǎo)致國(guó)內(nèi)廠商在技術(shù)上與國(guó)外專業(yè)廠商相比存在一定的差距。 未來幾年我國(guó)掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細(xì)化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展，因此在需求持續(xù)增加的情況下，影響光掩膜行業(yè)發(fā)展的比較大因素還是技術(shù)的研究情況。 陜西掩膜版性價(jià)比高

光掩膜概述： 光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。光掩膜主要由兩部分組成：基板和不透光材料。 作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。 光掩膜的應(yīng)用領(lǐng)域： 光掩膜主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示（包括 LCD、LED、OLED）、印刷電路板等領(lǐng)域，應(yīng)用較為***。

掩膜版的種類 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明樹脂 遮光膜 （1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。 （2）乳膠。 掩膜版的制作方法 濺鍍法（Sputtering）： （1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材； 下平行板：作為濺鍍對(duì)象的玻璃基板。 （2）將氬氣（Ar 2 ）通入反應(yīng)艙中形成等離子體； 氬離子（Ar + ）在電場(chǎng)中被加速后沖撞靶材； 受沖擊的靶材原子會(huì)沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。

光刻掩膜版的工藝過程： 1） 繪制生成設(shè)備可以識(shí)別的掩膜版版圖文件（GDS格式） 2） 使用無掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長(zhǎng)405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng) 3） 經(jīng)過顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層 4） 使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。 5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。 其中掩膜版圖形數(shù)據(jù)由用戶自行設(shè)計(jì)并提交，后續(xù)加工工藝由工程師完成。由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對(duì)所提交的版圖文件仔細(xì)核對(duì)，確保圖形正確性。江蘇掩膜版

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掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下***業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。通俗點(diǎn)理解，掩膜版的功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。 掩膜版主要用于下游電子元器件制造業(yè)的批量生產(chǎn)，是下***業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。 公司根據(jù)客戶所需要的圖形，用光刻機(jī)在原材料上光刻出相應(yīng)的圖形，將不需要的金屬層和膠層洗去，即得到掩膜版產(chǎn)成品。江蘇掩膜版

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