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無(wú)錫高效電鍍銅

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-11

光伏電鍍銅裝備插片式電鍍:將待鍍電池設(shè)置在陰極導(dǎo)電支架上,向下插入使一個(gè)導(dǎo)電支撐單元位于相鄰兩個(gè)陽(yáng)極板組件之間以實(shí)現(xiàn)電鍍。根據(jù)相關(guān)描述,該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)雙面電鍍,單線(xiàn)可做到14000整片/小時(shí),破片率<0.02%,提高了裝置產(chǎn)能和電鍍質(zhì)量,降低了不良率,結(jié)構(gòu)合理、占地面積小。此外,根據(jù)相關(guān)技術(shù)通過(guò)將電池片設(shè)置在導(dǎo)電支撐單元上,移動(dòng)陰極導(dǎo)電花籃使導(dǎo)電支撐單元在多個(gè)陽(yáng)極單元的陽(yáng)極板組件間移動(dòng)以實(shí)現(xiàn)電鍍;該電鍍裝置產(chǎn)能可達(dá)24000整片/小時(shí),電鍍均勻性更好,提高了電鍍質(zhì)量,減少了碎片風(fēng)險(xiǎn)電鍍銅工藝是一種低成本、高效的金屬表面處理技術(shù),能夠提高生產(chǎn)效率和降低成本。無(wú)錫高效電鍍銅

無(wú)錫高效電鍍銅,電鍍銅

光伏電鍍銅的技術(shù)采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線(xiàn)電極,實(shí)現(xiàn)整片電池的工藝轉(zhuǎn)換,打破瓶頸,創(chuàng)新行業(yè)發(fā)展。光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對(duì)光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實(shí)現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差,甚至可以實(shí)現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。太陽(yáng)能電池電鍍銅技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)不僅可提升太陽(yáng)能電池板效能,而且可大規(guī)模降低成本。以開(kāi)掘市場(chǎng)潛力,全新的電鍍工藝旨在進(jìn)一步針對(duì)低成本電池的需求。深圳電鍍銅產(chǎn)線(xiàn)HJT電鍍銅疊層技術(shù)路線(xiàn)。

電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類(lèi)光刻/LDI 激光直寫(xiě)/激光 開(kāi)槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。

電鍍銅導(dǎo)電性與發(fā)電效率雙重提升金屬柵線(xiàn)電極與透明導(dǎo)電膜之間形成一個(gè)非整流的接觸——?dú)W姆接觸,歐姆接觸效果決定電池導(dǎo)電性與發(fā)電效率能否達(dá)到適合。影響歐姆接觸效果的因素有接觸面緊密結(jié)合度、柵線(xiàn)材料電阻率,電阻率越大,電池片對(duì)電子或載流子的負(fù)荷越高,電子或載流子的通過(guò)率越差。銅柵線(xiàn)導(dǎo)電性強(qiáng)于銀漿。銅的導(dǎo)電性與銀相近,但銀漿屬于混合物膠體,銅柵線(xiàn)是純銅,因此銅柵線(xiàn)的電阻率更低,銅柵線(xiàn)電阻率是1.7Ω/m,銀漿的電阻率大約為5-10Ω/m。電鍍銅工藝流程,圖形化和金屬化為重點(diǎn)心。

電鍍銅設(shè)備工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類(lèi)光刻/LDI 激光直寫(xiě)/激光 開(kāi)槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。電鍍銅技術(shù)不斷發(fā)展,為未來(lái)科技和綠色可持續(xù)發(fā)展提供了強(qiáng)有力的支持。成都專(zhuān)業(yè)電鍍銅

光伏電鍍銅設(shè)備圖形轉(zhuǎn)移技術(shù), 會(huì)用到曝光機(jī)、油墨印刷機(jī)等。無(wú)錫高效電鍍銅

光伏電鍍銅設(shè)備工藝銅柵線(xiàn)更細(xì),線(xiàn)寬線(xiàn)距尺寸小,發(fā)電效率更高。柵線(xiàn)細(xì)、線(xiàn)寬線(xiàn)距小意味著柵線(xiàn)密度更大,更多的柵線(xiàn)可以更好地將光照產(chǎn)生的內(nèi)部載流子通過(guò)電流形式導(dǎo)出電池片,從而提高發(fā)電效率,銅電鍍技術(shù)電池轉(zhuǎn)化效率比絲網(wǎng)印刷高0.3%~0.5%。①低溫銀漿較為粘稠,印刷寬度更寬。高溫銀漿印刷線(xiàn)寬可達(dá)到20μm,但是低溫銀漿印刷的線(xiàn)寬大約為40μm。②銅電鍍銅離子沉積只有電子交換,柵線(xiàn)寬度更小。銅電鍍的線(xiàn)寬大約為20μm,采用類(lèi)半導(dǎo)體的光刻技術(shù)可低于20μm。無(wú)錫高效電鍍銅