高效HJT電池整線裝備，PVD優(yōu)點沉積速度快、基材溫升低；所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好；濺射工藝可重復(fù)性好，精確控制厚度；膜層粒子的散射能力強，繞鍍性好；不同的金屬、合金、氧化物能夠進行混合，同時濺射于基材上；缺點：常規(guī)平面磁控濺射技術(shù)靶材利用率不高，一般低于40％；在輝光放電中進行，金屬離化率較低。反應(yīng)等離子體沉，RPD優(yōu)點：對襯底的轟擊損傷??；鍍層附著性能好，膜層不易脫落；源材料利用率高，沉積速率高；易于化合物膜層的形成，增加活性；鍍膜所使用的基體材料和膜材范圍廣。缺點：薄膜中的缺陷密度較高，薄膜與基片的過渡區(qū)較寬，應(yīng)用中受到限制（特別是電子器件和IC）；薄膜中含有氣體量較高。HJT電池在未來的能源結(jié)構(gòu)中具有重要地位，有望成為主流的能源轉(zhuǎn)換技術(shù)之一。西安單晶硅HJT設(shè)備供應(yīng)商

HJT電池整線技術(shù)路線工藝 1.清洗制絨。通過腐蝕去除表面損傷層，并且在表面進行制絨，以形成絨面結(jié)構(gòu)達到陷光效果，減少反射損失；2.正面/背面非晶硅薄膜沉積。通過CVD方式在正面/背面分別沉積5~10nm的本征a-Si:H，作為鈍化層，然后再沉積摻雜層；3.正面/背面TCO沉積。通過PVD在鈍化層上面進行TCO薄膜沉積；4.柵線電極。通過絲網(wǎng)印刷進行柵線電極制作；5.烘烤(退火)。通過絲網(wǎng)印刷進行正面柵線電極制作，然后通過低溫燒結(jié)形成良好的接觸；6.光注入。7.電池測試及分選。浙江高效HJTPVDHJT電池的高效性使其在太陽能發(fā)電領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。

“零界”高效異質(zhì)結(jié)電池整線制造解決方案已實現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化，該解決方案疊加了雙面微晶、無銀或低銀金屬化工藝，提升了太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率、良率和產(chǎn)能，并極大降低了生產(chǎn)成本。釜川以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強大的科研團隊，憑借技術(shù)競爭力，在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面的有獨特優(yōu)勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。

HJT電池所有制程的加工溫度均低于250，避免了生產(chǎn)效率低而成本高的高溫擴散制結(jié)的過程，而且低溫工藝使得a-Si薄膜的光學帶隙、沉積速率、吸收系數(shù)以及氫含量得到較精確的控制，也可避免因高溫導(dǎo)致的熱應(yīng)力等不良影響。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強大的科研團隊，憑借技術(shù)競爭力，在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨特優(yōu)勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。HJT電池具有高效率、低成本、長壽命等優(yōu)勢，是未來光伏產(chǎn)業(yè)的重要發(fā)展方向。

高效HJT電池為對稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。釜川以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。 HJT裝備與材料：包含制絨清洗設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、金屬化設(shè)備等。 電鍍銅設(shè)備：采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，具備低成本、高效率等優(yōu)勢。光伏HJT電池PECVD是制備PIN層的主流設(shè)備，其結(jié)構(gòu)和工藝機理復(fù)雜，影響因素眾多，需要專業(yè)公司制備。廣東自動化HJT材料

HJT電池是高效晶體硅電池的一種，具有高效率、低衰減、耐高溫等優(yōu)點。西安單晶硅HJT設(shè)備供應(yīng)商

HJT電池生產(chǎn)設(shè)備，制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層；2利用KOH腐蝕液對n型硅片進行各項異性腐蝕，將Si（100）晶面腐蝕為Si（111）晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)（“金字塔結(jié)構(gòu)”），即在硅片表面形成絨面，可將硅片表面反射率降低至12.5%以下，從而產(chǎn)生更多的光生載流子；3形成潔凈硅片表面，由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分，避免不潔凈引進的缺陷和雜質(zhì)而帶來的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時，單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯，速度的比值被稱為各向異性因子(anisotropicfactorAF)；因此改變堿溶液的濃度及溫度，可以有效地改變AF，使得在不同方向上的速度不同，在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面；在制絨工序，絨面大小為主要指標，一般可通過添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時間等來進行調(diào)節(jié)控制。西安單晶硅HJT設(shè)備供應(yīng)商