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來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-17

其常見的靶材及其應(yīng)用:如碲化銦(IndiumSelenide,InSe)靶材:碲化銦是一種半導(dǎo)體材料,具有優(yōu)異的光電性能和可調(diào)諧的能帶結(jié)構(gòu)。它被廣泛應(yīng)用于太陽能電池、光電二極管、光伏探測器、紅外光電探測器等器件的制備中。如碲化鎘(CadmiumSelenide,CdSe)靶材:碲化鎘是一種半導(dǎo)體材料,具有高效的光電轉(zhuǎn)換效率和優(yōu)異的光學(xué)性能。它被廣泛應(yīng)用于太陽能電池、光電傳感器、藍(lán)光發(fā)光二極管等器件的制備中。如氧化銦錫(IndiumTinOxide,ITO)靶材:氧化銦錫是一種具有透明導(dǎo)電性的材料,被廣泛應(yīng)用于太陽能電池、液晶顯示器、觸摸屏等器件的制備中。如銅銦鎵硒(CopperIndiumGalliumSelenide,CIGS)靶材:銅銦鎵硒是一種多元化合物材料,是制備高效太陽能電池的重要材料之一。它具有高吸收系數(shù)、較高的轉(zhuǎn)化效率和穩(wěn)定性,是一種具有潛力的太陽能電池材料。降低復(fù)位電流可降低存儲(chǔ)器的耗電量,延長電池壽命和提高數(shù)據(jù)帶寬。廣東顯示行業(yè)靶材多少錢

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四、應(yīng)用建議:1.觸摸屏和顯示器:-在制備觸摸屏和液晶顯示器(LCD)、有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)等顯示設(shè)備的透明導(dǎo)電膜(TCF)時(shí),建議使用高純度、粒度細(xì)小的ITO靶材以獲得良好的透明度和電導(dǎo)率。-控制濺射功率和基板溫度,可以優(yōu)化膜層的均勻性和附著力。2.光伏組件:-對(duì)于太陽能電池,如薄膜太陽能電池,使用ITO靶材可以增加電池的光電轉(zhuǎn)換效率。-建議使用低溫濺射工藝,避免高溫對(duì)光伏材料的潛在損傷。3.光電器件:-在LED和激光二極管等光電器件中,ITO薄膜作為電流擴(kuò)散層或者抗反射層。-為了提高器件性能,應(yīng)選擇電導(dǎo)率和透光率均衡的ITO靶材,并優(yōu)化濺射參數(shù)以降低薄膜的光學(xué)損耗。4.傳感器:-在氣體傳感器、生物傳感器等領(lǐng)域,ITO薄膜常用于制作敏感層或電極。-建議根據(jù)傳感器的敏感性要求選擇合適的靶材,并在制備過程中嚴(yán)格控制靶材的純度和厚度。5.防靜電涂層和電磁屏蔽:-ITO薄膜的導(dǎo)電性使其成為電子設(shè)備防靜電干擾和電磁屏蔽的理想材料。-應(yīng)考慮薄膜的導(dǎo)電性與透明度之間的平衡,并選擇適合的靶材以滿足不同環(huán)境的需求。結(jié)合ITO靶材的性能參數(shù)和具體應(yīng)用場景,對(duì)濺射工藝進(jìn)行優(yōu)化。中國香港氧化鋅靶材復(fù)合材料靶材由兩種或兩種以上材料組成。

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(1)靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的**部分,涉及高純金屬、晶粒取向調(diào)控。在濺射鍍膜過程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。(2)背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,涉及焊接工藝。由于高純度金屬強(qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在**的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過程。機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境,因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。

FPD和導(dǎo)電玻璃的尺寸都相當(dāng)火,導(dǎo)電玻璃的寬度甚至可以達(dá)到3133mm,為了提高靶材的利用率,開發(fā)了不同形狀的ITO靶材,如圓柱形等。2000年,國家發(fā)展計(jì)劃委員會(huì)、科學(xué)技術(shù)部在《當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的信息產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)領(lǐng)域指南》中,ITO大型靶材也列入其中。在儲(chǔ)存技術(shù)方面,高密度、大容量硬盤的發(fā)展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展,用它制造的磁光盤具有存儲(chǔ)容量大,壽命長,可反復(fù)無接觸擦寫的特點(diǎn)。如今開發(fā)出來的磁光盤,具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu),TbFeCo/AI結(jié)構(gòu)的Kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58,而TbFeCofFa則可以接近0.8。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn),低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強(qiáng)度。背板通過焊接工藝和靶坯連接,起到固定靶坯的作用。

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以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設(shè)備原理簡單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為***,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,如今,常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。靶材,也稱為濺射靶材,是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。氧化鋅靶材市場價(jià)

靶材的發(fā)展趨勢是:高濺射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高純金屬。廣東顯示行業(yè)靶材多少錢

三、靶材的制備方法靶材的制備方法有多種,包括物***相沉積、濺射、電子束蒸發(fā)、化學(xué)氣相沉積、磁控濺射等。通常需要根據(jù)實(shí)驗(yàn)的需要,選擇合適的制備方法和材料。四、靶材的應(yīng)用領(lǐng)域靶材在各個(gè)領(lǐng)域中都有重要應(yīng)用,以下是其中的幾個(gè)方面:1.物理學(xué)和核物理學(xué):靶材在核物理學(xué)實(shí)驗(yàn)中廣泛應(yīng)用,如離子束慢化、中子束散裂等。2.醫(yī)學(xué):靶材和放射性同位素結(jié)合應(yīng)用于放射***和放射性示蹤。3.電子學(xué):靶材在電子顯微技術(shù)、集成電路和光電子器件制備中應(yīng)用***。4.材料科學(xué)和工程學(xué):靶材在材料表征、薄膜制備、涂層技術(shù)等方面有廣泛應(yīng)用。總之,靶材作為產(chǎn)生粒子束的重要材料,在各個(gè)研究領(lǐng)域中都有廣泛的應(yīng)用前景。廣東顯示行業(yè)靶材多少錢

標(biāo)簽: 靶材 陶瓷靶材