靶材是半導(dǎo)體薄膜沉積的關(guān)鍵材料,是一種用于濺射沉積的高純度材料。根據(jù)半導(dǎo)體材料的種類(lèi),靶材可分為多種類(lèi)型,包括硅(Si)、氮化硅(Si3N4)、氧化物(如二氧化硅、三氧化二鋁等)、化合物半導(dǎo)體(如砷化鎵GaAs、氮化鋁AlN等)以及其他材料。這些靶材都是經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的制備工藝,以保證其高純度、均勻性和穩(wěn)定性。靶材的制備工藝包括多個(gè)步驟,如原料選材、原料制備、壓制成型、高溫?zé)Y(jié)等過(guò)程。原料選材是靶材制備的重要一步,需要選擇高純度的原料,通常采用化學(xué)還原法、真空冶煉法、機(jī)械合成法等方法。在壓制成型的過(guò)程中,選用合適的成型模具和壓力,使得形成的靶材密度和形狀均勻一致。高溫?zé)Y(jié)是為了進(jìn)一步提高靶材的密度和強(qiáng)度,通常采用高溫?zé)Y(jié)爐,在高溫下進(jìn)行持續(xù)燒結(jié)過(guò)程。CoF~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用很多的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。安徽功能性靶材售價(jià)
靶材的選擇和使用注意事項(xiàng)選擇靶材時(shí)的考慮因素:物理和化學(xué)屬性:包括靶材的熔點(diǎn)、導(dǎo)電性、化學(xué)穩(wěn)定性等。例如,高溫應(yīng)用通常需要選擇高熔點(diǎn)、化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)的陶瓷靶材。成本效益:在保證性能的前提下,考慮靶材的經(jīng)濟(jì)性是重要的。一些高性能材料可能成本較高,需要平衡性能和成本。與應(yīng)用領(lǐng)域的兼容性:確保所選材料適合特定的應(yīng)用,如電子器件制造、光伏行業(yè)或材料科學(xué)研究等。使用靶材時(shí)的挑戰(zhàn):蒸發(fā)率控制:特別是在使用金屬靶材時(shí),高溫下的蒸發(fā)率控制是關(guān)鍵,以保證薄膜的均勻性和質(zhì)量。薄膜的均勻性和純度:這直接影響到最終產(chǎn)品的性能。薄膜的均勻性和純度取決于靶材的質(zhì)量和沉積過(guò)程的精確控制。設(shè)備調(diào)整和工藝控制:精確的設(shè)備調(diào)整和工藝控制對(duì)于解決上述問(wèn)題至關(guān)重要。這包括溫度控制、沉積速率和氣氛控制等。河北功能性靶材售價(jià)鎢鈦合金靶材在微電子制造中用于沉積防腐蝕和導(dǎo)電層。
靶材,就像它的名字暗示的那樣,可以想象成射箭時(shí)箭靶的那塊區(qū)域,只不過(guò)在我們討論的科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域里,這個(gè)“箭靶”被用于非常特殊的目的。在物理、材料科學(xué)或者電子制造等行業(yè)中,靶材是一塊通常由金屬或其他材料制成的堅(jiān)固板材,它被用作物***相沉積(PVD)等技術(shù)中的一個(gè)關(guān)鍵組成部分。在這些過(guò)程中,靶材表面的材料會(huì)被高能粒子(比如離子)轟擊,從而使得靶材表面的一部分材料被“擊出”并沉積到另一塊材料(比如晶片、鏡片等)上,形成一層薄薄的涂層。
(2)制造加工:塑性變形、熱處理、控制晶粒取向:需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設(shè)計(jì),然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱處理,需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo),再經(jīng)過(guò)焊接、機(jī)械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。靶材制造涉及的工序精細(xì)繁多,技術(shù)門(mén)檻高、設(shè)備投資大,具有規(guī)?;a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少。靶材制造的方法主要有熔煉法與粉末冶金法。熔煉法主要有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉、真空電子束熔煉等方法,通過(guò)機(jī)械加工將熔煉后的鑄錠制備成靶材,該方法得到的靶材雜質(zhì)含量低、密度高、可大型化、內(nèi)部無(wú)氣孔,但若兩種合金熔點(diǎn)、密度差異較大則無(wú)法形成均勻合金靶材。粉末冶金法主要有熱等靜壓法、熱壓法、冷壓-燒結(jié)法三種方法,通過(guò)將各種原料粉混合再燒結(jié)成形的方式得到靶材,該方法優(yōu)點(diǎn)是靶材成分較為均勻、機(jī)械性能好,缺點(diǎn)為含氧量較高。由于氧化鋁靶材高硬度和耐磨性,常用于切割工具的涂層。
此外密切關(guān)注靶材在濺射過(guò)程中的行為,如溫度變化、靶材消耗速率等,可以幫助進(jìn)一步提升薄膜的質(zhì)量和性能。五、存儲(chǔ)與保養(yǎng):1.存儲(chǔ)條件:-ITO靶材應(yīng)存放在干燥、清潔、溫度穩(wěn)定的環(huán)境中,以防止因濕度和溫度變化導(dǎo)致的物理結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分的變化。-應(yīng)避免靶材與腐蝕性氣體和液體接觸,因此,密封包裝是存儲(chǔ)時(shí)的好選擇。2.防塵措施:-在搬運(yùn)和存放過(guò)程中,需要確保靶材表面不被灰塵和其他污染物覆蓋,以免影響濺射效果。使用無(wú)塵布或**保護(hù)膜覆蓋靶材表面是一種有效的方法。3.溫度控制:-盡管ITO靶材穩(wěn)定性好,但極端溫度依然會(huì)影響其性能。理想的存儲(chǔ)溫度通常在15至25攝氏度之間。包括切割、磨削、拋光等,確保靶材具有平滑的表面和精確的尺寸。遼寧光伏行業(yè)靶材價(jià)錢(qián)
復(fù)合材料靶材由兩種或兩種以上材料組成。安徽功能性靶材售價(jià)
以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單,在濺射金屬時(shí),其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為***,除可濺射導(dǎo)電材料外,也可濺射非導(dǎo)電的材料,同時(shí)還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射,如今,常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。安徽功能性靶材售價(jià)