在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面,以很高的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。鋁靶材則廣泛應用于鏡面反射層的制作。北京氧化鋅靶材多少錢
鎢(元素符號W),銀白色重金屬,過渡金屬的一員。在元素周期表中位于第6族,原子序數(shù)為74。鎢的*****特性是它擁有所有金屬中比較高的熔點,高達3422°C,同時也具有很高的沸點(約5555°C)。這種獨特的高溫性能使鎢成為許多高溫應用場合的理想材料。鎢的密度接近于金,約為19.25g/cm3,僅次于鈾和金。它具有非常好的強度和硬度,即使在極高溫度下也能保持這些性質(zhì),這在金屬中是非常罕見的。此外,鎢還具有良好的耐腐蝕性,不會在空氣中氧化,即使在高溫下也能抵抗大多數(shù)酸和堿的腐蝕。鎢的用途非常***。在工業(yè)中,鎢主要用于硬質(zhì)合金的生產(chǎn),這種合金在切削工具、鉆頭、模具等方面有著重要應用。此外,由于其高密度和良好的機械性能,鎢也常用于***領域,例如作為穿甲彈的材料。在科學研究和醫(yī)療設備中,鎢因其優(yōu)異的高溫性能被***用作靶材,尤其是在X射線管中。作為靶材,鎢主要用于產(chǎn)生X射線或作為電子束技術的焦點。靶材是放射源裝置中的關鍵組件,它們的作用是被高速電子撞擊,從而產(chǎn)生X射線。鎢靶材因其高熔點、高密度和良好的導熱性能,能夠在受到強烈電子束轟擊時保持穩(wěn)定,不容易熔化或損壞,這使得它成為醫(yī)療影像和材料分析等領域的優(yōu)先材料。北京鍍膜靶材多少錢并且背板需要具備導熱導電性。
4.防潮措施:-存儲區(qū)域的相對濕度應保持在40%至60%之間??梢允褂酶稍飫┖蜐穸瓤刂葡到y(tǒng)來維持適宜的濕度。5.保養(yǎng)和清潔:-定期檢查靶材的完整性,如果發(fā)現(xiàn)裂紋或者其他損傷,應避免使用。-在清潔靶材時,應使用高純度酒精或去離子水輕輕擦拭,不宜使用有機溶劑或者酸堿性強的清潔劑。6.使用前的準備:-在靶材裝入濺射設備前,應在潔凈室環(huán)境下進行再次清潔,確保表面無污染。-濺射前進行一段時間的預濺射,以去除靶材表面可能存在的輕微雜質(zhì)。7.保養(yǎng)記錄:-建議建立靶材使用和保養(yǎng)記錄,詳細記錄每次使用情況和存儲條件,以便跟蹤性能變化并及時做出調(diào)整。通過遵循以上存儲和保養(yǎng)建議,可以有效延長ITO靶材的使用壽命,確保濺射過程的穩(wěn)定性和薄膜的高質(zhì)量。
適宜的存儲環(huán)境:應將鎳靶材存放在干燥、陰涼、通風良好的環(huán)境中。避免高濕度和極端溫度,因為這些條件可能導致材料氧化或其他化學變化。防止污染:存儲鎳靶材時,應避免與其他化學品或污染源直接接觸,以防止表面污染或化學反應。防塵措施:在存儲和搬運過程中,需保持環(huán)境的潔凈,避免塵埃和顆粒物沉積在靶材表面,這些顆粒可能影響其在濺射過程中的性能。包裝和防護:使用原廠包裝或適當?shù)姆雷o材料(如防靜電袋)進行封裝,保護鎳靶材不受物理損傷或環(huán)境影響。定期檢查:定期檢查鎳靶材的狀態(tài),特別是在長期存儲后。檢查是否有氧化、變色或其他形式的退化。正確搬運:在搬運鎳靶材時,應小心輕放,避免跌落或撞擊,因為物理損傷可能影響材料的結構和性能。使用后的處理:使用過的鎳靶材應根據(jù)其化學和物理狀態(tài)妥善處理。如果有可回收價值,應考慮回收再利用。粉末冶金是一種常用的靶材制備方法,尤其適用于金屬和陶瓷材料。
a.選擇適合的鎢靶材規(guī)格針對不同的應用領域和設備,選擇合適規(guī)格和尺寸的鎢靶材至關重要。例如,在半導體制造中,應選擇高純度、精細晶體結構的靶材;而在X射線生成應用中,則可能需要更大尺寸和特定形狀的靶材。b.控制使用環(huán)境鎢靶材的性能在很大程度上取決于使用環(huán)境。維持合適的溫度和壓力條件,避免化學腐蝕和物理損傷是確保靶材穩(wěn)定運行的關鍵。在高溫應用中應特別注意散熱問題。c.配合適當?shù)募夹g和設備為了比較大限度地發(fā)揮鎢靶材的性能,建議配合使用適當?shù)募夹g和設備。例如,在電子束或X射線應用中,應使用能夠準確控制能量和焦點的設備。d.遵循安全指南在處理和使用鎢靶材時,遵循安全操作規(guī)程非常重要。應提供適當?shù)姆雷o措施,如防輻射和防化學危害的裝備,并確保工作人員了解相關安全知識。e.考慮靶材的回收和再利用鑒于鎢資源的珍貴和環(huán)境影響,考慮鎢靶材的回收和再利用是推薦的做法。這不僅有助于成本節(jié)約,也符合可持續(xù)發(fā)展的原則。對靶材進行表面處理可以提高其性能,例如提高耐腐蝕性或改變表面的電學特性。河南氧化物靶材價錢
CoF~Cu多層復合膜是如今應用很多的巨磁阻薄膜結構。北京氧化鋅靶材多少錢
靶材是半導體薄膜沉積的關鍵材料,是一種用于濺射沉積的高純度材料。根據(jù)半導體材料的種類,靶材可分為多種類型,包括硅(Si)、氮化硅(Si3N4)、氧化物(如二氧化硅、三氧化二鋁等)、化合物半導體(如砷化鎵GaAs、氮化鋁AlN等)以及其他材料。這些靶材都是經(jīng)過嚴格的制備工藝,以保證其高純度、均勻性和穩(wěn)定性。靶材的制備工藝包括多個步驟,如原料選材、原料制備、壓制成型、高溫燒結等過程。原料選材是靶材制備的重要一步,需要選擇高純度的原料,通常采用化學還原法、真空冶煉法、機械合成法等方法。在壓制成型的過程中,選用合適的成型模具和壓力,使得形成的靶材密度和形狀均勻一致。高溫燒結是為了進一步提高靶材的密度和強度,通常采用高溫燒結爐,在高溫下進行持續(xù)燒結過程。北京氧化鋅靶材多少錢