對(duì)于粒徑分布范圍很寬的樣品，通過(guò)可選的速度調(diào)節(jié)功能圓盤(pán)，只需常規(guī)圓盤(pán)分析時(shí)間的1/20。經(jīng)過(guò)CPS納米粒度儀對(duì)裂解后炭黑進(jìn)行粒徑測(cè)試后的結(jié)果所示：與掃描電鏡所顯示的結(jié)果基本一致，裂解后的炭黑較小粒徑為3um，較大可至50多微米，并且出現(xiàn)很多峰值，證明樣液中具有不同粒徑且含量不同的的炭黑。峰值粒徑處于30um左右。真實(shí)反映了不同炭黑粒徑的分布狀態(tài)。隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。作為芯片制造不可或缺的一環(huán)，CMP工藝在設(shè)備和材料領(lǐng)域歷來(lái)是受歡迎的。馳光機(jī)電科技創(chuàng)新發(fā)展，努力拼搏。西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程，國(guó)內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級(jí)發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進(jìn)行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認(rèn)真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時(shí)間延長(zhǎng)，它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生。福建CPS高精度納米粒度分析儀哪家好山東馳光機(jī)電科技有限公司擁有業(yè)內(nèi)專業(yè)人士和高技術(shù)人才。

系統(tǒng)配有沖洗系統(tǒng)，減少了由于系統(tǒng)污染引起的計(jì)劃外停機(jī)維護(hù)時(shí)間。樣品預(yù)處理系統(tǒng)：正確設(shè)計(jì)和操作樣品調(diào)節(jié)系統(tǒng)是分析儀成功運(yùn)行的關(guān)鍵。該系統(tǒng)基于現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)針對(duì)這種復(fù)雜的工藝樣品，專門(mén)為低維護(hù)操作而設(shè)計(jì)。低維護(hù)的固體顆粒分離器。不帶過(guò)濾元件可將顆粒去除達(dá)到2-3微米，減少了維護(hù)量。先進(jìn)的安全系統(tǒng)，保護(hù)分析儀免受高壓影響和防止產(chǎn)品泄漏。簡(jiǎn)單校準(zhǔn)。標(biāo)準(zhǔn)的引入是一種手工操作，只需使用注射器即可，不需要定期重新校準(zhǔn)，無(wú)樣本回收系統(tǒng)。

儀器的主要參數(shù)為：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤(pán)：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤(pán)；自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）；自動(dòng)進(jìn)樣器（型號(hào)AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學(xué)衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集，濾波和準(zhǔn)直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測(cè)的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經(jīng)傅立葉透鏡后，照射到光電探測(cè)器上的任一點(diǎn)都對(duì)應(yīng)于某一確定的散射角。馳光機(jī)電以質(zhì)量求生存，以信譽(yù)求發(fā)展！

升降臺(tái)式樣品池送進(jìn)定位及環(huán)境光遮蔽系統(tǒng)，使光子相關(guān)譜探測(cè)系統(tǒng)不只體積小，而且具有很強(qiáng)的抗干擾能力。高精度的測(cè)試溫度控制系統(tǒng)：?jiǎn)为?dú)的循環(huán)溫控槽可在2-95℃范圍內(nèi)任意設(shè)定，其控制精度達(dá)0.1℃。微量樣品池/標(biāo)準(zhǔn)樣品池：可以使用3.5ML的標(biāo)準(zhǔn)樣品池外，還有適應(yīng)于稀有貴重樣品的0.3ML微樣池。環(huán)境溫度：在5-35℃的環(huán)境中，本儀器都能正常使用。納米粒度儀樣品池恒溫箱及恒溫DI水供應(yīng)系統(tǒng)：有利于提高測(cè)試溫度控制精度同時(shí)減少等待樣品池?zé)崞胶獾臅r(shí)間，提高儀器的實(shí)際測(cè)試精度和工作效率。馳光機(jī)電科技具備雄厚的實(shí)力和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，馳光機(jī)電科技以發(fā)展求壯大，一定會(huì)贏得更好的明天。廣西高靈敏度納米粒度分析儀廠家

地理位置優(yōu)越，交通十分便利。西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

磨料的粒度測(cè)量：以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用，CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米，典型的過(guò)大聚集體為1-10微米，并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來(lái)自于精確確定納米級(jí)顆粒尺寸，同時(shí)還識(shí)別出相對(duì)較少的微米級(jí)聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒，提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來(lái)。西藏高純度氧化鋁粉粒度在線分析儀

山東馳光機(jī)電科技有限公司是我國(guó)分析儀，在線監(jiān)測(cè)，在線分析，流量計(jì)專業(yè)化較早的有限責(zé)任公司之一，公司成立于2019-08-22，旗下馳光，已經(jīng)具有一定的業(yè)內(nèi)水平。馳光科技供應(yīng)以分析儀，在線監(jiān)測(cè)，在線分析，流量計(jì)為主業(yè)，服務(wù)于儀器儀表等領(lǐng)域，為全國(guó)客戶提供先進(jìn)分析儀，在線監(jiān)測(cè)，在線分析，流量計(jì)。產(chǎn)品已銷(xiāo)往多個(gè)國(guó)家和地區(qū)，被國(guó)內(nèi)外眾多企業(yè)和客戶所認(rèn)可。