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重慶激光粒度粒形分析儀廠家

來源: 發(fā)布時間:2023-01-14

顆粒形狀信息很重要,混合樣品或未知組分樣品,需要高分辨率的數(shù)量分布來準確分析樣品中的少數(shù)特殊顆粒,正在考慮將實驗室檢測擴大到工業(yè)規(guī)模的檢測,我們還提供原位在線粒形分析系統(tǒng),可用于高溫,高壓以及腐蝕性環(huán)境。動態(tài)測量系統(tǒng),顯微鏡同等級的精度真實原始數(shù)據(jù)的存儲,強大的預處理工具,高質(zhì)量的圖像分析結(jié)果,可精確測量非球形顆粒,供40個ISO標準粒形參數(shù),包含粒徑、形狀因子、球形度、圓度、對比和表格,可保存分析測量圖像和錄保,圖像分析結(jié)果可追溯。馳光機電科技有限公司品牌價值不斷提升。重慶激光粒度粒形分析儀廠家

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而化學機械拋光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成電路芯片的一個關(guān)鍵制程,國內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊,幾乎全部依賴進口。CMP典型的拋光漿料都是納米級發(fā)煙硅石(5Vol%,170-230nm)、高純硅膠(9Vol%,6-80nm)、氧化鈰(6Vol%,200-240nm)或氧化鋁顆粒,它們的粒度或粒度分布必須小心地進行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%),容易聚集。隨著貯存時間延長,它的粒度可能增大從而導致?lián)p害的產(chǎn)生。湖南高靈敏度納米粒度分析儀哪家好馳光機電科技有限公司不斷完善自我,滿足客戶需求。

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CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑,可提供更精確更穩(wěn)定的測量結(jié)果,有效控制產(chǎn)品的質(zhì)量。應用實例:光催化活性高,高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析,穩(wěn)定性二氧化鈦,二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應用,從油漆到食用色素到化妝品和護膚品,因此二氧化鈦的粒徑測量十分重要。例如納米二氧化鈦顆??梢杂糜诜罆袢橐?,因為它們散射的可見光比用于普通涂料或者顏料中的二氧化鈦顆粒小,同時還能提供紫外線保護。

CPS分析儀基本原理:CPS納米粒度分析儀依據(jù)Stokes定律,V=D2(ρP-ρF)G/18η,即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來進行粒度的測量。待測樣品從圓盤中心進入高速旋轉(zhuǎn)的圓盤,在離心力的作用下發(fā)生沉降,沉降的速度遵循Stokes公式,在距離圓盤的邊緣固定位置設有激光檢測器,顆粒按尺寸大小依次通過探測器,儀器記錄顆粒通過探測器的時間,由于所有顆粒走過的路程都一樣,因此,顆粒運動所需的時間與顆粒本身尺寸的平方成反比,激光檢測器同時檢測顆粒對光的散射程度。選擇馳光機電,就是選擇質(zhì)量、真誠和未來。

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磨料的粒度測量:以上我們了解到磨料在CMP工藝中起到了關(guān)鍵性的作用,CMP磨料顆粒的典型尺寸范圍是50-250納米,典型的過大聚集體為1-10微米,并出現(xiàn)在ppm范圍內(nèi)。顆粒表征的挑戰(zhàn)來自于精確確定納米級顆粒尺寸,同時還識別出相對較少的微米級聚集體。CPS納米粒度分析儀表征磨料顆粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的顆粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。較小峰值寬度可小至峰值直徑的2%,粒徑差別在大于3%的窄峰可以被完全分辨出來。馳光機電科技有限公司擁有先進的產(chǎn)品生產(chǎn)設備,雄厚的技術(shù)力量。北京病毒顆粒分析儀廠家

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CPS納米粒度分析儀樣本分散系統(tǒng):自動液體循環(huán)、干粉分散器、粉料送樣器、溫度控制器、氣溶膠控制器。粒度儀的較佳選擇:EyeTech可以提供顆粒系統(tǒng)粒徑、形狀和濃度等方面的總體信息。具有多樣化的功能,可以:監(jiān)測動力學過程;提供標準的體積和數(shù)量分布的結(jié)果。激光和圖像通道的結(jié)合:對球形、非球形及細長顆粒的精確定性分析;可同時測量粒徑、粒形和濃度;多種模塊配置可滿足不同類型的干法及濕法檢測需求;測量過程中可實時觀察樣品顆粒。重慶激光粒度粒形分析儀廠家

山東馳光機電科技有限公司是以提供分析儀,在線監(jiān)測,在線分析,流量計為主的有限責任公司,公司位于南定鎮(zhèn)億達路38號工業(yè)園區(qū)1-301室,成立于2019-08-22,迄今已經(jīng)成長為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。馳光科技供應致力于構(gòu)建儀器儀表自主創(chuàng)新的競爭力,多年來,已經(jīng)為我國儀器儀表行業(yè)生產(chǎn)、經(jīng)濟等的發(fā)展做出了重要貢獻。