真空鍍膜是真空氣相沉積的簡稱,是在真空條件下,將金屬或非金屬作為源材料轉(zhuǎn)化成原子、離子或等離子體(氣相),并在工件表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術(shù)。真空鍍膜可使工件表面具有耐磨損、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多超越其本身的優(yōu)越性能,達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為較具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一,并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)可在國民經(jīng)濟(jì)各個領(lǐng)域得到應(yīng)用,如航空航天、汽車、新能源、電子、信息、醫(yī)療、石油化工、稀土產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域,其應(yīng)用領(lǐng)域正在給傳統(tǒng)的表面處理手段帶來強(qiáng)大的沖擊。真空鍍膜...
真空鍍膜機(jī)在應(yīng)用中,它是會出現(xiàn)氧化的情況,那么具體情況是什么呢?下面真空鍍膜機(jī)廠家分析氧化現(xiàn)象。1.鍍膜下片時手套上汗水粘到玻璃上,由于人出汗時,汗水中含有大量的硫化物,會與Low—E玻璃中的銀發(fā)生反應(yīng),生成黑色的硫化銀,從而形成氧化。我們經(jīng)過實(shí)驗(yàn),因汗水粘過的LoW-E玻璃可能在1h內(nèi)會形成氧化。因此一方面保持手套干燥,另一方面汗水觸摸過的Low—E玻璃要立即清洗,并盡可能地縮短等待中空生產(chǎn)時間。2.生產(chǎn)時空氣濕度太大,空氣中含水量過高,尤其是雨季。在南方每年的5~10月份是Low—E玻璃易氧化的季節(jié)。針對這種情況,一方面在鍍膜下片打包時要充入足夠量的干燥劑,另一方面,要盡可能地縮短等待中空...
真空鍍膜設(shè)備的工作離不開相應(yīng)的監(jiān)測,那么如何監(jiān)測呢?下面一起來看看吧。1.目視監(jiān)控使用雙眼監(jiān)控,因?yàn)楸∧ぴ诔砷L的過程中,因?yàn)楦缮娆F(xiàn)象會有色彩改變,我們即是依據(jù)色彩改變來操控膜厚度的,此種辦法有必定的差錯,所以不是很精確,需求依托經(jīng)歷。2.定值監(jiān)控法此辦法使用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長四分之一波位,然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長一時總膜厚之反射率是多少,此即為中止鍍膜點(diǎn)。3.水晶振動監(jiān)控使用石英晶體振動頻率與其質(zhì)量成反比的原理工作的??墒鞘⒈O(jiān)控有一個欠好的地方即是當(dāng)膜厚添加到必定厚度后,振動頻率不全然因?yàn)槭⒆陨淼奶匦允购穸扰c頻率之間有線性關(guān)系,此刻有必要使用新的石英振動片。4.極值監(jiān)控法當(dāng)膜厚度添加的時候其...
真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展,真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來越廣。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看,對真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加,包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜;數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲存膜;充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜;計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜;建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性...
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。真空鍍膜機(jī)鍍鋁表面出現(xiàn)有點(diǎn)狀痕跡及流痕印跡分析?1、氧化層表面有點(diǎn)狀痕跡(1)預(yù)熔時電流過高或未加擋板。應(yīng)適當(dāng)降低預(yù)熔電流及加設(shè)擋板。(2)蒸發(fā)電流過高。應(yīng)適當(dāng)降低。2、氧化層表面有流痕印跡(1)鍍件表面清潔不良。應(yīng)加強(qiáng)清潔處理。(2)擦拭鍍件時蘸用乙醇過多。應(yīng)減少乙醇的蘸用量。(3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應(yīng)禁止手指接觸鍍件...
真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展,真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來越廣。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看,對真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加,包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜;數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲存膜;充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜;計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜;建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性...
任何固體材料在大氣環(huán)境下都會溶解和吸附一些氣體,當(dāng)材料置于真空狀態(tài)時就會因?yàn)槊摳?、解析而出氣。出氣的速率與材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時間是不同的。各種泵對不同成分的氣體抽氣速率也是不一樣的。抽真空時,首先抽走的是容器中的大氣(這部份氣體很快被抽走,10-1Pa時爐內(nèi)氣體基本抽盡),然后是材料表面解吸的氣體、材料內(nèi)部向表面擴(kuò)散出來的氣體,以及通過器壁滲透到真空中的氣體.因此在貨品進(jìn)入爐內(nèi)之后,都要進(jìn)行保溫除氣,因?yàn)樨浧吩谶M(jìn)爐前會吸附一些雜質(zhì)氣體,我們要通過適當(dāng)?shù)募訜幔屵@些氣體解析脫附貨品的表面。以不銹鋼為例,除了在它表面吸附的氣體之外,在不斷的加熱保溫過程中...
在離子源推進(jìn)器實(shí)驗(yàn)中,人們發(fā)現(xiàn)有推進(jìn)器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應(yīng)用。離子源的另一個重要應(yīng)用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產(chǎn)生某種材料的離子,這個離子就在磁性環(huán)路上加速,從而轟擊一個靶,產(chǎn)生新的物質(zhì)或揭示新的物理規(guī)律。真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源,弧放電離子源,kaufman離子源,射頻離子源,霍爾離子源,冷陰極離子源,電子回旋離子源,陽極層離子源,感應(yīng)耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。離子源類型雖多,目的卻無非在線清洗,改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度,...
硅+氮?dú)猓汉谏瑁鯕猓夯鞚岚?、透明膜硅+甲烷:黃色、綠色、藍(lán)色、黑色(靶材純度高于99%*能調(diào)黑色)鈦+氧氣:光學(xué)膜七彩截色,不多介紹都懂。鈦+甲烷:深淺黑色(DLC制備不能達(dá)標(biāo))鈦+氮?dú)猓悍陆鹕ⅫS銅色、紫色、紅色鈦+氮?dú)猓淄椋悍旅倒褰?、黑綠色、復(fù)古黃、棕色、紫色鎢+氮?dú)猓鹤攸S色鎢+甲烷:深淺黑色鎢+氧氣:紫色,鮮黃色,棕色,藍(lán)色以上*裝飾薄膜常用材料及其常用氣體,通常甲烷和乙炔都可互替,但涉及部分顏色甲烷效果更好。除以上常用材料外,金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等,均有在鍍膜中使用。多質(zhì)靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、硅鋁、釩錸、鎢鉬等等。無錫真空鍍膜機(jī)廠家,哪家...
目前市場上的真空鍍膜設(shè)備廠家是非常多的,所以競爭就非常激烈了,消費(fèi)者在選擇真空鍍膜設(shè)備廠家的時候,是需要通過一些方面來鑒別真空鍍膜設(shè)備廠家的實(shí)力。一、經(jīng)驗(yàn)。真空鍍膜設(shè)備維修和很多其他的技能是一樣的,具有豐富的經(jīng)驗(yàn)才能應(yīng)對多種狀況的出現(xiàn),才能保障好結(jié)果。二、成功案例。真空鍍膜設(shè)備維修案例是直接的實(shí)力見證之一,真空鍍膜設(shè)備維修要的還是實(shí)際的操作,這不僅*包括了真空鍍膜設(shè)備本身,還包括了像真空鍍膜設(shè)備這樣的專業(yè)配置,畢竟配置是真空鍍膜設(shè)備維修的重要前提。三、售后服務(wù)。售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修后的一個重要保障之一,完善的售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個公司很難在每...
真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。真空鍍膜設(shè)備若有灰塵,將會影響真空鍍膜的效果和質(zhì)量。首先,被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的,在盡量減小材料表面灰塵的前提下,我們還應(yīng)當(dāng)注意以下幾點(diǎn):1、真空鍍膜設(shè)備使用一段時間后,必須要對設(shè)備進(jìn)行清潔維護(hù);2、規(guī)范操作人員及操作要求,包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等;3、嚴(yán)格處理襯底材料,做到清潔干凈,合乎工藝要求;4、源材料符合必要的純度要求;5、保證設(shè)施設(shè)備及操作環(huán)境清潔。如材料、樣品放置地環(huán)境要求,環(huán)境溫度濕度要求等;6、降低真空鍍膜設(shè)備室內(nèi)空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。真空鍍膜機(jī)價廉物美,當(dāng)然選無錫光潤!湖南推薦真空鍍膜機(jī)廠家真空鍍膜機(jī)...
霍爾離子源霍爾離子源是陽極在一個強(qiáng)軸向磁場的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強(qiáng),霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲(陰極)。霍爾離子源的特點(diǎn)是:1簡單耐用。2離子電流與氣體流量幾乎成比例,可獲得較大離子電流。3鎢絲一般橫跨在出口,收離子束沖擊很快會銷蝕,尤其對反應(yīng)氣體,一般十幾個小時就需更換。并且鎢絲還會有一定的污染。為解決鎢絲的缺點(diǎn)。有采用較長壽中和器的,如一個小的空心陰極源?;魻栯x子源可以說是應(yīng)用較廣的離子源。如Veece的MarkI和MarkII離子源。適用的如國產(chǎn)的大部分離子源。如果鍍耐磨裝飾...
與金屬鍍層間的附著性差塑料與金屬鍍層間的附著性差首先是由于塑料的表面能一般都比較低,表面極性差;其次塑料易帶靜電,表面容易吸附灰塵,同時塑料零件又軟,化學(xué)穩(wěn)定性差,不易得到真正清潔的表面,而塑料表面的清潔度是影響塑料與金屬鍍層間附著力的重要因素。第三,即使保持了塑料表面的清潔,由于塑料與金屬的膨脹系數(shù)相差一個數(shù)量級,在成膜過程中或成膜后,溫度變化會產(chǎn)生熱應(yīng)力,應(yīng)力過大將會使鍍層開裂甚至脫落。此外,由于沉積過程中金屬膜結(jié)構(gòu)受到工藝等因素的影響致使其內(nèi)部產(chǎn)生一定的內(nèi)應(yīng)力,當(dāng)內(nèi)應(yīng)力很大時,膜料沉積到塑料表面后,內(nèi)應(yīng)力會轉(zhuǎn)移到金屬鍍層上來,從而降低鍍層的穩(wěn)定性,甚至使鍍層開裂、起皺。為解決金屬鍍層與塑...
與蒸發(fā)鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法,將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。基片裝在接地的電極上,絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負(fù)電,在達(dá)到動態(tài)平衡時,靶處于負(fù)的偏置電位,從而使正離子...
離子鍍:蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用,使膜層附著強(qiáng)度提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn),并有很好的繞射性,可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。真空鍍膜常見的問題有哪些?湖北**真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)真空鍍...
真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢?這是我們關(guān)注的一個問題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性,化學(xué)性質(zhì)不活潑,達(dá)到蒸發(fā)溫度時加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點(diǎn)要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物質(zhì)和蒸發(fā)源材料的互熔性必須很底,不易形成合金。4.要求線圈狀蒸發(fā)源所用材料能與蒸發(fā)材料有良好的浸潤,有較大的表面張力。5.對于不易制成絲狀、或蒸發(fā)材料與絲狀蒸發(fā)源的表面張力較小時,可采用舟狀蒸發(fā)源。真空鍍膜機(jī)廠家哪家好?常用真空鍍膜機(jī)專業(yè)服務(wù)真空鍍膜機(jī)根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備,其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜...
真空環(huán)境下易放氣塑料材料中含有空氣、殘留溶劑、水分、增塑劑等,在真空條件下上述一種或多種成分放出,都會使真空度下降,延長抽真空時間,影響整個鍍膜效果,嚴(yán)重的甚至使真空鍍膜操作難于進(jìn)行。而且不同種類、不同生產(chǎn)廠家制造的塑料材料,含氣量是不一致的,即使同一種塑料,其放氣特性在每次蒸鍍時也可能有差別,這將給塑料真空鍍膜造成極大困難。為了在塑料表面獲得理想的鍍膜層,常用的方法是選擇適當(dāng)?shù)耐苛蠈⑺芰媳砻娣忾],減少真空狀態(tài)下的放氣量,或者采用雙室真空裝置,提高抽氣效率。目前,離子轟擊以及真空加熱烘烤這2種除氣方法的應(yīng)用也已經(jīng)相當(dāng)普遍。上海真空鍍膜機(jī)廠家找哪家?湖南**真空鍍膜機(jī)定制真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)主要...
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且**終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,然后形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。購買真空鍍膜機(jī),歡迎...