真空鍍膜機主要分類 主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。 一、對于蒸發(fā)鍍膜: 一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。 厚度均勻性主要取決于: ...
(1)成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃~500℃,化學鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì),而真空鍍膜的溫度低,可以降到常溫,避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。(2)蒸發(fā)源選擇自由度大??蛇x擇的鍍膜材料多而...
是在真空蒸發(fā)和真空濺射基礎上發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術。離子鍍的英文全稱IonPlating,簡稱IP。它是在真空條件下,應用氣體放電實現(xiàn)鍍膜的,即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,同時將蒸發(fā)物或其反應產(chǎn)物蒸鍍在基片上...
通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從...
CVD直接生長技術高效碳納米管鎳氫電池的研究采用熱化學氣相沉積技術(CVD),在泡沫鎳表面直接生長多壁碳納米管(MWNT),以此MWNT-泡沫鎳基底為電池集流體,并使用該基底、通過大批量微細刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗分析本文以HFCVD沉...
真空鍍膜機鍍膜是指在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。無錫光潤為您介紹真空鍍膜機的原理。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機鍍膜方法有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺...
PVD是英文PhysicalVaporDeposition(物***相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PV...
圖1[蒸發(fā)鍍膜設備示意圖])電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源:用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其...
耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍?A5:在現(xiàn)階段,PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的,并且除了...
本實用新型涉及鍍膜機技術領域,具體涉及應用于卷繞鍍膜機的在線測量裝置。背景技術:目前,對于卷繞鍍膜機上不同厚度的膜材及鍍層上的電阻值需要通過人工測量,無法實現(xiàn)在線即時測量,這種傳統(tǒng)的測量方式費時費力,效率較低。技術實現(xiàn)要素:鑒于背景技術的不足,本實用新...
離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光...
凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種:電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭,鉬,鎢等高熔點金屬,做成適當形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓氣流通過,對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁,氧化鈹?shù)熔徨佒羞M行間接加熱蒸發(fā),這就是電阻...
耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍?A5:在現(xiàn)階段,PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的,并且除了...
這種方法的特點是:基板溫升小,即能鍍金屬膜又能直接鍍化合物膜,如氧化鋅等;可用于鍍電子器件,音響器件。11)多弧離子鍍。利用陰極弧光進行加熱;依靠蒸發(fā)原子束的定向運動使反應氣體(或真空)離化。這種方法的特點是:基板溫升較大,離化率高,沉積速率大;可用于...
真空鍍膜機原理真空鍍膜機是目前制作真空條件應用很多的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術團隊及售后服務...
真空鍍膜設備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢?這是我們關注的一個問題,下面真空鍍膜設備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性,化學性質(zhì)不活潑,達到蒸發(fā)溫度時加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物...
車燈真空鍍膜UV漆的技術要求車燈真空鍍膜UV漆的技術要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率,使得該技術在世界范圍內(nèi)獲得了重視和快速增長,其應用領域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度,很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術領域,在塑料基材上可獲得十分光亮...
車燈真空鍍膜UV漆的技術要求車燈真空鍍膜UV漆的技術要求由于輻射固化涂料的綠色環(huán)保與高效率,使得該技術在世界范圍內(nèi)獲得了重視和快速增長,其應用領域越來越廣。UV涂層具有極好的表面光潔度,很適合作為底漆用于真空金屬鍍膜技術領域,在塑料基材上可獲得十分光亮...
在大面積基板上可制取均勻薄膜,放電電流隨壓強和電壓的改變而變化;2)三極或四極濺射??蓪崿F(xiàn)低氣壓,低電壓濺射,可**控制放電電流和轟擊靶的離子能量??煽刂瓢须娏?,也可進行射頻濺射;3)磁控濺射(或高速,低溫濺射)。在與靶表面平行的方向上施加磁場,利用電...
氧化鉍、Bi2O3,氧化鐠、Pr6O11,氧化銻、Sb2O3,氧化釩、V2O5,氧化鎳、NiO,氧化鋅、ZnO,氧化鐵、Fe2O3,氧化鉻、Cr2O3,氧化銅、CuO等。高純氟化物氟化鎂、MgF2,氟化鐿、YbF3,氟化釔、LaF3,氟化鏑、DyF3,...
圖1[蒸發(fā)鍍膜設備示意圖])電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應加熱源:用高頻感應電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料,即用電子束轟擊材料使其...
鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性.而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜,有不少用戶不知道這二者的區(qū)別。一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸...
真空鍍膜機原理真空鍍膜機是目前制作真空條件應用很多的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術團隊及售后服務...
真空鍍膜機主要分類 主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。 一、對于蒸發(fā)鍍膜: 一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。 厚度均勻性主要取決于: ...
離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光...
真空鍍膜一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術先用于生產(chǎn)光學鏡片,如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色,機械刀具鍍膜,改變加工紅硬...
薄膜是一種物質(zhì)形態(tài),它所使用的膜材料非常***,可以是單質(zhì)元素或化合物,也可以是無機材料或有機材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣,可以是單晶態(tài)的,多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應用非常***,尤其是在電...
2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[4××(1+)2]×[4××()2]=可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式,我們可以計算光線穿透鏡片的兩面,發(fā)現(xiàn)即使一片完美的透鏡(折射率),其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜(折射率),則透光度可達9...
在離子源推進器實驗中,人們發(fā)現(xiàn)有推進器材料從離子源飛出,這就開始了離子源在材料,特別是材料表面改性的應用。離子源的另一個重要應用是高能物理。具體就是離子加速器。簡單地說就是用一臺離子源產(chǎn)生某種材料的離子,這個離子就在磁性環(huán)路上加速,從而轟擊一個靶,產(chǎn)生新的物質(zhì)...
缺點是電子***要求較高的真空度,并需要使用負高壓,這些造成了設備結(jié)構(gòu)復雜,安全性差,不易維護,造價也較高??招年帢O電子***是利用低電壓,大電流的空心陰極放電產(chǎn)生的等離子電子束作為加熱源??招年帢O電子***用空心的鉭管作為陰極,坩鍋作為陽極,鉭管附近...