許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時(shí)候,不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗,導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問(wèn)題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng),其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類(lèi)真空鍍膜設(shè)備,...
陽(yáng)極層離子源若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源,如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。陽(yáng)極層離子源,與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形(長(zhǎng)方形或圓形)窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng),在陽(yáng)極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽(yáng)極層...
對(duì)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料,需要與膜層結(jié)合性高,放氣量小,受熱穩(wěn)定,同時(shí)滿(mǎn)足這三個(gè)條件的塑料材料是非常少的,但塑料材料在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用卻非常***,所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來(lái),為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中,常常通過(guò)各種方法改進(jìn)?,F(xiàn)在介紹幾種...
氧化鉍、Bi2O3,氧化鐠、Pr6O11,氧化銻、Sb2O3,氧化釩、V2O5,氧化鎳、NiO,氧化鋅、ZnO,氧化鐵、Fe2O3,氧化鉻、Cr2O3,氧化銅、CuO等。高純氟化物氟化鎂、MgF2,氟化鐿、YbF3,氟化釔、LaF3,氟化鏑、DyF3,氟化釹、...
通帶以外的光截止,其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(zhǎng)(CWL),半帶寬(FWHM),分為窄帶和寬帶,比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通):短于選定波長(zhǎng)的光通過(guò),長(zhǎng)于該波長(zhǎng)的光截止,比如紅外截止濾光片長(zhǎng)波通型(又叫高波通):長(zhǎng)于選定波長(zhǎng)的光通過(guò),短于該波長(zhǎng)的光截止,比如紅...
裝飾功能的應(yīng)用裝飾薄膜的典型應(yīng)用是金銀絲,利用聚酯薄膜鍍鋁后加工而成的金銀絲已成為紡織品不可缺少的裝飾材料,在日常生活用品、手工藝品、舞臺(tái)藝術(shù)用品等各方面的應(yīng)用很受歡迎。另外,裝飾性塑料鍍膜還應(yīng)用于儀器、機(jī)械、汽車(chē)、玩具、燈具及家用電器等領(lǐng)域,有很高的經(jīng)濟(jì)價(jià)值...
離子源(英文名稱(chēng):Ionsource)是使中性原子或分子電離,并從中引出離子束流的裝置。它是各種類(lèi)型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對(duì)氣體原子...
Ta靶、鍺靶、Ge靶、銀靶、Ag靶、鈷靶、Co靶、金靶、Au靶、釓靶、Gd靶、鑭靶、La靶、釔靶、Y靶、鈰靶、Ce靶、鉿靶、Hf靶、鉬靶、Mo靶、鐵鎳靶、FeNi靶、V靶、W靶、不銹鋼靶、鎳鐵靶、鐵鈷靶、鎳鉻靶、銅銦鎵靶、鋁硅靶NiCr靶等金屬靶材。陶瓷靶材2...
所述滑桿遠(yuǎn)離所述固定座的一端固定安裝傳感觸頭,所述滑桿另一端固定連接伸縮桿和止動(dòng)板,所述止動(dòng)板滑動(dòng)連接所述導(dǎo)桿,所述止動(dòng)板和所述支撐板之間的導(dǎo)桿上套設(shè)壓縮彈簧。所述氣缸端部和密封導(dǎo)套之間固定連接密封裝置,提高密封性能。所述密封裝置為密封蓋及其固定內(nèi)部膠封,提高...
種類(lèi)繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料,大量應(yīng)用于汽車(chē)、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可增加材料表面...
薄膜是一種物質(zhì)形態(tài),它所使用的膜材料非常***,可以是單質(zhì)元素或化合物,也可以是無(wú)機(jī)材料或有機(jī)材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣,可以是單晶態(tài)的,多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來(lái)功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常***,尤其是在電子材料與...
主要是操作麻煩還影響生產(chǎn)效率。測(cè)試炅盛電鍍油污處理劑的辦法來(lái)解決油污問(wèn)題,測(cè)試結(jié)果成功,在底漆柜前端加兩把***噴處理劑,直接濕噴濕,緊接就噴UV底,不影響生產(chǎn)效率,并且還能提高生產(chǎn)效率和良率。ABS化妝品瓶蓋UV真空鍍膜除油方法:PC料蘋(píng)果手機(jī)保護(hù)套工藝是工...
真空鍍膜設(shè)備是由許多精密的零部件所組成的,這些零部件均經(jīng)過(guò)許多機(jī)械加工流程而制作出來(lái),如焊接、磨、車(chē)、刨、鏜、銑等工序.正因?yàn)橛辛诉@些工作,導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來(lái)的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物.這些污染物在真空條件下易...
氧化鉍、Bi2O3,氧化鐠、Pr6O11,氧化銻、Sb2O3,氧化釩、V2O5,氧化鎳、NiO,氧化鋅、ZnO,氧化鐵、Fe2O3,氧化鉻、Cr2O3,氧化銅、CuO等。高純氟化物氟化鎂、MgF2,氟化鐿、YbF3,氟化釔、LaF3,氟化鏑、DyF3,氟化釹、...
適合硬質(zhì)合金刀具、車(chē)刀片;適合不銹鋼鉆、銑、沖加工。DLC中文名:類(lèi)金剛石。顏色:黑色;硬度:2000HV;摩擦系數(shù):;高工作溫度:800℃;優(yōu)點(diǎn):無(wú)氫碳膜,有很強(qiáng)的抗粘結(jié)性和低摩擦性,適合光盤(pán)模具和其他精密模具。[2-3]Crotac中文名:鈦鉻_納米晶體;...
許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時(shí)候,不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗,導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問(wèn)題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng),其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類(lèi)真空鍍膜設(shè)備,...
凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種:電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭,鉬,鎢等高熔點(diǎn)金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓氣流通過(guò),對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁,氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā),這就是電阻加熱蒸發(fā)...
遮光和隔熱性能也非常好,可以作為生產(chǎn)***包裝產(chǎn)品的材料。聚乙烯由于真空鍍膜適應(yīng)差,但通過(guò)改造后還是可以用于真空鍍膜的,但只能生產(chǎn)低檔的包裝產(chǎn)品或隔熱產(chǎn)品,聚丙烯比聚乙烯受熱更穩(wěn)定,而且非常輕,所以其利用價(jià)值比較高,不過(guò)聚丙烯與膜層的結(jié)合性比較差,所以必須表面...
氬氣在電鍍過(guò)程中有何用?氬氣不參與反應(yīng),只是增加氣壓,改善鍍膜時(shí)靶的放電條件,氬氣不是用于鍍膜,主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮?dú)夂蜌鍤舛际嵌栊詺怏w,沖進(jìn)去以后,一可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮?dú)夂蜌鍤庠跀U(kuò)散泵內(nèi)的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變...
許多人在使用真空鍍膜設(shè)備的時(shí)候,不重視真空鍍膜設(shè)備的清洗,導(dǎo)致了真空鍍膜設(shè)備出現(xiàn)很多問(wèn)題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析清潔方案。1.油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)是使用的真空系統(tǒng),其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類(lèi)真空鍍膜設(shè)備,...
在真空離子鍍膜中,所選用不同氣體所生產(chǎn)出來(lái)的,液態(tài)氣體色澤也會(huì)不一樣,氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境鍍鈦和鉻時(shí),工業(yè)氣體充入氮?dú)饪缮a(chǎn)出銀色和黃色的產(chǎn)品而想要生產(chǎn)出黑色或灰色的產(chǎn)品,則需要加入乙炔氣體加入氧氣則生產(chǎn)藍(lán)色的產(chǎn)品。除了氣體外所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、...
真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢?這是我們關(guān)注的一個(gè)問(wèn)題,下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性,化學(xué)性質(zhì)不活潑,達(dá)到蒸發(fā)溫度時(shí)加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點(diǎn)要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物...
陽(yáng)極層離子源若是鍍工具耐磨層,一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高,可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源,如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。陽(yáng)極層離子源,與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形(長(zhǎng)方形或圓形)窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng),在陽(yáng)極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽(yáng)極層...
在真空離子鍍膜中,所選用不同氣體所生產(chǎn)出來(lái)的,液態(tài)氣體色澤也會(huì)不一樣,氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境鍍鈦和鉻時(shí),工業(yè)氣體充入氮?dú)饪缮a(chǎn)出銀色和黃色的產(chǎn)品而想要生產(chǎn)出黑色或灰色的產(chǎn)品,則需要加入乙炔氣體加入氧氣則生產(chǎn)藍(lán)色的產(chǎn)品。除了氣體外所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、...
與蒸發(fā)鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法,將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上。...
真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢?真空鍍膜設(shè)備可以為社會(huì)提供什么幫助呢?真空鍍膜設(shè)備對(duì)于環(huán)境的保護(hù)可以起到什么作用呢?1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且...
真空鍍膜設(shè)備的真空度在一些情況下,它是會(huì)出現(xiàn)下降的情況的,那么都是什么原因呢?下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析真空度下降原因。(1)蒸發(fā)源水路膠圈損環(huán)(更換膠圈)(2)坩堝被打穿(更換坩堝)(3)高壓電極密封處被擊穿(更換膠圈)(4)工轉(zhuǎn)動(dòng)密封處膠圈損壞(更換膠圈)(...
PVD鍍膜加工工藝流程比較長(zhǎng)、工序繁多,發(fā)生故障的影響因素會(huì)很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調(diào)及雜質(zhì)污染、生產(chǎn)環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個(gè)細(xì)節(jié)之中。PVD鍍膜加工在影響產(chǎn)品質(zhì)量的五大因素〔操作者、設(shè)備、...
氬氣在電鍍過(guò)程中有何用?氬氣不參與反應(yīng),只是增加氣壓,改善鍍膜時(shí)靶的放電條件,氬氣不是用于鍍膜,主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮?dú)夂蜌鍤舛际嵌栊詺怏w,沖進(jìn)去以后,一可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮?dú)夂蜌鍤庠跀U(kuò)散泵內(nèi)的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變...
離子源(英文名稱(chēng):Ionsource)是使中性原子或分子電離,并從中引出離子束流的裝置。它是各種類(lèi)型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對(duì)氣體原子...