光學(xué)真空鍍膜機(jī)安裝要求 1光學(xué)真空鍍膜機(jī)重量較大,要求其安置場(chǎng)所(操作間)以及搬運(yùn)通道的地面必須有足夠的承載強(qiáng)度。如果不能滿足要求,請(qǐng)進(jìn)行必要的改建。.2使用本機(jī),需要提供5.5Kg-6.5Kg的壓縮空氣、三相五線380V/50Hz的電力、接地電阻小于10?,電阻率為5?.cm的清潔冷卻水(水溫18℃-25℃,冷卻水壓:入口0.3MPa-0.4MPa/出口OKg-1Kg)。3真空室內(nèi)有人時(shí),不得關(guān)閉真空室門。否則,可能出現(xiàn)的誤操作(如抽真空)將在極短的時(shí)間內(nèi)導(dǎo)致真空室內(nèi)的人員死亡,造成無法挽回的嚴(yán)重后果。.4本機(jī)不能進(jìn)行含自燃性、可燃性及爆性氣體的排放,不能在含有自燃性、可燃性及B性...
真空鍍膜機(jī)的鍍膜厚度是通過控制涂層過程中沉積材料的速率來實(shí)現(xiàn)的。涂層厚度的控制是一個(gè)精密的過程,受到多種因素的影響。以下是一些影響真空鍍膜機(jī)鍍膜厚度控制的因素:1.蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的速率:蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材釋放涂層材料的速率直接影響涂層的沉積速率。通過控制這些速率,可以調(diào)整涂層的厚度。2.襯底旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng):襯底在真空腔體中的旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)可以確保涂層在整個(gè)表面上均勻沉積,影響涂層的均勻性和厚度。3.真空度:真空度的高低影響蒸發(fā)或?yàn)R射過程中氣體分子的數(shù)量,從而影響沉積速率。較高的真空度通常有助于更準(zhǔn)確地控制涂層厚度。4.溫度:物體表面的溫度可以影響涂層的附著力和晶體結(jié)構(gòu),從而影響厚度的控制。加熱蒸發(fā)...
光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種用于制備光學(xué)薄膜的設(shè)備,主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域:1.光學(xué)器件制造:光學(xué)真空鍍膜機(jī)可以用于制造各種光學(xué)器件,如反射鏡、透鏡、濾光片等。2.光學(xué)儀器制造:光學(xué)真空鍍膜機(jī)可以用于制造各種光學(xué)儀器,如顯微鏡、望遠(yuǎn)鏡、光譜儀等。3.光學(xué)通信:光學(xué)真空鍍膜機(jī)可以用于制造光學(xué)通信器件,如光纖、光學(xué)放大器等。4.光學(xué)顯示:光學(xué)真空鍍膜機(jī)可以用于制造各種光學(xué)顯示器件,如液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管等。5.光學(xué)傳感器:光學(xué)真空鍍膜機(jī)可以用于制造各種光學(xué)傳感器,如光電傳感器、光學(xué)測(cè)量?jī)x器等。總之,光學(xué)真空鍍膜機(jī)在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用非常普遍,為各種光學(xué)器件和儀器的制造提供了重要的技術(shù)支持。 磁控濺射真空...
鍍膜機(jī)是一種高科技設(shè)備,它能夠?yàn)楦鞣N材料表面進(jìn)行鍍膜處理,從而提高其耐磨性、耐腐蝕性和美觀度。我們公司的鍍膜機(jī)采用了先進(jìn)的技術(shù),具有高效、穩(wěn)定、可靠的特點(diǎn),能夠滿足各種不同行業(yè)的需求。我們的鍍膜機(jī)具有以下幾個(gè)特點(diǎn):1.高效:我們的鍍膜機(jī)采用了先進(jìn)的鍍膜技術(shù),能夠在短時(shí)間內(nèi)完成大量的鍍膜工作,提高生產(chǎn)效率。2.穩(wěn)定:我們的鍍膜機(jī)采用了高質(zhì)量的材料和零部件,經(jīng)過嚴(yán)格的質(zhì)量控制,保證了設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性。3.多功能:我們的鍍膜機(jī)可以為各種材料進(jìn)行鍍膜處理,包括金屬、塑料、陶瓷等,能夠滿足不同行業(yè)的需求。4.易操作:我們的鍍膜機(jī)采用了人性化的設(shè)計(jì),操作簡(jiǎn)單方便,即使是沒有經(jīng)驗(yàn)的人員也能夠輕松上手...
高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-800F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310。石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控控制...
真空鍍膜機(jī)是一種用于在物體表面形成薄膜涂層的設(shè)備,通常在真空環(huán)境中進(jìn)行。它主要通過將工作室內(nèi)的空氣抽取,創(chuàng)造一個(gè)真空環(huán)境,然后使用不同種類的薄膜材料,如金屬或化合物,將薄膜沉積到物體表面。以下是真空鍍膜機(jī)的基本工作原理:1.真空環(huán)境的創(chuàng)建:首先,真空鍍膜機(jī)通過使用真空泵將工作室內(nèi)的空氣抽取,創(chuàng)造一個(gè)高度真空的環(huán)境。這樣可以減少氣體分子的干擾,確保薄膜沉積的均勻性。2.薄膜材料的選擇:根據(jù)所需的涂層特性和應(yīng)用,選擇適當(dāng)?shù)谋∧げ牧稀_@些材料通常是金屬(如鋁、鉻)或化合物(如氮化硅、氧化鋅)。3.薄膜的沉積:薄膜材料可以通過兩種主要的方法進(jìn)行沉積:蒸發(fā)和濺射?!ふ舭l(fā):薄膜材料被加熱至其熔點(diǎn)以上,...
風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)是一款高科技產(chǎn)品,它采用先進(jìn)的真空鍍膜技術(shù),能夠?yàn)椴馁|(zhì)的表面進(jìn)行高效、均勻的鍍膜處理。作為我們公司的產(chǎn)品,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在風(fēng)鏡、頭盔等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。首先,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)具有高效、穩(wěn)定的鍍膜效果。它采用先進(jìn)的真空鍍膜技術(shù),能夠在短時(shí)間內(nèi)完成高質(zhì)量的鍍膜處理,而且鍍膜效果均勻、穩(wěn)定,不易出現(xiàn)色差、氣泡等問題。這一特點(diǎn)使得風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在滑雪鏡、頭盔等產(chǎn)品的生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用。其次,風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)具有高度的自動(dòng)化程度。它采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)和自動(dòng)化設(shè)備,能夠?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)化的生產(chǎn)過程,提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。這一特點(diǎn)使得風(fēng)鏡真空鍍膜機(jī)在大規(guī)模生產(chǎn)中具有明顯的優(yōu)勢(shì),能...
光學(xué)真空鍍膜機(jī)的離子源選擇需要考慮以下幾個(gè)方面:1.離子源類型:根據(jù)不同的鍍膜需求,可以選擇不同類型的離子源,如離子束源、離子阱源、離子源等。離子束源適用于大面積均勻鍍膜,離子阱源適用于高精度鍍膜,離子源適用于局部鍍膜。2.離子源能量:離子源的能量決定了離子轟擊物體表面的效果,影響著膜層的致密性、平整度和附著力等。一般來說,離子源的能量應(yīng)根據(jù)不同的材料和鍍膜要求進(jìn)行調(diào)整。3.離子源流量:離子源的流量決定了離子轟擊物體表面的強(qiáng)度和時(shí)間,影響著膜層的厚度和均勻性等。一般來說,離子源的流量應(yīng)根據(jù)不同的材料和鍍膜要求進(jìn)行調(diào)整。4.離子源位置:離子源的位置決定了離子轟擊物體表面的方向和范圍,影響著膜層的...
光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種用于在光學(xué)零件表面上鍍上一層或多層金屬或介質(zhì)薄膜的設(shè)備。這種工藝過程廣泛應(yīng)用于減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等方面,以滿足不同的需求。光學(xué)真空鍍膜機(jī)的原理是利用光的干涉原理在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。它通常采用真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,以控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過率。光學(xué)真空鍍膜機(jī)可鍍制各種膜系,如短波通、長(zhǎng)波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、介質(zhì)膜、高反膜、帶通膜、彩色反射膜等。它能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜,滿足汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)眼鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。此外,光學(xué)真空鍍膜機(jī)還配置了不同的蒸發(fā)源、電子槍、離子源及鍍膜厚...
光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種高科技的設(shè)備,它可以在真空環(huán)境下對(duì)各種材料進(jìn)行鍍膜處理,使其表面具有各種特殊的光學(xué)性能。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、通訊、航空航天等領(lǐng)域,是現(xiàn)代工業(yè)中不可或缺的一部分。我們公司的光學(xué)真空鍍膜機(jī)采用了先進(jìn)的技術(shù),具有以下特點(diǎn):1.高效率:我們的設(shè)備可以在短時(shí)間內(nèi)完成大量的鍍膜工作,提高了生產(chǎn)效率。2.高精度:我們的設(shè)備可以精確控制鍍膜的厚度和均勻性,保證了鍍膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。3.多功能:我們的設(shè)備可以進(jìn)行多種類型的鍍膜,包括金屬、非金屬、光學(xué)膜等,滿足了不同客戶的需求。4.易操作:我們的設(shè)備采用了人性化的設(shè)計(jì),操作簡(jiǎn)單方便,不需要專業(yè)技術(shù)人員即可上手操作。5.環(huán)...
多弧離子真空鍍膜機(jī)BLL-1350PVD型常規(guī)配置; 真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):最高溫度:0到200℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號(hào):12軸公轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)偏壓電源:直流脈沖電源濺射電源:直流脈沖電源電源;中頻電源弧源:多弧,平面,孿生,柱靶深冷系統(tǒng):DW-3全程自動(dòng)控制鍍膜,保障生產(chǎn)產(chǎn)品的一致性,重復(fù)性,穩(wěn)定性。 光學(xué)真空鍍...
真空鍍膜機(jī)的鍍膜厚度是通過控制涂層過程中沉積材料的速率來實(shí)現(xiàn)的。涂層厚度的控制是一個(gè)精密的過程,受到多種因素的影響。以下是一些影響真空鍍膜機(jī)鍍膜厚度控制的因素:1.蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的速率:蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材釋放涂層材料的速率直接影響涂層的沉積速率。通過控制這些速率,可以調(diào)整涂層的厚度。2.襯底旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng):襯底在真空腔體中的旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)可以確保涂層在整個(gè)表面上均勻沉積,影響涂層的均勻性和厚度。3.真空度:真空度的高低影響蒸發(fā)或?yàn)R射過程中氣體分子的數(shù)量,從而影響沉積速率。較高的真空度通常有助于更準(zhǔn)確地控制涂層厚度。4.溫度:物體表面的溫度可以影響涂層的附著力和晶體結(jié)構(gòu),從而影響厚度的控制。加熱蒸發(fā)...
高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-900F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥:APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控...
真空鍍膜機(jī)是一種用于在物體表面形成薄膜涂層的設(shè)備,通過在真空環(huán)境中對(duì)物體進(jìn)行鍍膜處理。這種技術(shù)主要應(yīng)用于改善物體的性能、外觀或其他特定的功能。以下是真空鍍膜機(jī)的一些基本原理和應(yīng)用:基本原理:1.真空環(huán)境:真空鍍膜機(jī)通過將處理室中的空氣抽取,創(chuàng)造一個(gè)真空環(huán)境。這有助于減少氣體分子的干擾,確保薄膜沉積的均勻性。2.薄膜材料:鍍膜機(jī)使用不同種類的薄膜材料,通常是金屬或化合物,例如鋁、鉻、氮化硅等,根據(jù)所需的特性和應(yīng)用。3.蒸發(fā)或?yàn)R射:薄膜材料可以通過蒸發(fā)或?yàn)R射的方式沉積到物體表面。在蒸發(fā)過程中,薄膜材料加熱至其熔點(diǎn)以上,然后蒸發(fā)并沉積在物體表面。在濺射過程中,使用電子束或離子束等方法將薄膜材料從...
BLL-1350PVD真空鍍膜機(jī)使用注意事項(xiàng)1.開機(jī)前確認(rèn)冷卻水,壓縮空氣是否正常。2.確認(rèn)中頻電源及靶材冷卻水是否正常。3.確認(rèn)工藝所使用的反應(yīng)氣體是否還充足。4.如遇緊急情況可以按下“急?!卑粹o停止所有輸出。5.畫面參數(shù)更改方式,先選中,更改后點(diǎn)擊旁邊空白處即確認(rèn)。6.進(jìn)入維修權(quán)限,在左上角工藝名稱處輸入86577718,點(diǎn)擊空白處,再點(diǎn)擊維修按鈕,3秒后維修按鈕變?yōu)榫G色,進(jìn)入維修模式(非專業(yè)人員請(qǐng)勿進(jìn)入維修模式)。7.主頁上閥門如RV,HV,MV,VV上小紅點(diǎn)為到位檢測(cè)開關(guān),紅色表示該閥門已經(jīng)關(guān)到位,綠色表示打開狀態(tài)。如遇真空動(dòng)作異常時(shí)可以先確認(rèn)閥門時(shí)候動(dòng)作到位。8.打開工藝...
手機(jī)是我們?nèi)粘I钪胁豢苫蛉钡碾娮赢a(chǎn)品,而手機(jī)的各個(gè)部件的質(zhì)量和性能直接影響著手機(jī)的使用體驗(yàn)。為了提高手機(jī)的質(zhì)量和性能,手機(jī)的各個(gè)部件需要進(jìn)行真空鍍膜處理。手機(jī)有哪些部件需要真空鍍膜呢?首先,手機(jī)的屏幕是需要進(jìn)行真空鍍膜處理的部件之一。屏幕的鍍膜可以提高屏幕的亮度和對(duì)比度,同時(shí)還可以增強(qiáng)屏幕的耐磨性和防刮性能,使得手機(jī)的屏幕更加耐用。其次,手機(jī)的攝像頭也需要進(jìn)行真空鍍膜處理。鍍膜可以提高攝像頭的透光率和抗反射性能,從而提高攝像頭的拍攝效果和清晰度,使得手機(jī)的拍照功能更加出色。另外,手機(jī)的金屬外殼也需要進(jìn)行真空鍍膜處理。鍍膜可以提高金屬外殼的耐腐蝕性和耐磨性,從而保護(hù)手機(jī)的外殼不受外...