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所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線，所述二級過濾罐的底部設(shè)有廢液出口，所述一級過濾罐和二級過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述一級過濾罐和二級過濾罐的結(jié)構(gòu)相同，均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣...

本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第二實施例，用于半導(dǎo)體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟，主要包括以下步驟:s1，在半導(dǎo)體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層；s2，旋涂光刻膠并曝光顯影，形成...

能夠增強(qiáng)親水性，使得剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基，為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實施例對本申請作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實施例對本申請進(jìn)行進(jìn)一步說明，不應(yīng)理解為對本申請的限制。表一：兩種不同組分的剝離液配方一和配...

將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應(yīng)的原料罐，備用；第三步：根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量，按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐，將上述混料充分?jǐn)嚢?，攪拌時間為3～5h；第四步：在第...

每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中，閥...

該方法包括：步驟110、將多級腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來自于當(dāng)前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當(dāng)前級腔室相應(yīng)的存儲箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)...

參考圖7)，這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會被增強(qiáng)呈現(xiàn)，傳遞到柵極成型工序時會對柵極圖形產(chǎn)生嚴(yán)重的影響，即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷，在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開或橋接，直接降低了產(chǎn)品良率。另外，在氧氣灰化階段，由于等離子氧可以穿...

若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)；取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中，所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)包括：若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器，則關(guān)...

可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑。劑對油墨沒有影響，可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法：1、原液使用，不須加水，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高，速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來回輕輕刷動，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；...

一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學(xué)蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù)：2.目前，電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜，以便后續(xù)給電子器件可控通電。該...

所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為，所述酸的濃...

所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件，所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉，所述收集倉的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門，所述過濾部件的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋，所述過濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固...

過濾器的出液管自動上行離開儲存罐，將裝滿的儲存罐從鋁蝕刻液生產(chǎn)車間移動至自動灌裝車間中，將灌裝頭的快速接頭插入儲存罐的出液口中便可將儲存罐內(nèi)的鋁蝕刻液分裝。本實用新型除上述技術(shù)方案外，還包括以下技術(shù)特征：進(jìn)一步的是，所述地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊，...

銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學(xué)品產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于平板顯示、LED制造及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。隨著新技術(shù)的不斷進(jìn)步，對該蝕刻液也有了更高的要求。并且之前市場上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進(jìn)行了無氟，無硝酸，低雙氧水濃度銅蝕...

使硝酸鉀儲罐21和其它儲罐的內(nèi)部形成一個密閉的空間，避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲罐內(nèi)，有效的提高了裝置使用的密封性；緊接著，將磷酸與醋酸在個攪拌倉23中充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆?，然后在第二個攪拌倉23中與硝酸充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆蚝螅龠M(jìn)入配料罐中混合，將陰離子表面活性...

能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定，例如，可以舉出在設(shè)為10～80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1～60分鐘左右的條件、將設(shè)為10～80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1～60分鐘左右的條件。需要說明的是，浸漬時，可以搖動基材，或?qū)Ρ?..

裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲罐21，裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11，裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件9，裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉8，收集倉8的...

所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線，所述二級過濾罐的底部設(shè)有廢液出口，所述一級過濾罐和二級過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述一級過濾罐和二級過濾罐的結(jié)構(gòu)相同，均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣...

根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2020-2024年中國剝離液行業(yè)市場供需現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢預(yù)測報告》顯示，剝離液屬于濕電子化學(xué)品的重要品類，近幾年受新能源、汽車電子等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，我國濕電子化學(xué)品市場規(guī)模持續(xù)擴(kuò)增，2019年我國濕電子化學(xué)品市場規(guī)模達(dá)...

本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)：：印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中，伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而，以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題，而避免其使用...

本申請涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種剝離液機(jī)臺及其工作方法。背景技術(shù)：剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減，lift-off先形成光阻并圖案化，再在光阻上成膜，移除光阻的同時，沉積...

通過滑動蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑動，將過濾板26插入過濾部件9內(nèi)部兩側(cè)的固定槽內(nèi)，收縮彈簧管25設(shè)置有四處，分別設(shè)置在兩滑動蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面，再通過收縮彈簧管25的彈力將滑動蓋24向內(nèi)活動，使過濾部件9內(nèi)部空間進(jìn)行密封，...

上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)形態(tài)的分子量之后乘以。以下，通過實施例更加詳細(xì)地說明本發(fā)明。但是，以下的實施例用于更加具體地說明本發(fā)明，...

本技術(shù)通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)上述目的：一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架，所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī)，所述伺服變頻電機(jī)上方設(shè)...

圖7：本實用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實施例的擋液板結(jié)構(gòu)運作局部放大圖。圖8：本實用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖9：本實用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10：本實用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實施例的擋液板...

光刻膠又稱光致抗蝕劑，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版...

本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)：：印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中，伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而，以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題，而避免其使用...

本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)：：印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中，伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而，以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題，而避免其使用...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過硫酸銨體系...

內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部，工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實時查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實時性。推薦的，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進(jìn)行制備時需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)...